真空鍍膜技術(shu)通常應用在哪些領域？

1、在裝飾(shi)品(pin)方面

隨(sui)著經(jing)濟的(de)發展和(he)生活水平的(de)提高，人們喜歡將手表殼(ke)、表帶、服飾(shi)(shi)、燈飾(shi)(shi)、眼鏡架(jia)、室內外(wai)裝(zhuang)飾(shi)(shi)件、五金箱包(bao)、手機殼(ke)、手機視屏、衛生潔具(ju)、食品包(bao)裝(zhuang)等裝(zhuang)飾(shi)(shi)品精飾(shi)(shi)得五彩繽紛。

2、在刀具(ju)(ju)、模具(ju)(ju)等金屬(shu)切(qie)削(xue)加工工具(ju)(ju)方面

在生活中，我們會看到金(jin)黃色(se)的(de)(de)、鈷銅色(se)的(de)(de)、黑色(se)的(de)(de)等七雜八色(se)的(de)(de)鉆(zhan)頭、銑刀、模具(ju)等，這些就是經過鍍膜技(ji)術(shu)加工后的(de)(de)涂層工具(ju)。

（1）金黃(huang)色的，是(shi)在刀具上(shang)涂鍍(du)了TiN、ZrN涂層(ceng)，TiN是(shi)第一代應用廣泛的硬質層(ceng)材料。

（2）黑(hei)色(se)的，是在切削工具(ju)上涂了TiC、CrN涂層(ceng)。

（3）鈷(gu)銅色的，是(shi)在刀具(ju)上鍍(du)涂(tu)了TiALN涂(tu)層。

3、在建筑玻璃(li)和汽車玻璃(li)上

建筑(zhu)玻(bo)(bo)璃(li)有透(tou)(tou)光(guang)和(he)隔(ge)熱兩個基本功(gong)能(neng)(neng)。普(pu)通玻(bo)(bo)璃(li)能(neng)(neng)透(tou)(tou)過絕大部分(fen)太(tai)(tai)陽光(guang)輻射能(neng)(neng)量(liang)(liang)(liang)，這(zhe)對采光(guang)和(he)吸收太(tai)(tai)陽光(guang)線的能(neng)(neng)量(liang)(liang)(liang)十分(fen)有利。而對于空間(jian)紅外輻射，普(pu)通玻(bo)(bo)璃(li)雖(sui)能(neng)(neng)阻(zu)止室內(nei)(nei)(nei)的熱量(liang)(liang)(liang)直接透(tou)(tou)過室外，但(dan)熱量(liang)(liang)(liang)被玻(bo)(bo)璃(li)吸收后的二次散熱也會造成很(hen)大的損失。隨著經濟的發展，普(pu)通玻(bo)(bo)璃(li)已越來(lai)越不能(neng)(neng)滿(man)足(zu)人們的要(yao)(yao)(yao)求，而陽光(guang)控制(zhi)膜(mo)和(he)低(di)輻射膜(mo)正(zheng)好(hao)能(neng)(neng)彌補了普(pu)通玻(bo)(bo)璃(li)在這(zhe)一(yi)方面(mian)的不足(zu)。陽光(guang)控制(zhi)膜(mo)可以(yi)滿(man)足(zu)低(di)緯(wei)度(du)(du)地區降低(di)室內(nei)(nei)(nei)溫度(du)(du)的要(yao)(yao)(yao)求；而低(di)輻射膜(mo)則能(neng)(neng)滿(man)足(zu)高(gao)緯(wei)度(du)(du)地區充分(fen)接受太(tai)(tai)陽輻射能(neng)(neng)量(liang)(liang)(liang)和(he)最大限度(du)(du)阻(zu)止室內(nei)(nei)(nei)熱量(liang)(liang)(liang)外流的要(yao)(yao)(yao)求。在玻(bo)(bo)璃(li)上，鍍涂一(yi)層TiO2就(jiu)能(neng)(neng)使其(qi)變成防霧、防露和(he)自(zi)清(qing)潔玻(bo)(bo)璃(li)，這(zhe)種工藝在汽車玻(bo)(bo)璃(li)上有很(hen)好(hao)的應用。

4、在平板顯示(shi)器中(zhong)

所有(you)各(ge)類(lei)平板顯(xian)示(shi)(shi)器(qi)(qi)都要(yao)用到各(ge)種類(lei)型的薄膜，而且，幾乎所有(you)類(lei)型的平板顯(xian)示(shi)(shi)器(qi)(qi)件都需(xu)要(yao)使用ITO膜，以滿足透明電器(qi)(qi)的要(yao)求。可以毫(hao)不夸張(zhang)的說，沒有(you)薄膜技(ji)術，就沒有(you)平板顯(xian)示(shi)(shi)器(qi)(qi)件。

5、在太(tai)陽能利用(yong)方面

當(dang)需要(yao)有(you)效地(di)利用太(tai)(tai)陽熱(re)能時，就(jiu)要(yao)考(kao)慮采用對(dui)太(tai)(tai)陽光線吸(xi)收(shou)較(jiao)多、而對(dui)熱(re)輻(fu)射等所引起的(de)損耗較(jiao)小(xiao)的(de)吸(xi)收(shou)面。太(tai)(tai)陽光譜的(de)峰值大(da)約(yue)在波(bo)(bo)(bo)(bo)長(chang)為(wei)2-20μm之間的(de)紅外(wai)波(bo)(bo)(bo)(bo)段(duan)。由(you)于太(tai)(tai)陽輻(fu)射與熱(re)輻(fu)射光譜在波(bo)(bo)(bo)(bo)段(duan)上有(you)差異，因此，為(wei)了有(you)效地(di)利用太(tai)(tai)陽熱(re)能，就(jiu)必須考(kao)慮采用具有(you)波(bo)(bo)(bo)(bo)長(chang)選擇特(te)性的(de)吸(xi)收(shou)面。理(li)想(xiang)的(de)選擇吸(xi)收(shou)面，是太(tai)(tai)陽輻(fu)射光譜的(de)波(bo)(bo)(bo)(bo)段(duan)（可見光波(bo)(bo)(bo)(bo)段(duan)）吸(xi)收(shou)率（α）為(wei)1，在熱(re)輻(fu)射波(bo)(bo)(bo)(bo)段(duan)（紅外(wai)波(bo)(bo)(bo)(bo)段(duan)）輻(fu)射率（ε）為(wei)0。

6、在防(fang)偽技術中

防偽(wei)膜(mo)種類(lei)很多，從使(shi)用方(fang)法可(ke)分(fen)(fen)為反射(she)式(shi)和透射(she)式(shi)；從膜(mo)系附著方(fang)式(shi)可(ke)以分(fen)(fen)為直接(jie)鍍(du)(du)膜(mo)式(shi)、間(jian)接(jie)鍍(du)(du)膜(mo)式(shi)或間(jian)接(jie)鍍(du)(du)膜(mo)剪(jian)貼式(shi)。

7、在飛機防護涂層方面(mian)

飛機的(de)鈦(tai)合金緊固件(jian)(jian)，原來采(cai)用電鍍方法(fa)鍍鎘。但在(zai)(zai)鍍鎘中含(han)有氫，所以在(zai)(zai)飛行過程中，受到大氣、海水的(de)腐蝕，鍍層(ceng)上(shang)容易產生“鎘脆”，甚至引(yin)起“空(kong)難(nan)”。1964年(nian)，采(cai)用離子(zi)鍍方法(fa)在(zai)(zai)鈦(tai)合金緊固件(jian)(jian)上(shang)鍍鋁，解決(jue)了飛機零件(jian)(jian)的(de)“鎘脆”問題。在(zai)(zai)離子(zi)鍍技(ji)術(shu)中，由于給工(gong)件(jian)(jian)施(shi)加負偏壓，可(ke)以形成“偽(wei)擴散層(ceng)”、細化膜層(ceng)組織，因此(ci)，可(ke)以顯著提(ti)高膜層(ceng)的(de)耐(nai)腐蝕性能。

8、在光(guang)學儀(yi)器(qi)中

人們熟悉的(de)光(guang)學(xue)儀(yi)器有望遠(yuan)鏡(jing)(jing)、顯微鏡(jing)(jing)、照(zhao)相機(ji)、測距儀(yi)，以(yi)及日常生活用品(pin)中的(de)鏡(jing)(jing)子(zi)、眼鏡(jing)(jing)、放大鏡(jing)(jing)等，它(ta)們都離不(bu)開鍍膜(mo)技術，鍍制的(de)薄膜(mo)有反射(she)膜(mo)、增透膜(mo)和吸收膜(mo)等幾種。

9、在信息(xi)存儲領(ling)域中

薄膜(mo)(mo)材料作為(wei)(wei)信息(xi)記錄(lu)于存儲(chu)介質，有其得天獨厚的(de)優勢：由于薄膜(mo)(mo)很薄，可以忽略渦(wo)流損耗(hao)；磁化反轉極為(wei)(wei)迅速；與膜(mo)(mo)面平(ping)行的(de)雙穩態狀(zhuang)態容(rong)易(yi)保(bao)持等。為(wei)(wei)了(le)更精密地記錄(lu)與存儲(chu)信息(xi)，必(bi)然(ran)要(yao)采(cai)用(yong)鍍膜(mo)(mo)技術。

10、在傳感器方(fang)面

在傳感器(qi)中(zhong)(zhong)，多(duo)采(cai)用(yong)(yong)那些電氣性質相(xiang)對于物理量、化(hua)(hua)學量及其(qi)變化(hua)(hua)來說，極為敏感的(de)半導體材料(liao)。此(ci)外，其(qi)中(zhong)(zhong)，大多(duo)數(shu)利用(yong)(yong)的(de)是半導體的(de)表(biao)面、界(jie)面的(de)性質，需(xu)要(yao)盡量增大其(qi)面積，且能工(gong)業化(hua)(hua)、低(di)價格制(zhi)作，因此(ci)，采(cai)用(yong)(yong)薄(bo)膜的(de)情況很多(duo)。

11、在集成電路制造中

晶體管路(lu)中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶硅、鋁、銅及(ji)其合金(jin)）等，多是(shi)采用CVD技術(shu)、PVCD技術(shu)、真空蒸發金(jin)屬技術(shu)、磁控濺射(she)技術(shu)和射(she)頻濺射(she)技術(shu)。可見，氣相沉積是(shi)制備集成電路(lu)的核(he)心技術(shu)之(zhi)一(yi)。