真空鍍膜技術通(tong)常應用在哪些(xie)領域(yu)？

1、在(zai)裝飾品方面(mian)

隨(sui)著經(jing)濟的發展和(he)生活水平的提(ti)高，人(ren)們喜歡將手表殼、表帶、服飾(shi)、燈飾(shi)、眼鏡架、室(shi)內外裝飾(shi)件、五(wu)金箱包、手機殼、手機視屏、衛生潔具、食品包裝等裝飾(shi)品精飾(shi)得五(wu)彩繽紛(fen)。

2、在刀具、模具等金屬切削加(jia)工工具方面

在生活中，我們(men)會(hui)看到金黃(huang)色的(de)(de)、鈷銅(tong)色的(de)(de)、黑色的(de)(de)等七雜八色的(de)(de)鉆頭、銑刀、模(mo)具等，這(zhe)些就是經(jing)過鍍膜技術加工后的(de)(de)涂層工具。

（1）金(jin)黃色(se)的(de)，是(shi)在刀(dao)具上(shang)涂鍍了TiN、ZrN涂層(ceng)，TiN是(shi)第(di)一代應用廣(guang)泛(fan)的(de)硬質(zhi)層(ceng)材料。

（2）黑色的，是在切削工具上涂(tu)了TiC、CrN涂(tu)層。

（3）鈷銅色的，是在刀具上鍍涂了TiALN涂層。

3、在建筑玻(bo)璃和汽車玻(bo)璃上

建筑玻(bo)(bo)璃(li)(li)有(you)透光和隔熱兩個基本功能(neng)(neng)(neng)(neng)。普(pu)通(tong)玻(bo)(bo)璃(li)(li)能(neng)(neng)(neng)(neng)透過(guo)絕大部分(fen)太(tai)陽(yang)(yang)光輻射能(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)，這(zhe)對(dui)采光和吸(xi)收(shou)太(tai)陽(yang)(yang)光線的(de)能(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)十分(fen)有(you)利。而(er)對(dui)于(yu)空間紅外(wai)輻射，普(pu)通(tong)玻(bo)(bo)璃(li)(li)雖能(neng)(neng)(neng)(neng)阻止室內的(de)熱量(liang)(liang)直接(jie)透過(guo)室外(wai)，但熱量(liang)(liang)被玻(bo)(bo)璃(li)(li)吸(xi)收(shou)后的(de)二次(ci)散熱也(ye)會造成(cheng)很大的(de)損失。隨著經濟(ji)的(de)發展(zhan)，普(pu)通(tong)玻(bo)(bo)璃(li)(li)已越來越不(bu)能(neng)(neng)(neng)(neng)滿(man)(man)足(zu)(zu)人(ren)們(men)的(de)要求(qiu)，而(er)陽(yang)(yang)光控制膜(mo)(mo)(mo)和低輻射膜(mo)(mo)(mo)正好(hao)能(neng)(neng)(neng)(neng)彌補了普(pu)通(tong)玻(bo)(bo)璃(li)(li)在(zai)這(zhe)一方面的(de)不(bu)足(zu)(zu)。陽(yang)(yang)光控制膜(mo)(mo)(mo)可以滿(man)(man)足(zu)(zu)低緯(wei)度地區降低室內溫度的(de)要求(qiu)；而(er)低輻射膜(mo)(mo)(mo)則(ze)能(neng)(neng)(neng)(neng)滿(man)(man)足(zu)(zu)高緯(wei)度地區充(chong)分(fen)接(jie)受太(tai)陽(yang)(yang)輻射能(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)和最大限度阻止室內熱量(liang)(liang)外(wai)流的(de)要求(qiu)。在(zai)玻(bo)(bo)璃(li)(li)上，鍍(du)涂(tu)一層TiO2就能(neng)(neng)(neng)(neng)使其變(bian)成(cheng)防(fang)霧、防(fang)露和自清潔玻(bo)(bo)璃(li)(li)，這(zhe)種(zhong)工藝(yi)在(zai)汽車玻(bo)(bo)璃(li)(li)上有(you)很好(hao)的(de)應用。

4、在平板顯示(shi)器中

所有(you)(you)各(ge)類(lei)平板(ban)顯(xian)示(shi)(shi)(shi)器都(dou)要(yao)用到各(ge)種類(lei)型(xing)的薄膜(mo)，而(er)且，幾乎所有(you)(you)類(lei)型(xing)的平板(ban)顯(xian)示(shi)(shi)(shi)器件(jian)都(dou)需要(yao)使用ITO膜(mo)，以(yi)滿足透明電器的要(yao)求。可(ke)以(yi)毫不夸張的說，沒有(you)(you)薄膜(mo)技術，就沒有(you)(you)平板(ban)顯(xian)示(shi)(shi)(shi)器件(jian)。

5、在太陽能利用方面

當需要(yao)有(you)(you)效地(di)利用(yong)太(tai)陽熱(re)能(neng)時(shi)，就(jiu)要(yao)考慮(lv)采用(yong)對太(tai)陽光(guang)線吸(xi)收(shou)(shou)較多、而對熱(re)輻(fu)(fu)(fu)射等所引起的(de)(de)損耗較小的(de)(de)吸(xi)收(shou)(shou)面。太(tai)陽光(guang)譜的(de)(de)峰值大(da)約在(zai)波(bo)(bo)(bo)(bo)長為(wei)2-20μm之間的(de)(de)紅外波(bo)(bo)(bo)(bo)段(duan)。由于太(tai)陽輻(fu)(fu)(fu)射與熱(re)輻(fu)(fu)(fu)射光(guang)譜在(zai)波(bo)(bo)(bo)(bo)段(duan)上(shang)有(you)(you)差異，因(yin)此，為(wei)了(le)有(you)(you)效地(di)利用(yong)太(tai)陽熱(re)能(neng)，就(jiu)必須考慮(lv)采用(yong)具有(you)(you)波(bo)(bo)(bo)(bo)長選(xuan)(xuan)擇特性(xing)的(de)(de)吸(xi)收(shou)(shou)面。理想的(de)(de)選(xuan)(xuan)擇吸(xi)收(shou)(shou)面，是太(tai)陽輻(fu)(fu)(fu)射光(guang)譜的(de)(de)波(bo)(bo)(bo)(bo)段(duan)（可見光(guang)波(bo)(bo)(bo)(bo)段(duan)）吸(xi)收(shou)(shou)率(lv)（α）為(wei)1，在(zai)熱(re)輻(fu)(fu)(fu)射波(bo)(bo)(bo)(bo)段(duan)（紅外波(bo)(bo)(bo)(bo)段(duan)）輻(fu)(fu)(fu)射率(lv)（ε）為(wei)0。

6、在防偽(wei)技(ji)術中

防偽膜(mo)(mo)(mo)種類很(hen)多，從使(shi)用方法可分為反射式(shi)和(he)透射式(shi)；從膜(mo)(mo)(mo)系(xi)附著方式(shi)可以分為直接(jie)鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)式(shi)、間接(jie)鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)式(shi)或間接(jie)鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)剪貼式(shi)。

7、在飛機防護(hu)涂層方面

飛(fei)機的(de)鈦(tai)合(he)金緊(jin)固件(jian)(jian)，原(yuan)來采(cai)用電鍍(du)方法鍍(du)鎘(ge)。但在鍍(du)鎘(ge)中含有(you)氫，所以(yi)在飛(fei)行過程中，受到大氣(qi)、海水的(de)腐蝕，鍍(du)層上容易產生“鎘(ge)脆”，甚至引起“空難”。1964年，采(cai)用離子(zi)鍍(du)方法在鈦(tai)合(he)金緊(jin)固件(jian)(jian)上鍍(du)鋁，解決了飛(fei)機零件(jian)(jian)的(de)“鎘(ge)脆”問題(ti)。在離子(zi)鍍(du)技術中，由(you)于給(gei)工(gong)件(jian)(jian)施(shi)加負偏壓，可以(yi)形成“偽擴散層”、細化膜層組織，因此，可以(yi)顯著(zhu)提高(gao)膜層的(de)耐腐蝕性(xing)能。

8、在光學儀器中

人們熟悉的光學儀器(qi)有(you)望(wang)遠鏡、顯微(wei)鏡、照相機(ji)、測距儀，以及(ji)日常生活用品(pin)中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不(bu)開鍍膜(mo)技術，鍍制的薄膜(mo)有(you)反射膜(mo)、增透膜(mo)和吸收膜(mo)等幾種。

9、在信(xin)息存(cun)儲領域(yu)中

薄(bo)膜材料作(zuo)為信(xin)(xin)息記錄(lu)于(yu)存儲介質，有其得(de)天(tian)獨厚的(de)優勢(shi)：由于(yu)薄(bo)膜很薄(bo)，可以忽略渦流損耗；磁化反轉極為迅速；與(yu)膜面平(ping)行的(de)雙穩態狀態容易保持等。為了更精密地記錄(lu)與(yu)存儲信(xin)(xin)息，必(bi)然要(yao)采用鍍膜技術(shu)。

10、在傳感器(qi)方面

在傳(chuan)感器中，多(duo)(duo)采用那些電(dian)氣(qi)性(xing)質相(xiang)對于物理量、化(hua)(hua)學(xue)量及其變(bian)化(hua)(hua)來說，極為敏(min)感的(de)半導(dao)體(ti)材料。此(ci)外(wai)，其中，大(da)多(duo)(duo)數(shu)利(li)用的(de)是半導(dao)體(ti)的(de)表(biao)面、界面的(de)性(xing)質，需要(yao)盡量增大(da)其面積，且(qie)能工(gong)業化(hua)(hua)、低價(jia)格制作，因此(ci)，采用薄(bo)膜(mo)的(de)情(qing)況很多(duo)(duo)。

11、在(zai)集(ji)成(cheng)電路制造中

晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極(ji)管線（多(duo)晶硅(gui)、鋁(lv)、銅及(ji)其合金）等，多(duo)是采(cai)用CVD技(ji)(ji)術(shu)、PVCD技(ji)(ji)術(shu)、真空蒸發金屬技(ji)(ji)術(shu)、磁(ci)控濺(jian)射(she)技(ji)(ji)術(shu)和射(she)頻濺(jian)射(she)技(ji)(ji)術(shu)。可見，氣相沉(chen)積是制備集成(cheng)電路的核心(xin)技(ji)(ji)術(shu)之一(yi)。