真空蒸(zheng)鍍是將裝有基片的真空室抽成真空，然后(hou)加熱被(bei)蒸(zheng)發的鍍料(liao)，使其(qi)原子(zi)或分子(zi)從表(biao)面氣化逸出(chu)，形成蒸(zheng)氣流，入射到基片表(biao)面，凝結形成固體薄膜(mo)的技術。

　　根(gen)據(ju)蒸(zheng)發(fa)(fa)(fa)源的不同可以將(jiang)真空蒸(zheng)鍍(du)分為電阻加熱(re)蒸(zheng)發(fa)(fa)(fa)源、電子束(shu)蒸(zheng)發(fa)(fa)(fa)源、高頻感(gan)應蒸(zheng)發(fa)(fa)(fa)源及激光束(shu)蒸(zheng)發(fa)(fa)(fa)源蒸(zheng)鍍(du)法。

　　1、電阻蒸發(fa)源是用(yong)低(di)電壓大電流加熱(re)燈絲和蒸發(fa)舟，利(li)用(yong)電流的焦耳熱(re)是鍍(du)料熔化、蒸發(fa)或升(sheng)華。這種方式結構(gou)簡單，造價低(di)廉，使用(yong)相當普遍。采用(yong)真空蒸鍍(du)法在純棉(mian)織物表面(mian)制備負載(zai)TiO2織物，紫(zi)外線(xian)透過率都比未負載(zai)的純棉(mian)織物的低(di)，具有好的抗紫(zi)外線(xian)性能，制備TiO2薄(bo)膜(mo)時，膜(mo)層較均勻，當在玻璃表面(mian)蒸鍍(du)一層鉻鈦(tai)、鎳鈦(tai)合金(jin)等裝(zhuang)飾薄(bo)膜(mo)，裝(zhuang)飾效(xiao)果，光學、耐(nai)磨、耐(nai)蝕性能良(liang)好。

　　2、電子束蒸發源利用燈絲發射的熱電子，經加(jia)速陽(yang)極加(jia)速，獲(huo)得動能轟擊處于(yu)陽(yang)極的蒸發材料(liao)，是蒸發材料(liao)加(jia)熱氣化(hua)，實現(xian)蒸發鍍(du)膜(mo)。這種技術相(xiang)對(dui)于(yu)蒸發鍍(du)膜(mo)，可(ke)以制(zhi)作高(gao)熔點和高(gao)純的薄(bo)膜(mo)，是高(gao)真(zhen)空(kong)鍍(du)鈦膜(mo)技術中是一種新穎(ying)的蒸鍍(du)材料(liao)的熱源。

　　3、高(gao)頻(pin)感應蒸(zheng)(zheng)發源(yuan)是利用蒸(zheng)(zheng)發材料在(zai)高(gao)頻(pin)電磁場的感應下產生強(qiang)大的渦流損失(shi)和(he)磁滯損失(shi)，從而將(jiang)鍍料金屬蒸(zheng)(zheng)發的蒸(zheng)(zheng)鍍技術(shu)。這種技術(shu)比(bi)電子束(shu)蒸(zheng)(zheng)發源(yuan)蒸(zheng)(zheng)發速(su)率更(geng)大，且蒸(zheng)(zheng)發源(yuan)的溫(wen)度(du)均勻穩定。

　　4、激光束蒸發(fa)源蒸鍍技(ji)術是一種比較理想的(de)薄膜(mo)(mo)制(zhi)備(bei)方法，利用激光器(qi)(qi)發(fa)出高能量的(de)激光束，經聚(ju)焦(jiao)照射到鍍料(liao)上，使之受熱(re)氣化。激光器(qi)(qi)可(ke)(ke)置(zhi)于真空室外，避免了蒸發(fa)器(qi)(qi)對(dui)鍍材(cai)的(de)污染(ran)，使膜(mo)(mo)層更純潔。同時聚(ju)焦(jiao)后的(de)激光束功率很高，可(ke)(ke)使鍍料(liao)達到極高的(de)溫度，從(cong)而(er)蒸發(fa)任何(he)高熔點的(de)材(cai)料(liao)，甚至可(ke)(ke)以使某些合(he)(he)金和化合(he)(he)物瞬時蒸發(fa)，從(cong)而(er)獲得成分均勻(yun)的(de)薄膜(mo)(mo)。

　　真空蒸(zheng)鍍(du)法(fa)具有設(she)備簡單，節約金(jin)屬原(yuan)材(cai)料(liao)，沉積(ji)Ti金(jin)屬及其氧化物、合金(jin)鍍(du)層等(deng)，表面(mian)附著均勻(yun)，生(sheng)產周(zhou)期短(duan)，對(dui)環(huan)境友(you)好，可大(da)規模生(sheng)產等(deng)突出優(you)點。