真空鍍膜技術通(tong)常應用(yong)在哪些領域？

1、在裝飾品方面

隨著(zhu)經濟(ji)的(de)發(fa)展(zhan)和生活水平(ping)的(de)提(ti)高，人們喜歡將手(shou)表(biao)(biao)殼、表(biao)(biao)帶、服飾、燈飾、眼(yan)鏡架、室(shi)內外裝(zhuang)飾件(jian)、五金箱包(bao)、手(shou)機殼、手(shou)機視(shi)屏、衛(wei)生潔(jie)具、食品包(bao)裝(zhuang)等裝(zhuang)飾品精飾得(de)五彩繽紛。

2、在(zai)刀具(ju)、模具(ju)等金屬(shu)切(qie)削加工工具(ju)方面(mian)

在生(sheng)活中，我們會看到金黃色(se)的、鈷銅(tong)色(se)的、黑(hei)色(se)的等七雜八(ba)色(se)的鉆(zhan)頭、銑刀、模具(ju)等，這些就是經過鍍膜技術加工(gong)后的涂(tu)層工(gong)具(ju)。

（1）金黃色的，是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN涂層，TiN是第一代應用廣泛的硬質(zhi)層材料(liao)。

（2）黑色的，是在切削工(gong)具上涂了(le)TiC、CrN涂層。

（3）鈷銅色的，是(shi)在刀具上(shang)鍍涂了(le)TiALN涂層。

3、在建筑玻璃(li)(li)和汽(qi)車玻璃(li)(li)上

建筑玻(bo)璃(li)(li)(li)有透光(guang)(guang)(guang)和(he)隔熱(re)(re)兩個基本功能(neng)。普通玻(bo)璃(li)(li)(li)能(neng)透過絕大(da)部分太(tai)(tai)陽光(guang)(guang)(guang)輻(fu)(fu)射能(neng)量(liang)，這對采光(guang)(guang)(guang)和(he)吸收太(tai)(tai)陽光(guang)(guang)(guang)線的(de)(de)能(neng)量(liang)十分有利。而對于空間紅外(wai)輻(fu)(fu)射，普通玻(bo)璃(li)(li)(li)雖能(neng)阻(zu)止(zhi)室內的(de)(de)熱(re)(re)量(liang)直接透過室外(wai)，但熱(re)(re)量(liang)被玻(bo)璃(li)(li)(li)吸收后的(de)(de)二次散熱(re)(re)也會造成很(hen)大(da)的(de)(de)損失。隨著(zhu)經(jing)濟的(de)(de)發展，普通玻(bo)璃(li)(li)(li)已(yi)越(yue)來越(yue)不能(neng)滿足人們(men)的(de)(de)要求(qiu)，而陽光(guang)(guang)(guang)控制膜和(he)低(di)(di)輻(fu)(fu)射膜正好能(neng)彌(mi)補了普通玻(bo)璃(li)(li)(li)在這一(yi)方面(mian)的(de)(de)不足。陽光(guang)(guang)(guang)控制膜可以(yi)滿足低(di)(di)緯度(du)地區降低(di)(di)室內溫度(du)的(de)(de)要求(qiu)；而低(di)(di)輻(fu)(fu)射膜則能(neng)滿足高緯度(du)地區充分接受太(tai)(tai)陽輻(fu)(fu)射能(neng)量(liang)和(he)最(zui)大(da)限度(du)阻(zu)止(zhi)室內熱(re)(re)量(liang)外(wai)流的(de)(de)要求(qiu)。在玻(bo)璃(li)(li)(li)上(shang)，鍍(du)涂一(yi)層TiO2就能(neng)使(shi)其變(bian)成防霧、防露和(he)自清潔玻(bo)璃(li)(li)(li)，這種(zhong)工藝在汽(qi)車玻(bo)璃(li)(li)(li)上(shang)有很(hen)好的(de)(de)應用。

4、在平板(ban)顯(xian)示(shi)器(qi)中

所(suo)有各(ge)類平(ping)板顯示器(qi)(qi)都(dou)要(yao)用到各(ge)種類型的(de)薄(bo)膜，而且(qie)，幾乎(hu)所(suo)有類型的(de)平(ping)板顯示器(qi)(qi)件都(dou)需(xu)要(yao)使(shi)用ITO膜，以滿(man)足(zu)透明電器(qi)(qi)的(de)要(yao)求。可(ke)以毫不夸張的(de)說(shuo)，沒(mei)有薄(bo)膜技術，就(jiu)沒(mei)有平(ping)板顯示器(qi)(qi)件。

5、在(zai)太陽能利(li)用方面

當(dang)需要有(you)(you)效地利(li)用太(tai)陽熱能(neng)時，就要考慮(lv)采(cai)用對太(tai)陽光線吸收(shou)(shou)較(jiao)多(duo)、而對熱輻(fu)射(she)(she)等所(suo)引起(qi)的(de)(de)(de)損(sun)耗(hao)較(jiao)小的(de)(de)(de)吸收(shou)(shou)面。太(tai)陽光譜的(de)(de)(de)峰值大約在波(bo)長為2-20μm之(zhi)間的(de)(de)(de)紅(hong)外(wai)波(bo)段。由于太(tai)陽輻(fu)射(she)(she)與熱輻(fu)射(she)(she)光譜在波(bo)段上有(you)(you)差(cha)異，因(yin)此，為了有(you)(you)效地利(li)用太(tai)陽熱能(neng)，就必須(xu)考慮(lv)采(cai)用具有(you)(you)波(bo)長選擇特性的(de)(de)(de)吸收(shou)(shou)面。理想的(de)(de)(de)選擇吸收(shou)(shou)面，是太(tai)陽輻(fu)射(she)(she)光譜的(de)(de)(de)波(bo)段（可見光波(bo)段）吸收(shou)(shou)率（α）為1，在熱輻(fu)射(she)(she)波(bo)段（紅(hong)外(wai)波(bo)段）輻(fu)射(she)(she)率（ε）為0。

6、在防(fang)偽(wei)技術中(zhong)

防(fang)偽膜(mo)種(zhong)類很多，從使用方(fang)法可(ke)分為(wei)反射式(shi)和(he)透射式(shi)；從膜(mo)系附著方(fang)式(shi)可(ke)以分為(wei)直接鍍膜(mo)式(shi)、間(jian)接鍍膜(mo)式(shi)或間(jian)接鍍膜(mo)剪貼式(shi)。

7、在飛機(ji)防護涂(tu)層(ceng)方面

飛機的(de)(de)鈦合(he)金緊固件，原來采用電(dian)鍍(du)(du)方(fang)法鍍(du)(du)鎘(ge)。但在(zai)鍍(du)(du)鎘(ge)中含有氫，所以在(zai)飛行(xing)過程中，受到大氣、海(hai)水的(de)(de)腐(fu)蝕，鍍(du)(du)層上容易產生“鎘(ge)脆(cui)”，甚至引起“空難”。1964年(nian)，采用離(li)子鍍(du)(du)方(fang)法在(zai)鈦合(he)金緊固件上鍍(du)(du)鋁，解決了飛機零件的(de)(de)“鎘(ge)脆(cui)”問題。在(zai)離(li)子鍍(du)(du)技術中，由于(yu)給(gei)工件施加負偏(pian)壓，可(ke)以形成“偽擴(kuo)散層”、細化(hua)膜層組(zu)織，因(yin)此，可(ke)以顯著提(ti)高膜層的(de)(de)耐腐(fu)蝕性(xing)能。

8、在光學儀(yi)器中

人們熟悉的光學儀器有(you)望(wang)遠鏡、顯微鏡、照相機(ji)、測距儀，以及日(ri)常(chang)生(sheng)活用品(pin)中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術，鍍制(zhi)的薄膜有(you)反射膜、增透(tou)膜和吸收膜等幾種。

9、在(zai)信息存儲(chu)領域中

薄(bo)(bo)膜(mo)材料(liao)作為(wei)(wei)(wei)信(xin)息(xi)記(ji)錄(lu)(lu)于存(cun)儲介質(zhi)，有其(qi)得天獨厚(hou)的優勢：由(you)于薄(bo)(bo)膜(mo)很薄(bo)(bo)，可以忽略(lve)渦(wo)流(liu)損耗；磁(ci)化反轉極(ji)為(wei)(wei)(wei)迅速(su)；與膜(mo)面平行的雙穩態狀態容易保持等。為(wei)(wei)(wei)了更精密地記(ji)錄(lu)(lu)與存(cun)儲信(xin)息(xi)，必然要(yao)采用鍍膜(mo)技術。

10、在(zai)傳(chuan)感器(qi)方面

在傳感器中(zhong)，多采用(yong)那(nei)些電(dian)氣性質(zhi)相對(dui)于物理量、化(hua)學量及(ji)其(qi)(qi)變化(hua)來說，極為敏感的(de)半導體材料(liao)。此外(wai)，其(qi)(qi)中(zhong)，大多數利用(yong)的(de)是半導體的(de)表(biao)面(mian)、界面(mian)的(de)性質(zhi)，需要盡量增(zeng)大其(qi)(qi)面(mian)積，且能工業(ye)化(hua)、低價格制作，因此，采用(yong)薄膜的(de)情況很多。

11、在集成電(dian)路制造中

晶體管路(lu)中的(de)(de)保護(hu)層（SiO2、Si3N4）、電極(ji)管線（多晶硅(gui)、鋁、銅及其合(he)金）等，多是(shi)采用CVD技(ji)(ji)(ji)術、PVCD技(ji)(ji)(ji)術、真空蒸發金屬(shu)技(ji)(ji)(ji)術、磁控濺射技(ji)(ji)(ji)術和射頻濺射技(ji)(ji)(ji)術。可(ke)見，氣相(xiang)沉積是(shi)制備集(ji)成電路(lu)的(de)(de)核心技(ji)(ji)(ji)術之一。