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蘇州辰杰真空鍍膜有限公司
太倉加工裝飾品真空鍍膜塑膠真空鍍膜

太倉加工裝飾品真空鍍膜塑膠真空鍍膜

  • 所屬分類:太倉加工裝(zhuang)飾品
  • 發布日期:2019-03-23
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

真空鍍(du)膜技術通(tong)常應(ying)用在哪些(xie)領域?

1、在(zai)裝(zhuang)飾(shi)品方面

隨(sui)著(zhu)經(jing)濟的發展和生活水平的提高,人們(men)喜(xi)歡將手表殼(ke)、表帶、服飾(shi)、燈飾(shi)、眼鏡架(jia)、室內(nei)外裝飾(shi)件、五金箱(xiang)包、手機殼(ke)、手機視屏、衛生潔具、食品包裝等(deng)裝飾(shi)品精飾(shi)得五彩繽紛。

2、在刀具(ju)、模具(ju)等金(jin)屬切削加工工具(ju)方(fang)面

在(zai)生活中,我們(men)會看到金黃色的(de)(de)(de)、鈷銅色的(de)(de)(de)、黑色的(de)(de)(de)等七(qi)雜八色的(de)(de)(de)鉆頭、銑刀(dao)、模(mo)具(ju)等,這(zhe)些就(jiu)是經過(guo)鍍膜技術加(jia)工后的(de)(de)(de)涂層(ceng)工具(ju)。

(1)金黃(huang)色的,是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN涂層,TiN是第一代(dai)應用廣泛的硬質層材料(liao)。

(2)黑(hei)色的,是在切削工具(ju)上涂了TiC、CrN涂層。

(3)鈷銅色的,是在刀(dao)具(ju)上鍍涂了TiALN涂層(ceng)。

3、在建筑玻(bo)璃和汽(qi)車(che)玻(bo)璃上

建筑玻(bo)(bo)璃(li)有(you)(you)透(tou)(tou)光和隔熱(re)兩(liang)個基(ji)本功(gong)能(neng)(neng)(neng)(neng)(neng)。普通玻(bo)(bo)璃(li)能(neng)(neng)(neng)(neng)(neng)透(tou)(tou)過(guo)絕大部(bu)分(fen)太陽(yang)光輻射(she)(she)能(neng)(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang),這(zhe)對采(cai)光和吸收太陽(yang)光線的(de)能(neng)(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)十分(fen)有(you)(you)利。而對于空間(jian)紅(hong)外(wai)輻射(she)(she),普通玻(bo)(bo)璃(li)雖(sui)能(neng)(neng)(neng)(neng)(neng)阻止室(shi)內(nei)的(de)熱(re)量(liang)直(zhi)接透(tou)(tou)過(guo)室(shi)外(wai),但熱(re)量(liang)被(bei)玻(bo)(bo)璃(li)吸收后的(de)二次散熱(re)也(ye)會造成(cheng)很(hen)大的(de)損(sun)失。隨著經(jing)濟的(de)發展,普通玻(bo)(bo)璃(li)已越(yue)來越(yue)不能(neng)(neng)(neng)(neng)(neng)滿足(zu)人們(men)的(de)要求,而陽(yang)光控(kong)制(zhi)膜和低輻射(she)(she)膜正好能(neng)(neng)(neng)(neng)(neng)彌補了普通玻(bo)(bo)璃(li)在(zai)這(zhe)一(yi)方面的(de)不足(zu)。陽(yang)光控(kong)制(zhi)膜可以滿足(zu)低緯度(du)地區降(jiang)低室(shi)內(nei)溫(wen)度(du)的(de)要求;而低輻射(she)(she)膜則能(neng)(neng)(neng)(neng)(neng)滿足(zu)高緯度(du)地區充分(fen)接受(shou)太陽(yang)輻射(she)(she)能(neng)(neng)(neng)(neng)(neng)量(liang)和最大限度(du)阻止室(shi)內(nei)熱(re)量(liang)外(wai)流的(de)要求。在(zai)玻(bo)(bo)璃(li)上,鍍涂一(yi)層TiO2就能(neng)(neng)(neng)(neng)(neng)使其變成(cheng)防霧(wu)、防露和自清(qing)潔玻(bo)(bo)璃(li),這(zhe)種工藝在(zai)汽車玻(bo)(bo)璃(li)上有(you)(you)很(hen)好的(de)應用。

4、在平板顯示器中

所有(you)各類平(ping)板(ban)顯(xian)示(shi)器(qi)都要用到各種(zhong)類型(xing)的薄膜(mo),而(er)且,幾(ji)乎所有(you)類型(xing)的平(ping)板(ban)顯(xian)示(shi)器(qi)件都需(xu)要使用ITO膜(mo),以(yi)滿足透(tou)明電(dian)器(qi)的要求。可以(yi)毫不夸張的說,沒(mei)有(you)薄膜(mo)技術,就沒(mei)有(you)平(ping)板(ban)顯(xian)示(shi)器(qi)件。

5、在太陽能利(li)用(yong)方面

當需要(yao)有效(xiao)地(di)利用(yong)太陽(yang)(yang)(yang)(yang)熱能時,就要(yao)考慮采用(yong)對太陽(yang)(yang)(yang)(yang)光(guang)線吸(xi)收(shou)較多、而對熱輻射(she)等所引起的(de)(de)(de)損耗較小的(de)(de)(de)吸(xi)收(shou)面(mian)(mian)。太陽(yang)(yang)(yang)(yang)光(guang)譜(pu)的(de)(de)(de)峰值大(da)約在波(bo)長為(wei)2-20μm之間的(de)(de)(de)紅外波(bo)段。由于太陽(yang)(yang)(yang)(yang)輻射(she)與熱輻射(she)光(guang)譜(pu)在波(bo)段上有差異,因此,為(wei)了有效(xiao)地(di)利用(yong)太陽(yang)(yang)(yang)(yang)熱能,就必須(xu)考慮采用(yong)具(ju)有波(bo)長選(xuan)擇(ze)特性的(de)(de)(de)吸(xi)收(shou)面(mian)(mian)。理(li)想(xiang)的(de)(de)(de)選(xuan)擇(ze)吸(xi)收(shou)面(mian)(mian),是太陽(yang)(yang)(yang)(yang)輻射(she)光(guang)譜(pu)的(de)(de)(de)波(bo)段(可(ke)見光(guang)波(bo)段)吸(xi)收(shou)率(lv)(α)為(wei)1,在熱輻射(she)波(bo)段(紅外波(bo)段)輻射(she)率(lv)(ε)為(wei)0。

6、在防偽技術中

防偽(wei)膜(mo)種類很多,從使用方法(fa)可(ke)分為反射(she)式(shi)(shi)和透射(she)式(shi)(shi);從膜(mo)系附著方式(shi)(shi)可(ke)以分為直接鍍膜(mo)式(shi)(shi)、間接鍍膜(mo)式(shi)(shi)或間接鍍膜(mo)剪貼式(shi)(shi)。

7、在(zai)飛機防護涂層方面

飛(fei)(fei)機的(de)(de)鈦(tai)(tai)合金(jin)緊固件(jian)(jian),原來采(cai)用電鍍(du)(du)(du)方(fang)法鍍(du)(du)(du)鎘(ge)(ge)(ge)。但(dan)在鍍(du)(du)(du)鎘(ge)(ge)(ge)中(zhong)含(han)有氫,所(suo)以在飛(fei)(fei)行過程(cheng)中(zhong),受(shou)到(dao)大(da)氣(qi)、海水的(de)(de)腐(fu)蝕(shi),鍍(du)(du)(du)層上容易產生“鎘(ge)(ge)(ge)脆”,甚至(zhi)引起“空難”。1964年(nian),采(cai)用離(li)子(zi)鍍(du)(du)(du)方(fang)法在鈦(tai)(tai)合金(jin)緊固件(jian)(jian)上鍍(du)(du)(du)鋁,解決了飛(fei)(fei)機零件(jian)(jian)的(de)(de)“鎘(ge)(ge)(ge)脆”問題(ti)。在離(li)子(zi)鍍(du)(du)(du)技術中(zhong),由(you)于給(gei)工(gong)件(jian)(jian)施(shi)加負偏(pian)壓,可以形成(cheng)“偽擴散層”、細化膜層組(zu)織,因此,可以顯著提高膜層的(de)(de)耐腐(fu)蝕(shi)性能。

8、在光學儀器中

人們熟悉的(de)光學儀器有望遠(yuan)鏡(jing)(jing)(jing)、顯微鏡(jing)(jing)(jing)、照相機、測(ce)距儀,以及日常生活用品(pin)中的(de)鏡(jing)(jing)(jing)子、眼鏡(jing)(jing)(jing)、放(fang)大(da)鏡(jing)(jing)(jing)等(deng),它們都離(li)不開鍍膜(mo)(mo)技術,鍍制的(de)薄膜(mo)(mo)有反射膜(mo)(mo)、增透膜(mo)(mo)和吸收膜(mo)(mo)等(deng)幾種。

9、在(zai)信息存(cun)儲(chu)領域中

薄膜(mo)材料作為信息記錄于存(cun)儲介質,有其得天獨厚(hou)的優勢:由于薄膜(mo)很薄,可以(yi)忽略(lve)渦流損耗(hao);磁化(hua)反轉極為迅速;與膜(mo)面平行的雙穩(wen)態狀態容(rong)易保持等(deng)。為了更精密地記錄與存(cun)儲信息,必(bi)然要采(cai)用鍍膜(mo)技術。

10、在傳感器方面(mian)

在傳感器中,多采用(yong)那些(xie)電(dian)氣性(xing)質相對于物理量(liang)、化學量(liang)及(ji)其變化來說,極為敏感的半(ban)導(dao)體材(cai)料(liao)。此外,其中,大(da)多數利用(yong)的是半(ban)導(dao)體的表面、界面的性(xing)質,需要盡量(liang)增大(da)其面積,且能工業(ye)化、低價格(ge)制作,因此,采用(yong)薄膜的情況很多。

11、在(zai)集成電路制造中

晶體(ti)管路中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線(多晶硅、鋁、銅及其合金)等,多是(shi)采用(yong)CVD技術(shu)、PVCD技術(shu)、真空蒸發金屬技術(shu)、磁(ci)控(kong)濺(jian)射技術(shu)和射頻濺(jian)射技術(shu)。可見(jian),氣相沉積(ji)是(shi)制備集成電路的核(he)心技術(shu)之一。


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