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蘇州辰杰真空鍍膜有限公司
上海加工裝飾品真空鍍膜塑膠真空鍍膜

上海加工裝飾品真空鍍膜塑膠真空鍍膜

  • 所屬分類:上海加工裝飾(shi)品
  • 發布日期:2019-03-23
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

真(zhen)空鍍(du)膜技術通(tong)常(chang)應用在(zai)哪些領域?

1、在裝飾品方面

隨著經濟的發展和生活水平的提高,人們(men)喜(xi)歡(huan)將手表殼(ke)、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內外裝飾件、五(wu)金箱包(bao)、手機殼(ke)、手機視屏、衛(wei)生潔(jie)具、食品包(bao)裝等裝飾品精(jing)飾得(de)五(wu)彩繽紛。

2、在刀具(ju)(ju)、模具(ju)(ju)等金屬切削加工工具(ju)(ju)方(fang)面

在(zai)生活中,我們會看到金黃色(se)(se)的、鈷銅色(se)(se)的、黑(hei)色(se)(se)的等七雜八色(se)(se)的鉆頭、銑刀、模具(ju)等,這些就(jiu)是經過鍍膜技術加(jia)工(gong)后的涂層工(gong)具(ju)。

(1)金黃色的(de),是在(zai)刀(dao)具上涂鍍了TiN、ZrN涂層,TiN是第一代應(ying)用廣泛的(de)硬質層材(cai)料。

(2)黑色(se)的(de),是(shi)在切削工具上涂(tu)(tu)了TiC、CrN涂(tu)(tu)層。

(3)鈷(gu)銅色(se)的,是在(zai)刀(dao)具(ju)上鍍涂了TiALN涂層。

3、在建(jian)筑玻璃和汽車玻璃上

建筑玻(bo)璃(li)(li)有(you)透(tou)光和(he)隔熱(re)(re)兩(liang)個基本功(gong)能(neng)(neng)(neng)。普(pu)通(tong)玻(bo)璃(li)(li)能(neng)(neng)(neng)透(tou)過(guo)絕大(da)部分太(tai)陽(yang)光輻射(she)(she)能(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang),這(zhe)對采光和(he)吸(xi)收太(tai)陽(yang)光線的(de)(de)(de)能(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)十分有(you)利。而(er)對于空間紅外輻射(she)(she),普(pu)通(tong)玻(bo)璃(li)(li)雖能(neng)(neng)(neng)阻止室(shi)內的(de)(de)(de)熱(re)(re)量(liang)(liang)直接透(tou)過(guo)室(shi)外,但(dan)熱(re)(re)量(liang)(liang)被玻(bo)璃(li)(li)吸(xi)收后的(de)(de)(de)二次散熱(re)(re)也(ye)會造成很大(da)的(de)(de)(de)損失。隨著經濟的(de)(de)(de)發展(zhan),普(pu)通(tong)玻(bo)璃(li)(li)已越來越不(bu)能(neng)(neng)(neng)滿足人們的(de)(de)(de)要求,而(er)陽(yang)光控制膜和(he)低輻射(she)(she)膜正好能(neng)(neng)(neng)彌補了(le)普(pu)通(tong)玻(bo)璃(li)(li)在這(zhe)一(yi)方面(mian)的(de)(de)(de)不(bu)足。陽(yang)光控制膜可以滿足低緯度(du)地區(qu)降低室(shi)內溫度(du)的(de)(de)(de)要求;而(er)低輻射(she)(she)膜則(ze)能(neng)(neng)(neng)滿足高緯度(du)地區(qu)充(chong)分接受太(tai)陽(yang)輻射(she)(she)能(neng)(neng)(neng)量(liang)(liang)和(he)最大(da)限度(du)阻止室(shi)內熱(re)(re)量(liang)(liang)外流的(de)(de)(de)要求。在玻(bo)璃(li)(li)上,鍍涂一(yi)層TiO2就能(neng)(neng)(neng)使其變成防霧、防露(lu)和(he)自(zi)清潔玻(bo)璃(li)(li),這(zhe)種工藝(yi)在汽車玻(bo)璃(li)(li)上有(you)很好的(de)(de)(de)應用。

4、在平板(ban)顯示器中(zhong)

所(suo)有(you)(you)各類平(ping)板(ban)顯示(shi)器(qi)都(dou)要用到(dao)各種類型(xing)(xing)的薄膜(mo),而且,幾(ji)乎所(suo)有(you)(you)類型(xing)(xing)的平(ping)板(ban)顯示(shi)器(qi)件(jian)都(dou)需要使用ITO膜(mo),以滿(man)足透(tou)明電器(qi)的要求。可以毫不夸張的說,沒(mei)有(you)(you)薄膜(mo)技術,就沒(mei)有(you)(you)平(ping)板(ban)顯示(shi)器(qi)件(jian)。

5、在(zai)太陽能(neng)利用(yong)方(fang)面

當需(xu)要(yao)有(you)效地利(li)用(yong)(yong)(yong)太(tai)陽熱(re)能時(shi),就(jiu)(jiu)要(yao)考慮采用(yong)(yong)(yong)對(dui)太(tai)陽光(guang)線吸收較(jiao)多、而對(dui)熱(re)輻(fu)(fu)(fu)射(she)等所引起的(de)損耗較(jiao)小的(de)吸收面(mian)(mian)。太(tai)陽光(guang)譜的(de)峰(feng)值大(da)約在(zai)波長為(wei)2-20μm之(zhi)間的(de)紅(hong)外波段(duan)。由于(yu)太(tai)陽輻(fu)(fu)(fu)射(she)與熱(re)輻(fu)(fu)(fu)射(she)光(guang)譜在(zai)波段(duan)上有(you)差異,因(yin)此,為(wei)了有(you)效地利(li)用(yong)(yong)(yong)太(tai)陽熱(re)能,就(jiu)(jiu)必須考慮采用(yong)(yong)(yong)具有(you)波長選擇(ze)特性(xing)的(de)吸收面(mian)(mian)。理想的(de)選擇(ze)吸收面(mian)(mian),是太(tai)陽輻(fu)(fu)(fu)射(she)光(guang)譜的(de)波段(duan)(可見(jian)光(guang)波段(duan))吸收率(lv)(α)為(wei)1,在(zai)熱(re)輻(fu)(fu)(fu)射(she)波段(duan)(紅(hong)外波段(duan))輻(fu)(fu)(fu)射(she)率(lv)(ε)為(wei)0。

6、在防偽(wei)技術(shu)中(zhong)

防偽膜(mo)(mo)(mo)種(zhong)類很多,從(cong)使(shi)用方法(fa)可分為(wei)反射(she)式(shi)(shi)(shi)和透射(she)式(shi)(shi)(shi);從(cong)膜(mo)(mo)(mo)系附著方式(shi)(shi)(shi)可以分為(wei)直接鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)式(shi)(shi)(shi)、間接鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)式(shi)(shi)(shi)或間接鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)剪貼式(shi)(shi)(shi)。

7、在(zai)飛機防護涂層方面

飛(fei)(fei)機的(de)鈦(tai)合金緊固件,原來(lai)采用(yong)電鍍方法鍍鎘(ge)。但在鍍鎘(ge)中(zhong)(zhong)含有氫,所以(yi)在飛(fei)(fei)行過程(cheng)中(zhong)(zhong),受(shou)到大氣、海水的(de)腐蝕,鍍層上(shang)容易產(chan)生“鎘(ge)脆(cui)”,甚至引起(qi)“空難”。1964年,采用(yong)離子(zi)鍍方法在鈦(tai)合金緊固件上(shang)鍍鋁,解決了飛(fei)(fei)機零件的(de)“鎘(ge)脆(cui)”問題。在離子(zi)鍍技(ji)術中(zhong)(zhong),由于給工件施加負偏壓(ya),可(ke)以(yi)形成(cheng)“偽擴(kuo)散層”、細化膜層組(zu)織,因此,可(ke)以(yi)顯著(zhu)提高膜層的(de)耐腐蝕性能。

8、在光(guang)學儀器中

人們(men)熟(shu)悉的光學儀(yi)器(qi)有望遠鏡、顯微(wei)鏡、照相機、測距儀(yi),以(yi)及日常生活(huo)用品中(zhong)的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它(ta)們(men)都離不開鍍膜(mo)(mo)技(ji)術,鍍制的薄膜(mo)(mo)有反射膜(mo)(mo)、增透(tou)膜(mo)(mo)和(he)吸收膜(mo)(mo)等幾種。

9、在(zai)信息存儲(chu)領域中

薄(bo)膜材料(liao)作為信息(xi)(xi)記錄(lu)于(yu)存儲介質,有其得天獨厚的優勢:由于(yu)薄(bo)膜很薄(bo),可以忽略渦流損耗;磁化反轉極為迅(xun)速;與膜面平行的雙穩態狀(zhuang)態容易保持等。為了更精密地記錄(lu)與存儲信息(xi)(xi),必然要采用鍍膜技術。

10、在傳感器方面

在(zai)傳感(gan)器中(zhong),多(duo)(duo)采用那些電氣性(xing)質相對于物理量、化(hua)學量及其(qi)變化(hua)來(lai)說,極為敏感(gan)的半導體材(cai)料。此外,其(qi)中(zhong),大(da)多(duo)(duo)數(shu)利用的是半導體的表(biao)面、界面的性(xing)質,需要(yao)盡量增大(da)其(qi)面積,且能工業(ye)化(hua)、低價格制(zhi)作,因此,采用薄(bo)膜的情況很多(duo)(duo)。

11、在(zai)集成電路制造中

晶體管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電(dian)極管線(多晶硅(gui)、鋁、銅及其合(he)金)等,多是采(cai)用CVD技(ji)(ji)術(shu)(shu)(shu)、PVCD技(ji)(ji)術(shu)(shu)(shu)、真空蒸發金屬技(ji)(ji)術(shu)(shu)(shu)、磁控濺射(she)技(ji)(ji)術(shu)(shu)(shu)和射(she)頻濺射(she)技(ji)(ji)術(shu)(shu)(shu)。可見,氣相沉(chen)積是制備集成電(dian)路的核心技(ji)(ji)術(shu)(shu)(shu)之一。


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