真空鍍膜技術通常應用在哪(na)些領域(yu)？

1、在裝飾品方面

隨著經濟的發展(zhan)和生活水平(ping)的提高(gao)，人們喜歡將手(shou)表(biao)殼、表(biao)帶、服飾、燈飾、眼鏡架(jia)、室內外(wai)裝(zhuang)飾件、五金(jin)箱(xiang)包(bao)、手(shou)機(ji)(ji)殼、手(shou)機(ji)(ji)視屏、衛生潔(jie)具、食品包(bao)裝(zhuang)等裝(zhuang)飾品精飾得五彩(cai)繽紛。

2、在刀具(ju)(ju)(ju)、模(mo)具(ju)(ju)(ju)等金屬切(qie)削加(jia)工工具(ju)(ju)(ju)方面

在生活中，我們會看到金黃(huang)色的(de)、鈷(gu)銅色的(de)、黑(hei)色的(de)等七(qi)雜八色的(de)鉆頭、銑(xian)刀、模具等，這(zhe)些就(jiu)是經過鍍膜技(ji)術(shu)加工(gong)(gong)后的(de)涂層(ceng)工(gong)(gong)具。

（1）金黃色的(de)，是在(zai)刀具上(shang)涂鍍了(le)TiN、ZrN涂層(ceng)，TiN是第一代(dai)應用廣泛的(de)硬質層(ceng)材(cai)料。

（2）黑色(se)的，是在切削工具上涂(tu)了TiC、CrN涂(tu)層。

（3）鈷銅色(se)的，是(shi)在刀具上鍍涂(tu)(tu)了TiALN涂(tu)(tu)層。

3、在建筑玻(bo)璃(li)和汽車玻(bo)璃(li)上

建筑(zhu)玻(bo)(bo)璃(li)(li)有(you)(you)透(tou)光和(he)(he)隔(ge)熱(re)兩個基(ji)本(ben)功能(neng)。普通(tong)玻(bo)(bo)璃(li)(li)能(neng)透(tou)過絕大部分(fen)太(tai)陽(yang)(yang)光輻射(she)能(neng)量(liang)，這對采光和(he)(he)吸收太(tai)陽(yang)(yang)光線的(de)(de)(de)能(neng)量(liang)十(shi)分(fen)有(you)(you)利。而對于空(kong)間紅外輻射(she)，普通(tong)玻(bo)(bo)璃(li)(li)雖(sui)能(neng)阻止室內的(de)(de)(de)熱(re)量(liang)直接(jie)透(tou)過室外，但熱(re)量(liang)被玻(bo)(bo)璃(li)(li)吸收后的(de)(de)(de)二次散熱(re)也會(hui)造成很大的(de)(de)(de)損失。隨著經濟的(de)(de)(de)發(fa)展，普通(tong)玻(bo)(bo)璃(li)(li)已越(yue)來(lai)越(yue)不能(neng)滿足人們的(de)(de)(de)要求，而陽(yang)(yang)光控制膜(mo)(mo)和(he)(he)低輻射(she)膜(mo)(mo)正好(hao)能(neng)彌補了普通(tong)玻(bo)(bo)璃(li)(li)在這一方面的(de)(de)(de)不足。陽(yang)(yang)光控制膜(mo)(mo)可以滿足低緯(wei)度(du)(du)地區(qu)降(jiang)低室內溫度(du)(du)的(de)(de)(de)要求；而低輻射(she)膜(mo)(mo)則能(neng)滿足高緯(wei)度(du)(du)地區(qu)充分(fen)接(jie)受太(tai)陽(yang)(yang)輻射(she)能(neng)量(liang)和(he)(he)最大限度(du)(du)阻止室內熱(re)量(liang)外流的(de)(de)(de)要求。在玻(bo)(bo)璃(li)(li)上(shang)，鍍(du)涂一層TiO2就能(neng)使其(qi)變成防(fang)霧、防(fang)露和(he)(he)自清(qing)潔玻(bo)(bo)璃(li)(li)，這種工藝在汽車(che)玻(bo)(bo)璃(li)(li)上(shang)有(you)(you)很好(hao)的(de)(de)(de)應(ying)用。

4、在(zai)平板顯示器(qi)中

所(suo)有各類平(ping)板顯示(shi)器都要(yao)用到各種類型的(de)薄(bo)(bo)膜，而且(qie)，幾乎所(suo)有類型的(de)平(ping)板顯示(shi)器件都需要(yao)使用ITO膜，以滿足(zu)透明電器的(de)要(yao)求。可以毫(hao)不夸張(zhang)的(de)說，沒有薄(bo)(bo)膜技術，就(jiu)沒有平(ping)板顯示(shi)器件。

5、在太(tai)陽能(neng)利用方面(mian)

當需要有(you)(you)效(xiao)地利(li)用太(tai)(tai)陽(yang)熱能時(shi)，就要考(kao)(kao)慮采(cai)用對太(tai)(tai)陽(yang)光(guang)(guang)線吸(xi)(xi)收(shou)較(jiao)多、而(er)對熱輻(fu)(fu)射(she)等所引(yin)起的(de)損耗較(jiao)小的(de)吸(xi)(xi)收(shou)面。太(tai)(tai)陽(yang)光(guang)(guang)譜的(de)峰值大約(yue)在(zai)波(bo)長為(wei)2-20μm之間的(de)紅外(wai)波(bo)段(duan)(duan)。由(you)于太(tai)(tai)陽(yang)輻(fu)(fu)射(she)與熱輻(fu)(fu)射(she)光(guang)(guang)譜在(zai)波(bo)段(duan)(duan)上有(you)(you)差(cha)異，因此(ci)，為(wei)了有(you)(you)效(xiao)地利(li)用太(tai)(tai)陽(yang)熱能，就必須(xu)考(kao)(kao)慮采(cai)用具有(you)(you)波(bo)長選擇特性的(de)吸(xi)(xi)收(shou)面。理想(xiang)的(de)選擇吸(xi)(xi)收(shou)面，是(shi)太(tai)(tai)陽(yang)輻(fu)(fu)射(she)光(guang)(guang)譜的(de)波(bo)段(duan)(duan)（可見(jian)光(guang)(guang)波(bo)段(duan)(duan)）吸(xi)(xi)收(shou)率（α）為(wei)1，在(zai)熱輻(fu)(fu)射(she)波(bo)段(duan)(duan)（紅外(wai)波(bo)段(duan)(duan)）輻(fu)(fu)射(she)率（ε）為(wei)0。

6、在防偽(wei)技術中

防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射(she)式(shi)和透射(she)式(shi)；從膜系附著方式(shi)可以(yi)分為直接(jie)(jie)鍍膜式(shi)、間接(jie)(jie)鍍膜式(shi)或間接(jie)(jie)鍍膜剪貼式(shi)。

7、在飛(fei)機防(fang)護涂層方(fang)面

飛機(ji)的(de)鈦(tai)合金(jin)(jin)緊固件，原來采(cai)用電鍍(du)(du)方(fang)法(fa)(fa)鍍(du)(du)鎘(ge)。但在鍍(du)(du)鎘(ge)中(zhong)含有氫(qing)，所以(yi)在飛行(xing)過程(cheng)中(zhong)，受到大氣、海水的(de)腐蝕(shi)(shi)，鍍(du)(du)層上容易產生(sheng)“鎘(ge)脆”，甚至引起“空難(nan)”。1964年(nian)，采(cai)用離子鍍(du)(du)方(fang)法(fa)(fa)在鈦(tai)合金(jin)(jin)緊固件上鍍(du)(du)鋁，解決了飛機(ji)零件的(de)“鎘(ge)脆”問題。在離子鍍(du)(du)技術中(zhong)，由于給工件施加(jia)負偏壓，可(ke)以(yi)形(xing)成“偽擴散層”、細(xi)化膜(mo)層組織，因此，可(ke)以(yi)顯著提高膜(mo)層的(de)耐腐蝕(shi)(shi)性能。

8、在光學(xue)儀器中

人們熟(shu)悉的(de)光學儀器有望遠(yuan)鏡(jing)、顯微鏡(jing)、照相機、測距(ju)儀，以及日常生活用品中的(de)鏡(jing)子(zi)、眼鏡(jing)、放大鏡(jing)等，它們都離不開(kai)鍍膜技術，鍍制的(de)薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾(ji)種。

9、在信息存儲領域(yu)中

薄膜(mo)材料作為(wei)信(xin)息記(ji)錄(lu)于存儲介質，有其(qi)得天獨(du)厚(hou)的(de)優勢(shi)：由(you)于薄膜(mo)很(hen)薄，可以忽略(lve)渦流損(sun)耗(hao)；磁化反轉極(ji)為(wei)迅速；與(yu)膜(mo)面平行的(de)雙(shuang)穩態狀態容易(yi)保持等。為(wei)了更精密地(di)記(ji)錄(lu)與(yu)存儲信(xin)息，必然要采(cai)用鍍膜(mo)技術。

10、在傳感(gan)器方面(mian)

在傳感器(qi)中(zhong)，多采(cai)用那些電氣(qi)性質相(xiang)對于物理量(liang)、化學量(liang)及其變(bian)化來說，極為敏感的半導(dao)體(ti)材料。此外，其中(zhong)，大多數(shu)利用的是半導(dao)體(ti)的表(biao)面、界面的性質，需(xu)要盡量(liang)增大其面積，且能工業化、低價格(ge)制(zhi)作(zuo)，因(yin)此，采(cai)用薄(bo)膜的情況很多。

11、在集成(cheng)電路制(zhi)造中

晶體管(guan)路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電(dian)極管(guan)線（多晶硅(gui)、鋁、銅及其合(he)金(jin)）等，多是(shi)采用CVD技(ji)(ji)術(shu)(shu)、PVCD技(ji)(ji)術(shu)(shu)、真空蒸發金(jin)屬技(ji)(ji)術(shu)(shu)、磁控濺射技(ji)(ji)術(shu)(shu)和射頻濺射技(ji)(ji)術(shu)(shu)。可見，氣相沉積是(shi)制(zhi)備集成電(dian)路的核(he)心技(ji)(ji)術(shu)(shu)之一(yi)。