化(hua)學鍍膜(mo)(mo)(mo)(mo)最(zui)早用于(yu)在光(guang)學元件表面制(zhi)備保(bao)護膜(mo)(mo)(mo)(mo)。隨后，1817年(nian)，Fraunhofe在德(de)國用濃硫(liu)酸(suan)或硝(xiao)酸(suan)侵蝕玻璃，偶(ou)然第一次獲得減反射膜(mo)(mo)(mo)(mo)，1835年(nian)以前有人(ren)(ren)用化(hua)學濕選(xuan)法(fa)淀(dian)積(ji)了銀鏡膜(mo)(mo)(mo)(mo)它們是(shi)最(zui)先在世界上制(zhi)備的光(guang)學薄膜(mo)(mo)(mo)(mo)。后來，人(ren)(ren)們在化(hua)學溶液和蒸氣中鍍制(zhi)各種光(guang)學薄膜(mo)(mo)(mo)(mo)。50年(nian)代，除大快(kuai)窗玻璃增透膜(mo)(mo)(mo)(mo)的一些應用外，化(hua)學溶液鍍膜(mo)(mo)(mo)(mo)法(fa)逐步(bu)被真(zhen)空鍍膜(mo)(mo)(mo)(mo)取代。

　　真(zhen)空(kong)(kong)蒸發和(he)濺射這兩(liang)種(zhong)真(zhen)空(kong)(kong)物理(li)鍍膜工(gong)藝，是迄今在(zai)工(gong)業領域能夠制備光(guang)學(xue)薄(bo)膜的(de)兩(liang)種(zhong)最主要(yao)的(de)工(gong)藝。它們大規(gui)模地應用，實際上(shang)是在(zai)1930年出現了油擴散(san)泵---機(ji)械泵抽氣系統之后。

　　1935年，有人研(yan)制出真空蒸發淀積(ji)的(de)單層減(jian)反射膜。但它的(de)最先(xian)應用是(shi)1945年以后鍍制在(zai)眼(yan)鏡片上。

　　1938年，美國和歐洲研制(zhi)出雙層減反(fan)射(she)膜，但到1949年才制(zhi)造出優質的(de)產品。

　　1965年(nian)(nian)，研制出寬帶三(san)層減反(fan)射系統(tong)。在反(fan)射膜方面(mian)(mian)，美(mei)國通用電(dian)氣(qi)公司1937年(nian)(nian)制造出第(di)一盞(zhan)鍍鋁燈(deng)。德國同(tong)年(nian)(nian)制成第(di)一面(mian)(mian)醫(yi)學上(shang)用的抗磨蝕硬銠膜。在濾(lv)光(guang)片(pian)方面(mian)(mian)，德國1939年(nian)(nian)試驗(yan)淀積出金屬(shu)—介質薄膜Fabry---Perot型干涉濾(lv)光(guang)片(pian)。

　　在濺射鍍膜(mo)領(ling)域，大約于1858年(nian)，英國(guo)和德國(guo)的研究者先后于實驗室中發(fa)現(xian)了(le)濺射現(xian)象。該技術經歷了(le)緩慢(man)的發(fa)展過程。

　　1955年，Wehner提出(chu)高頻濺(jian)射(she)(she)技術后，濺(jian)射(she)(she)鍍膜發(fa)展迅速，成為了(le)一(yi)種重要(yao)的光學薄膜工(gong)藝。現有兩極濺(jian)射(she)(she)、三極濺(jian)射(she)(she)、反應濺(jian)射(she)(she)、磁控濺(jian)射(she)(she)和雙離(li)子濺(jian)射(she)(she)等淀積工(gong)藝。

　　自50年代以來，光學薄膜(mo)主要(yao)在鍍膜(mo)工藝和計算機(ji)輔助設計兩(liang)個方面(mian)發展迅(xun)速。在鍍膜(mo)方面(mian)，研究和應用了一系列離子(zi)基新技術。

　　1953年(nian)，德(de)國的Auwarter申請了用反應(ying)蒸(zheng)發鍍光學薄膜的zhuanli，并提出用離子化(hua)的氣(qi)體(ti)增加化(hua)學反應(ying)性的建議。

　　1964年，Mattox在(zai)前人研(yan)究工(gong)作的(de)基礎上推出(chu)離(li)子(zi)鍍(du)系統(tong)。那時的(de)離(li)子(zi)系統(tong)在(zai)10Pa壓力(li)和(he)2KV的(de)放電電壓下(xia)工(gong)作，用(yong)(yong)于(yu)在(zai)金屬上鍍(du)耐磨和(he)裝飾等(deng)用(yong)(yong)途的(de)鍍(du)層，不(bu)適(shi)合鍍(du)光(guang)(guang)(guang)學薄膜(mo)。后(hou)來，研(yan)究采用(yong)(yong)了(le)(le)高(gao)頻(pin)離(li)子(zi)鍍(du)在(zai)玻璃(li)等(deng)絕緣(yuan)材料上淀積光(guang)(guang)(guang)學薄膜(mo)。70年代以來，研(yan)究和(he)應(ying)(ying)用(yong)(yong)了(le)(le)離(li)子(zi)輔助淀積、反(fan)應(ying)(ying)離(li)子(zi)鍍(du)和(he)等(deng)離(li)子(zi)化(hua)學氣相等(deng)一系列新技術。它們由于(yu)使用(yong)(yong)了(le)(le)帶(dai)能離(li)子(zi)，而(er)提供了(le)(le)充分(fen)的(de)活化(hua)能，增加了(le)(le)表面的(de)反(fan)應(ying)(ying)速度(du)。提高(gao)了(le)(le)吸(xi)附原子(zi)的(de)遷(qian)移性，避免(mian)形成柱狀顯微結構，從(cong)而(er)不(bu)同程度(du)地(di)改善了(le)(le)光(guang)(guang)(guang)學薄膜(mo)的(de)性能，是光(guang)(guang)(guang)學薄膜(mo)制造工(gong)藝的(de)研(yan)究和(he)發展方(fang)向。

　　實際上，真空(kong)鍍膜的(de)發展歷(li)程要遠遠復雜的(de)多。我們來看一個這個有兩百年歷(li)史的(de)科技歷(li)程：

　　19世紀

　　真空鍍膜已有200年的(de)歷(li)史。在19世(shi)紀可以說一直(zhi)是處于探索和預研階段。探索者的(de)艱(jian)辛在此期間得到充分(fen)體(ti)現。