一、概念(nian)的區別

1、真空鍍(du)膜是指在高真空的條件(jian)(jian)下加熱金屬或非金屬材料，使其(qi)蒸(zheng)發并凝結于鍍(du)件(jian)(jian)（金屬、半導體(ti)或絕緣體(ti)）表(biao)面而形成薄(bo)膜的一種方法(fa)。例如，真空鍍(du)鋁(lv)、真空鍍(du)鉻等。

2、光(guang)學(xue)(xue)鍍(du)(du)膜是指在(zai)(zai)光(guang)學(xue)(xue)零(ling)件(jian)表面(mian)(mian)上(shang)鍍(du)(du)上(shang)一(yi)層(或(huo)多層)金屬(或(huo)介質)薄膜的(de)工(gong)藝過(guo)程。在(zai)(zai)光(guang)學(xue)(xue)零(ling)件(jian)表面(mian)(mian)鍍(du)(du)膜的(de)目(mu)的(de)是為了達到減(jian)少或(huo)增(zeng)加光(guang)的(de)反(fan)射、分束、分色(se)、濾光(guang)、偏振等要求。常用(yong)的(de)鍍(du)(du)膜法有真(zhen)空鍍(du)(du)膜(物理鍍(du)(du)膜的(de)一(yi)種)和化學(xue)(xue)鍍(du)(du)膜。

二(er)、原理(li)的(de)區(qu)別

1、真(zhen)空(kong)鍍膜(mo)(mo)是真(zhen)空(kong)應(ying)用(yong)領(ling)域的一(yi)個重要方面，它是以(yi)真(zhen)空(kong)技術為基礎，利用(yong)物(wu)理或(huo)化(hua)學方法(fa)，并(bing)吸收(shou)電子(zi)束(shu)、分子(zi)束(shu)、離子(zi)束(shu)、等離子(zi)束(shu)、射頻和磁控等一(yi)系(xi)列(lie)新技術，為科學研究和實際生(sheng)產提供薄膜(mo)(mo)制備(bei)的一(yi)種新工藝。簡單地(di)說，在真(zhen)空(kong)中把金屬、合金或(huo)化(hua)合物(wu)進行蒸發或(huo)濺(jian)射，使其(qi)在被涂覆的物(wu)體（稱基板、基片或(huo)基體）上凝固(gu)并(bing)沉積的方法(fa)。

2、光(guang)的(de)(de)(de)干(gan)涉在薄(bo)膜(mo)(mo)光(guang)學(xue)中廣泛應用。光(guang)學(xue)薄(bo)膜(mo)(mo)技(ji)術的(de)(de)(de)普遍方法是借(jie)助真(zhen)空濺射(she)的(de)(de)(de)方式在玻璃基板上涂鍍(du)薄(bo)膜(mo)(mo)，一(yi)般用來控制基板對入射(she)光(guang)束的(de)(de)(de)反(fan)(fan)射(she)率和透(tou)(tou)過率，以滿足不同(tong)的(de)(de)(de)需要。為(wei)了(le)消(xiao)除光(guang)學(xue)零件表面的(de)(de)(de)反(fan)(fan)射(she)損(sun)失，提高成像(xiang)質量，涂鍍(du)一(yi)層或(huo)多(duo)層透(tou)(tou)明介質膜(mo)(mo)，稱為(wei)增透(tou)(tou)膜(mo)(mo)或(huo)減反(fan)(fan)射(she)膜(mo)(mo)。

隨著激光(guang)(guang)(guang)技(ji)術的(de)(de)發展，對(dui)膜(mo)(mo)(mo)層的(de)(de)反(fan)射(she)(she)(she)(she)率(lv)和(he)透過率(lv)有不同的(de)(de)要求，促進了多層高反(fan)射(she)(she)(she)(she)膜(mo)(mo)(mo)和(he)寬帶增透膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)發展。為各種(zhong)應用需要，利用高反(fan)射(she)(she)(she)(she)膜(mo)(mo)(mo)制造(zao)偏振反(fan)光(guang)(guang)(guang)膜(mo)(mo)(mo)、彩(cai)色分(fen)光(guang)(guang)(guang)膜(mo)(mo)(mo)、冷光(guang)(guang)(guang)膜(mo)(mo)(mo)和(he)干涉濾光(guang)(guang)(guang)片等。光(guang)(guang)(guang)學零件(jian)表面鍍(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)后，光(guang)(guang)(guang)在膜(mo)(mo)(mo)層層上多次反(fan)射(she)(she)(she)(she)和(he)透射(she)(she)(she)(she)，形(xing)成多光(guang)(guang)(guang)束干涉，控(kong)制膜(mo)(mo)(mo)層的(de)(de)折射(she)(she)(she)(she)率(lv)和(he)厚度，可以(yi)得到不同的(de)(de)強度分(fen)布(bu)，這是(shi)干涉鍍(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)基本原理。

三、方法和材料的(de)區別(bie)

1、真空鍍膜的(de)方法材料：

(1)真空(kong)蒸(zheng)鍍：將(jiang)需鍍膜的基(ji)體清洗后(hou)放到(dao)鍍膜室，抽(chou)空(kong)后(hou)將(jiang)膜料(liao)加熱到(dao)高溫(wen)，使(shi)蒸(zheng)氣達到(dao)約(yue)13.3Pa而(er)使(shi)蒸(zheng)氣分子(zi)飛到(dao)基(ji)體表(biao)面(mian)，凝結而(er)成薄膜。

(2)陰(yin)極(ji)(ji)濺(jian)射鍍：將需鍍膜的(de)基體(ti)放(fang)在(zai)陰(yin)極(ji)(ji)對(dui)面，把惰(duo)性(xing)氣體(ti)(如氬)通(tong)入已抽空的(de)室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然(ran)后將陰(yin)極(ji)(ji)接(jie)上2000V的(de)直流電(dian)源，便(bian)激發(fa)輝光放(fang)電(dian)，帶(dai)正電(dian)的(de)氬離子(zi)撞(zhuang)擊陰(yin)極(ji)(ji)，使其(qi)射出原子(zi)，濺(jian)射出的(de)原子(zi)通(tong)過惰(duo)性(xing)氣氛沉積到基體(ti)上形成(cheng)膜。

(3)化(hua)學氣相沉(chen)積：通過(guo)熱(re)分解所選定的金屬化(hua)合物或有(you)機化(hua)合物，獲得(de)沉(chen)積薄膜的過(guo)程。

(4)離(li)子(zi)鍍：實質(zhi)上離(li)子(zi)鍍系真空蒸(zheng)鍍和陰極濺射鍍的(de)(de)有機結(jie)合，兼有兩者的(de)(de)工藝(yi)特點。表(biao)6-9列出了(le)各種鍍膜方法的(de)(de)優缺點。

2、光學鍍膜方法材(cai)料

(1)氟化鎂：無色四方晶系粉末，純度(du)高，用其制備光學鍍膜可提(ti)高透過(guo)率，不出崩(beng)點。

(2)二氧化(hua)硅：無色透(tou)明晶體，熔點(dian)高(gao)，硬度(du)大，化(hua)學穩定性好(hao)。純度(du)高(gao)，用其制備高(gao)質量Si02鍍膜，蒸發(fa)狀態好(hao)，不出現崩點(dian)。按使用要(yao)求分為紫外(wai)、紅外(wai)及可見光用。

(3)氧(yang)(yang)化鋯：白色重質結晶態，具有高的折射率和耐高溫性(xing)能(neng)，化學性(xing)質穩(wen)定，純(chun)度(du)高，用其制(zhi)備高質量氧(yang)(yang)化鋯鍍膜，不出崩(beng)點。