真空鍍膜技(ji)術通(tong)常應用在(zai)哪些領(ling)域(yu)？

1、在裝(zhuang)飾品方(fang)面(mian)

隨(sui)著經濟的(de)發展和生活(huo)水平的(de)提高，人們喜歡將(jiang)手表(biao)(biao)殼、表(biao)(biao)帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內外裝(zhuang)飾件、五金箱包(bao)、手機殼、手機視屏、衛生潔具、食品包(bao)裝(zhuang)等裝(zhuang)飾品精(jing)飾得五彩(cai)繽紛(fen)。

2、在(zai)刀具、模具等金屬切削加工工具方面(mian)

在生活中，我(wo)們會看到金(jin)黃色的、鈷(gu)銅(tong)色的、黑色的等七雜八(ba)色的鉆頭、銑刀、模具(ju)等，這些(xie)就是經過(guo)鍍(du)膜技(ji)術加(jia)工(gong)后的涂(tu)層工(gong)具(ju)。

（1）金黃色的，是在刀具上涂鍍了(le)TiN、ZrN涂層(ceng)(ceng)，TiN是第一代(dai)應用(yong)廣(guang)泛的硬(ying)質層(ceng)(ceng)材料。

（2）黑色(se)的，是在切削工具上涂(tu)了TiC、CrN涂(tu)層。

（3）鈷(gu)銅色(se)的，是在(zai)刀具(ju)上鍍涂(tu)了TiALN涂(tu)層。

3、在建筑玻璃和汽車玻璃上

建筑(zhu)玻(bo)璃(li)有(you)透光(guang)(guang)和(he)隔(ge)熱(re)兩個基本功能(neng)(neng)(neng)(neng)。普通(tong)玻(bo)璃(li)能(neng)(neng)(neng)(neng)透過絕大部分太(tai)陽(yang)光(guang)(guang)輻(fu)(fu)(fu)射(she)能(neng)(neng)(neng)(neng)量，這對采(cai)光(guang)(guang)和(he)吸收(shou)太(tai)陽(yang)光(guang)(guang)線的(de)(de)(de)能(neng)(neng)(neng)(neng)量十分有(you)利。而(er)對于空(kong)間紅(hong)外輻(fu)(fu)(fu)射(she)，普通(tong)玻(bo)璃(li)雖能(neng)(neng)(neng)(neng)阻止(zhi)室(shi)內(nei)的(de)(de)(de)熱(re)量直接(jie)(jie)透過室(shi)外，但熱(re)量被(bei)玻(bo)璃(li)吸收(shou)后的(de)(de)(de)二次散熱(re)也會造成(cheng)很(hen)大的(de)(de)(de)損(sun)失。隨著經濟的(de)(de)(de)發展(zhan)，普通(tong)玻(bo)璃(li)已越來越不(bu)能(neng)(neng)(neng)(neng)滿足人們的(de)(de)(de)要(yao)求，而(er)陽(yang)光(guang)(guang)控制膜和(he)低輻(fu)(fu)(fu)射(she)膜正(zheng)好能(neng)(neng)(neng)(neng)彌補了普通(tong)玻(bo)璃(li)在這一方面(mian)的(de)(de)(de)不(bu)足。陽(yang)光(guang)(guang)控制膜可以滿足低緯度(du)(du)地區(qu)降低室(shi)內(nei)溫度(du)(du)的(de)(de)(de)要(yao)求；而(er)低輻(fu)(fu)(fu)射(she)膜則能(neng)(neng)(neng)(neng)滿足高緯度(du)(du)地區(qu)充分接(jie)(jie)受太(tai)陽(yang)輻(fu)(fu)(fu)射(she)能(neng)(neng)(neng)(neng)量和(he)最大限度(du)(du)阻止(zhi)室(shi)內(nei)熱(re)量外流的(de)(de)(de)要(yao)求。在玻(bo)璃(li)上，鍍涂一層TiO2就能(neng)(neng)(neng)(neng)使其變(bian)成(cheng)防霧、防露和(he)自清潔玻(bo)璃(li)，這種工藝在汽(qi)車玻(bo)璃(li)上有(you)很(hen)好的(de)(de)(de)應用。

4、在平板顯示器中

所有各類(lei)平(ping)板顯示(shi)器都要(yao)用到各種類(lei)型的(de)薄膜(mo)，而且，幾乎所有類(lei)型的(de)平(ping)板顯示(shi)器件都需要(yao)使(shi)用ITO膜(mo)，以滿足透明電器的(de)要(yao)求(qiu)。可以毫不夸張的(de)說(shuo)，沒有薄膜(mo)技術，就沒有平(ping)板顯示(shi)器件。

5、在太陽(yang)能利用方面(mian)

當(dang)需要有效(xiao)地利(li)(li)用(yong)太陽(yang)(yang)熱(re)能時，就(jiu)(jiu)要考慮(lv)采用(yong)對太陽(yang)(yang)光(guang)(guang)線吸(xi)收較多、而對熱(re)輻射等(deng)所引起(qi)的損(sun)耗較小的吸(xi)收面(mian)。太陽(yang)(yang)光(guang)(guang)譜(pu)的峰值大約在波(bo)(bo)(bo)長(chang)為2-20μm之(zhi)間的紅外(wai)波(bo)(bo)(bo)段。由于太陽(yang)(yang)輻射與熱(re)輻射光(guang)(guang)譜(pu)在波(bo)(bo)(bo)段上有差異，因(yin)此，為了有效(xiao)地利(li)(li)用(yong)太陽(yang)(yang)熱(re)能，就(jiu)(jiu)必須考慮(lv)采用(yong)具有波(bo)(bo)(bo)長(chang)選擇特(te)性的吸(xi)收面(mian)。理想的選擇吸(xi)收面(mian)，是太陽(yang)(yang)輻射光(guang)(guang)譜(pu)的波(bo)(bo)(bo)段（可見(jian)光(guang)(guang)波(bo)(bo)(bo)段）吸(xi)收率（α）為1，在熱(re)輻射波(bo)(bo)(bo)段（紅外(wai)波(bo)(bo)(bo)段）輻射率（ε）為0。

6、在防偽技術中

防偽膜(mo)種類很(hen)多(duo)，從使用方法可分(fen)(fen)為(wei)反射式(shi)(shi)和透射式(shi)(shi)；從膜(mo)系附著方式(shi)(shi)可以(yi)分(fen)(fen)為(wei)直接鍍膜(mo)式(shi)(shi)、間(jian)接鍍膜(mo)式(shi)(shi)或間(jian)接鍍膜(mo)剪貼(tie)式(shi)(shi)。

7、在飛機防(fang)護涂(tu)層(ceng)方面

飛機(ji)的鈦合(he)金(jin)(jin)緊(jin)固件，原來采用(yong)(yong)電鍍(du)(du)(du)(du)方(fang)法鍍(du)(du)(du)(du)鎘。但在鍍(du)(du)(du)(du)鎘中含(han)有氫，所以(yi)在飛行過程中，受(shou)到大氣(qi)、海水(shui)的腐(fu)蝕，鍍(du)(du)(du)(du)層上容易(yi)產生(sheng)“鎘脆”，甚至引起(qi)“空難”。1964年，采用(yong)(yong)離(li)子(zi)鍍(du)(du)(du)(du)方(fang)法在鈦合(he)金(jin)(jin)緊(jin)固件上鍍(du)(du)(du)(du)鋁，解決了(le)飛機(ji)零件的“鎘脆”問(wen)題(ti)。在離(li)子(zi)鍍(du)(du)(du)(du)技(ji)術中，由于(yu)給工件施加(jia)負偏(pian)壓，可以(yi)形成(cheng)“偽(wei)擴散層”、細(xi)化膜層組(zu)織，因此(ci)，可以(yi)顯著提高膜層的耐(nai)腐(fu)蝕性(xing)能(neng)。

8、在(zai)光學(xue)儀器中

人們熟悉的光學儀器有望遠鏡(jing)、顯微鏡(jing)、照相(xiang)機、測(ce)距儀，以及日常生活用品中的鏡(jing)子、眼鏡(jing)、放大鏡(jing)等，它們都離不開鍍膜技術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收(shou)膜等幾種。

9、在信息存儲領域中

薄膜(mo)材料作為信(xin)息(xi)(xi)記(ji)(ji)錄于存(cun)儲(chu)介(jie)質(zhi)，有(you)其得天獨厚(hou)的(de)優勢(shi)：由于薄膜(mo)很薄，可以忽略渦(wo)流損耗；磁化反轉(zhuan)極為迅速；與膜(mo)面平行的(de)雙(shuang)穩態(tai)狀態(tai)容易保持等。為了更(geng)精密地記(ji)(ji)錄與存(cun)儲(chu)信(xin)息(xi)(xi)，必然要采用鍍膜(mo)技術。

10、在傳感器(qi)方面

在(zai)傳感(gan)器中，多采用(yong)那(nei)些(xie)電氣性質(zhi)相對于物理量、化(hua)學量及其(qi)變化(hua)來說(shuo)，極為(wei)敏(min)感(gan)的(de)(de)半導體(ti)材(cai)料。此外(wai)，其(qi)中，大(da)多數利用(yong)的(de)(de)是半導體(ti)的(de)(de)表面(mian)、界面(mian)的(de)(de)性質(zhi)，需要盡量增大(da)其(qi)面(mian)積，且能工業化(hua)、低價格制作，因(yin)此，采用(yong)薄膜的(de)(de)情(qing)況很多。

11、在集成電路制造中(zhong)

晶體管路中(zhong)的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多(duo)晶硅、鋁(lv)、銅及其合(he)金）等(deng)，多(duo)是采用CVD技(ji)(ji)(ji)術(shu)、PVCD技(ji)(ji)(ji)術(shu)、真空蒸發金屬技(ji)(ji)(ji)術(shu)、磁控濺(jian)射技(ji)(ji)(ji)術(shu)和射頻濺(jian)射技(ji)(ji)(ji)術(shu)。可見，氣(qi)相(xiang)沉積是制備集成(cheng)電路的核(he)心技(ji)(ji)(ji)術(shu)之(zhi)一。