真(zhen)空(kong)鍍(du)膜技術通常(chang)應用在哪些領域？

1、在裝飾品方面

隨著經(jing)濟的(de)發展和生活水平的(de)提高，人(ren)們喜(xi)歡將(jiang)手(shou)表殼、表帶、服飾(shi)、燈飾(shi)、眼鏡架、室內外裝(zhuang)飾(shi)件(jian)、五(wu)金箱(xiang)包、手(shou)機殼、手(shou)機視屏、衛(wei)生潔具、食品(pin)包裝(zhuang)等裝(zhuang)飾(shi)品(pin)精飾(shi)得五(wu)彩繽紛(fen)。

2、在(zai)刀具(ju)、模(mo)具(ju)等(deng)金屬切削(xue)加工(gong)工(gong)具(ju)方面

在生(sheng)活中(zhong)，我們會看到金黃色(se)的(de)、鈷銅(tong)色(se)的(de)、黑(hei)色(se)的(de)等(deng)七雜八色(se)的(de)鉆頭、銑刀、模具等(deng)，這些就(jiu)是經過(guo)鍍膜技術(shu)加(jia)工(gong)后的(de)涂層工(gong)具。

（1）金黃色的，是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN涂層(ceng)，TiN是第一代應用廣泛的硬質層(ceng)材料。

（2）黑色的(de)，是(shi)在切削工具上涂了TiC、CrN涂層(ceng)。

（3）鈷銅色的(de)，是在刀(dao)具(ju)上鍍(du)涂了(le)TiALN涂層。

3、在(zai)建(jian)筑玻璃和汽車玻璃上

建(jian)筑玻(bo)(bo)璃(li)(li)(li)有透(tou)光(guang)和隔熱(re)(re)(re)兩個基本(ben)功能(neng)。普通玻(bo)(bo)璃(li)(li)(li)能(neng)透(tou)過絕(jue)大部分太(tai)陽(yang)(yang)光(guang)輻射(she)能(neng)量，這(zhe)對采光(guang)和吸(xi)收(shou)太(tai)陽(yang)(yang)光(guang)線的(de)(de)能(neng)量十(shi)分有利(li)。而對于空間紅外(wai)輻射(she)，普通玻(bo)(bo)璃(li)(li)(li)雖能(neng)阻(zu)止(zhi)室(shi)(shi)內的(de)(de)熱(re)(re)(re)量直接透(tou)過室(shi)(shi)外(wai)，但熱(re)(re)(re)量被(bei)玻(bo)(bo)璃(li)(li)(li)吸(xi)收(shou)后的(de)(de)二(er)次散熱(re)(re)(re)也會(hui)造成很(hen)大的(de)(de)損失。隨(sui)著經濟的(de)(de)發(fa)展，普通玻(bo)(bo)璃(li)(li)(li)已越(yue)來越(yue)不(bu)能(neng)滿足人們的(de)(de)要(yao)求，而陽(yang)(yang)光(guang)控(kong)制膜(mo)和低(di)(di)輻射(she)膜(mo)正好能(neng)彌補了普通玻(bo)(bo)璃(li)(li)(li)在(zai)這(zhe)一(yi)方面(mian)的(de)(de)不(bu)足。陽(yang)(yang)光(guang)控(kong)制膜(mo)可以滿足低(di)(di)緯度地區(qu)降(jiang)低(di)(di)室(shi)(shi)內溫度的(de)(de)要(yao)求；而低(di)(di)輻射(she)膜(mo)則能(neng)滿足高緯度地區(qu)充分接受太(tai)陽(yang)(yang)輻射(she)能(neng)量和最大限(xian)度阻(zu)止(zhi)室(shi)(shi)內熱(re)(re)(re)量外(wai)流(liu)的(de)(de)要(yao)求。在(zai)玻(bo)(bo)璃(li)(li)(li)上，鍍涂一(yi)層TiO2就能(neng)使其變成防霧、防露和自清潔(jie)玻(bo)(bo)璃(li)(li)(li)，這(zhe)種工(gong)藝(yi)在(zai)汽車(che)玻(bo)(bo)璃(li)(li)(li)上有很(hen)好的(de)(de)應(ying)用(yong)。

4、在平(ping)板顯示器(qi)中

所(suo)有(you)(you)(you)各(ge)類平板顯(xian)示器(qi)都(dou)(dou)要(yao)用到各(ge)種類型(xing)的(de)薄(bo)膜，而且(qie)，幾乎所(suo)有(you)(you)(you)類型(xing)的(de)平板顯(xian)示器(qi)件都(dou)(dou)需要(yao)使用ITO膜，以滿足(zu)透(tou)明電器(qi)的(de)要(yao)求(qiu)。可以毫不夸張的(de)說，沒(mei)有(you)(you)(you)薄(bo)膜技術，就沒(mei)有(you)(you)(you)平板顯(xian)示器(qi)件。

5、在太(tai)陽能利用方面

當需要(yao)有效地利用(yong)太(tai)(tai)陽(yang)(yang)熱能時，就要(yao)考(kao)慮采(cai)用(yong)對太(tai)(tai)陽(yang)(yang)光線(xian)吸(xi)收(shou)(shou)(shou)較(jiao)(jiao)多、而對熱輻(fu)射(she)(she)(she)等所引起的(de)(de)(de)損(sun)耗較(jiao)(jiao)小的(de)(de)(de)吸(xi)收(shou)(shou)(shou)面(mian)。太(tai)(tai)陽(yang)(yang)光譜(pu)的(de)(de)(de)峰值大(da)約在(zai)波(bo)(bo)長為(wei)2-20μm之間的(de)(de)(de)紅(hong)外波(bo)(bo)段(duan)。由于(yu)太(tai)(tai)陽(yang)(yang)輻(fu)射(she)(she)(she)與(yu)熱輻(fu)射(she)(she)(she)光譜(pu)在(zai)波(bo)(bo)段(duan)上有差異，因此，為(wei)了有效地利用(yong)太(tai)(tai)陽(yang)(yang)熱能，就必須考(kao)慮采(cai)用(yong)具有波(bo)(bo)長選擇(ze)特性的(de)(de)(de)吸(xi)收(shou)(shou)(shou)面(mian)。理想(xiang)的(de)(de)(de)選擇(ze)吸(xi)收(shou)(shou)(shou)面(mian)，是太(tai)(tai)陽(yang)(yang)輻(fu)射(she)(she)(she)光譜(pu)的(de)(de)(de)波(bo)(bo)段(duan)（可見光波(bo)(bo)段(duan)）吸(xi)收(shou)(shou)(shou)率（α）為(wei)1，在(zai)熱輻(fu)射(she)(she)(she)波(bo)(bo)段(duan)（紅(hong)外波(bo)(bo)段(duan)）輻(fu)射(she)(she)(she)率（ε）為(wei)0。

6、在防(fang)偽技術中(zhong)

防偽(wei)膜(mo)(mo)(mo)種(zhong)類很多，從(cong)使(shi)用方法可分為反(fan)射(she)式(shi)(shi)和透射(she)式(shi)(shi)；從(cong)膜(mo)(mo)(mo)系附著方式(shi)(shi)可以分為直接鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)式(shi)(shi)、間(jian)接鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)式(shi)(shi)或間(jian)接鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)剪貼(tie)式(shi)(shi)。

7、在(zai)飛機防護涂層方面

飛機(ji)的鈦(tai)合金緊(jin)固件(jian)，原來采用電鍍(du)(du)方(fang)法(fa)鍍(du)(du)鎘。但在(zai)鍍(du)(du)鎘中含有氫(qing)，所以(yi)(yi)在(zai)飛行過程中，受到大氣、海水的腐蝕，鍍(du)(du)層上(shang)容易(yi)產生“鎘脆”，甚至引(yin)起(qi)“空難”。1964年(nian)，采用離(li)子(zi)鍍(du)(du)方(fang)法(fa)在(zai)鈦(tai)合金緊(jin)固件(jian)上(shang)鍍(du)(du)鋁，解(jie)決了飛機(ji)零件(jian)的“鎘脆”問題(ti)。在(zai)離(li)子(zi)鍍(du)(du)技(ji)術中，由于給工件(jian)施加(jia)負偏壓，可(ke)以(yi)(yi)形成“偽擴散層”、細化膜(mo)層組織(zhi)，因此，可(ke)以(yi)(yi)顯著提(ti)高(gao)膜(mo)層的耐腐蝕性能。

8、在光學儀(yi)器中

人(ren)們熟悉的光(guang)學儀器有望遠鏡(jing)(jing)、顯(xian)微鏡(jing)(jing)、照相機、測距儀，以及日常生活用(yong)品中的鏡(jing)(jing)子、眼(yan)鏡(jing)(jing)、放(fang)大(da)鏡(jing)(jing)等，它(ta)們都離不開鍍膜技(ji)術，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

9、在信息存儲領域中

薄膜材(cai)料(liao)作為信息記錄(lu)于存儲介質(zhi)，有(you)其得天獨厚的優勢(shi)：由于薄膜很薄，可以(yi)忽(hu)略渦(wo)流(liu)損(sun)耗；磁化反轉(zhuan)極為迅速；與膜面平(ping)行的雙(shuang)穩態(tai)狀態(tai)容易(yi)保(bao)持等。為了更(geng)精(jing)密地(di)記錄(lu)與存儲信息，必然要(yao)采用鍍(du)膜技術。

10、在傳感器方面

在傳(chuan)感(gan)器中，多(duo)采用那(nei)些電氣性(xing)(xing)質相對(dui)于物理(li)量、化(hua)學量及其(qi)變化(hua)來說，極為敏感(gan)的(de)半導體材料。此(ci)外，其(qi)中，大(da)多(duo)數利(li)用的(de)是(shi)半導體的(de)表面(mian)(mian)、界面(mian)(mian)的(de)性(xing)(xing)質，需要盡量增大(da)其(qi)面(mian)(mian)積，且(qie)能(neng)工業化(hua)、低價格制(zhi)作(zuo)，因此(ci)，采用薄膜的(de)情(qing)況很多(duo)。

11、在集成電(dian)路制(zhi)造中

晶(jing)體(ti)管(guan)路中的保(bao)護層（SiO2、Si3N4）、電(dian)極(ji)管(guan)線（多(duo)晶(jing)硅、鋁、銅及其合(he)金(jin)(jin)）等(deng)，多(duo)是采用CVD技(ji)術(shu)、PVCD技(ji)術(shu)、真空蒸發金(jin)(jin)屬(shu)技(ji)術(shu)、磁控濺射(she)(she)技(ji)術(shu)和射(she)(she)頻濺射(she)(she)技(ji)術(shu)。可見，氣(qi)相沉積是制(zhi)備集成電(dian)路的核(he)心(xin)技(ji)術(shu)之一。