真空(kong)鍍膜機導(dao)致(zhi)不均的因素(su)哪些？專業從事這方面工作的朋友其實還是比較的了解(jie)的，它主要可以分為(wei)以下(xia)幾個(ge)因素(su)就是：真空(kong)狀態、磁場(chang)、氬氣。

　　蘇州真空鍍膜機運作就是通過真空狀態下正交磁場是電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。

　　蘇州真(zhen)空(kong)鍍膜(mo)真(zhen)空(kong)狀態(tai)就需要抽氣(qi)系統來進(jin)行控(kong)(kong)制(zhi)(zhi)，每個抽氣(qi)口都要同時開動(dong)并力度一致，這樣就能控(kong)(kong)制(zhi)(zhi)好抽氣(qi)的(de)(de)均勻性，如果抽氣(qi)不(bu)均勻，在真(zhen)空(kong)室內的(de)(de)壓(ya)強就不(bu)能均勻了，壓(ya)強對離子的(de)(de)運動(dong)是(shi)存在一定的(de)(de)影響的(de)(de)。另外抽氣(qi)的(de)(de)時間也要控(kong)(kong)制(zhi)(zhi)，太(tai)短會造成真(zhen)空(kong)度不(bu)夠，但(dan)太(tai)長(chang)又浪費資源(yuan)，不(bu)過有真(zhen)空(kong)計的(de)(de)存在，要控(kong)(kong)制(zhi)(zhi)好還是(shi)不(bu)成問題的(de)(de)。

　　磁場(chang)是(shi)正(zheng)交運(yun)作(zuo)的(de)，但你要將磁場(chang)強度(du)做到百(bai)分之一百(bai)均(jun)勻(yun)是(shi)不(bu)可(ke)能的(de)，一般磁場(chang)強的(de)地方(fang)，成膜(mo)厚度(du)就(jiu)大(da)，相反(fan)就(jiu)小(xiao)，所(suo)以(yi)會造(zao)成膜(mo)層厚度(du)的(de)不(bu)一致(zhi)，不(bu)過(guo)在生產過(guo)程中，由(you)于磁場(chang)的(de)不(bu)均(jun)勻(yun)導致(zhi)的(de)膜(mo)層不(bu)均(jun)勻(yun)的(de)情(qing)況卻不(bu)是(shi)常見的(de)，為什么呢？

　　原(yuan)(yuan)來磁場(chang)(chang)強弱雖(sui)不(bu)好(hao)進行控制，但同時工件也在(zai)同時運轉，且是(shi)靶(ba)材原(yuan)(yuan)子多(duo)次沉(chen)積(ji)此(ci)案結束(shu)鍍膜(mo)工序，在(zai)一段時間內雖(sui)然(ran)某些部(bu)位(wei)(wei)厚(hou)，某些部(bu)位(wei)(wei)薄(bo)，但另一個時間內，磁場(chang)(chang)強的作用下在(zai)原(yuan)(yuan)來薄(bo)的部(bu)位(wei)(wei)沉(chen)積(ji)上(shang)厚(hou)的，在(zai)厚(hou)的部(bu)位(wei)(wei)沉(chen)積(ji)上(shang)薄(bo)的，如此(ci)多(duo)次，整個膜(mo)層最終(zhong)成膜(mo)后，均(jun)勻性還是(shi)比較不(bu)錯的。

　　氬(ya)氣的送氣均勻(yun)性也會(hui)對膜(mo)層均勻(yun)性產生影響，其原理實際上和真空(kong)度差不多，因為氬(ya)氣的進入，真空(kong)室內壓(ya)強會(hui)產生變化，均勻(yun)的壓(ya)強大小可以控(kong)制成真空(kong)鍍膜(mo)機膜(mo)厚度的均勻(yun)性。

蘇(su)州真(zhen)空鍍膜設備鍍鋁工藝(yi)常見問(wen)題

蘇州真(zhen)空鍍(du)(du)膜(mo)(mo) 真(zhen)空鍍(du)(du)鋁是在真(zhen)空狀態(tai)下，將鋁金屬(shu)加熱(re)熔融(rong)至蒸騰(teng)，鋁原子凝結在高分(fen)子材(cai)(cai)料(liao)外(wai)(wai)表，構成極(ji)薄的(de)(de)鋁層。真(zhen)空鍍(du)(du)鋁請求基材(cai)(cai)外(wai)(wai)表潤(run)滑、平坦、厚(hou)度均勻;挺度和(he)摩擦系數恰當(dang);外(wai)(wai)表張(zhang)力大于38Dyn/Cm2;熱(re)性能好，經得起蒸騰(teng)源的(de)(de)熱(re)輻射(she)和(he)冷凝熱(re)的(de)(de)效(xiao)果(guo);基材(cai)(cai)含水量低于0.1%。常用的(de)(de)鍍(du)(du)鋁基材(cai)(cai)有聚(ju)(ju)酯(PET)、聚(ju)(ju)丙烯(xi)(PP)、聚(ju)(ju)酰胺(PA)、聚(ju)(ju)乙烯(xi)(PE)、聚(ju)(ju)氯乙烯(xi)(PVC)等薄膜(mo)(mo)。*真(zhen)空鍍(du)(du)膜(mo)(mo)設備(bei)* 鍍(du)(du)鋁技術有哪些常見問題?

　　1、鍍鋁時薄膜出(chu)現孔洞

　　原因：

　　①蒸騰舟(zhou)內鋁料(liao)太滿。解決方法：下降送(song)鋁速度(du);進步(bu)蒸騰舟(zhou)電流。

　　②真空室內(nei)蒸(zheng)騰舟之(zhi)間(jian)呈(cheng)現(xian)短(duan)路(lu)(lu)。解決方法：掃除短(duan)路(lu)(lu)。

　　③真空室內雜質飛(fei)濺

　　2、鍍鋁時薄膜出現拉伸現象

　　原(yuan)因：

　　①基(ji)材張力太大。解決(jue)方法：調節放卷(juan)、卷(juan)取張力操控體(ti)系，恰(qia)當削(xue)減張力。

　　②冷(leng)(leng)卻(que)體系(xi)工作異(yi)常(chang)。解決方法：查看冷(leng)(leng)卻(que)體系(xi)，并掃除故障。

　　3、薄(bo)膜表面出(chu)現褐色條紋(wen)

　　原因：

　　①真空度(du)低 解決(jue)方法：清洗真空室內(nei)的送鋁、蒸鍍設備、冷卻體系、放卷、卷取設備及導(dao)輥;查看抽真空體系;下(xia)降環境濕度(du)。

　　②薄膜釋放氣體。解決方(fang)法：薄膜預枯燥;延伸(shen)抽真(zhen)空時刻。

　　③噴鋁(lv)過多。解決方法：進(jin)步(bu)車速;下(xia)降蒸騰舟電(dian)流;下(xia)降送(song)鋁(lv)速度。

　　④蒸騰(teng)舟(zhou)內(nei)有(you)雜質。解決方法：清(qing)洗蒸騰(teng)舟(zhou)及熱屏蔽板。

　　⑤蒸(zheng)騰(teng)舟老(lao)化。解(jie)決方法(fa)：替換(huan)蒸(zheng)騰(teng)舟。

　　蘇州真空(kong)鍍(du)膜(mo)工藝要求：真空(kong)度(du)(du)(du)不得低于103PA，避免呈現褐色(se)條紋或鋁(lv)(lv)(lv)層厚度(du)(du)(du)不均表象;操控(kong)好體系張力(li)，敞開冷卻體系，避免薄膜(mo)受(shou)熱(re)呈現拉伸變(bian)形;準確操控(kong)卷取速(su)度(du)(du)(du)(280～320m/min)、送鋁(lv)(lv)(lv)速(su)度(du)(du)(du)(0.4～0.7m/min?2mm鋁(lv)(lv)(lv)絲)及蒸騰舟加熱(re)電流，以取得商品(pin)請求的(de)(de)(de)鋁(lv)(lv)(lv)層厚度(du)(du)(du)(100～300A°);可預先(xian)在薄膜(mo)上涂布(bu)必定干量的(de)(de)(de)底(di)膠，并充沛枯(ku)燥，再經(jing)真空(kong)鍍(du)鋁(lv)(lv)(lv)，可進步鋁(lv)(lv)(lv)層與薄膜(mo)的(de)(de)(de)結合力(li)。然后在鋁(lv)(lv)(lv)膜(mo)上涂布(bu)必定量的(de)(de)(de)維護樹脂，避免鋁(lv)(lv)(lv)層氧化蛻(tui)變(bian)。經(jing)此技術構成的(de)(de)(de)鍍(du)鋁(lv)(lv)(lv)薄膜(mo)，耐摩擦(ca)，且(qie)不易(yi)蛻(tui)變(bian)。