一原理的區別：

1.光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，鍍膜，以滿足不同的需(xu)要。為(wei)了消除光學零件表面的反(fan)射(she)損失，提高成像質量，涂鍍一層或(huo)多層透明介質膜，稱為(wei)增透膜或(huo)減反(fan)射(she)膜。

2.隨著激光技術的發展，對膜層的反射率和透過率有不同的要求，促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發展。為各種應用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等。光學零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。

二方法和材料的區別

(1)真空蒸鍍：將需鍍膜(mo)的基體(ti)清洗后放到(dao)(dao)鍍膜(mo)室，抽空后將膜(mo)料(liao)加熱到(dao)(dao)高溫，使蒸氣達到(dao)(dao)約(yue)13.3Pa而(er)(er)使蒸氣分子(zi)飛到(dao)(dao)基體(ti)表面(mian)，凝結(jie)而(er)(er)成(cheng)薄膜(mo)。

(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，真空鍍膜廠，膜(mo)把惰(duo)(duo)性(xing)(xing)氣體(如氬)通入已抽空的(de)室內，保持壓強約(yue)1.33～13.3Pa，然后將陰極接(jie)上2000V的(de)直流電源，便激(ji)發輝光放電，帶(dai)正(zheng)電的(de)氬離(li)子撞擊陰極，使(shi)其射出(chu)原(yuan)子，濺(jian)射出(chu)的(de)原(yuan)子通過惰(duo)(duo)性(xing)(xing)氣氛沉積到基體上形(xing)成膜(mo)。

(3)化學氣相(xiang)沉積：通過熱分(fen)解(jie)所選定的金屬化合物或(huo)有機化合物，獲得(de)沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍(du)：實質上(shang)離子鍍(du)系真空蒸鍍(du)和陰極(ji)濺射鍍(du)的有機結合，兼有兩者的工(gong)藝特點。表6-9列出了各種(zhong)鍍(du)膜方法的優缺點。

三概念的區別

光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。昆山真空鍍膜，真(zhen)在(zai)光學零件表(biao)面鍍膜(mo)(mo)的目的是為了達到(dao)減少或增加光的反射、分(fen)束、分(fen)色、濾(lv)光、偏振等要求。常(chang)用的鍍膜(mo)(mo)法有真(zhen)空(kong)鍍膜(mo)(mo)(物(wu)理鍍膜(mo)(mo)的一(yi)種)和化學鍍膜(mo)(mo)。