真(zhen)空(kong)(kong)鍍膜(mo)(mo)是真(zhen)空(kong)(kong)應(ying)用(yong)(yong)領(ling)域的(de)一(yi)個重要(yao)方面(mian)，它是以真(zhen)空(kong)(kong)技(ji)術為基(ji)礎(chu)，利用(yong)(yong)物(wu)理(li)或(huo)化(hua)學方法(fa)，并吸收電子(zi)(zi)束、分子(zi)(zi)束、離子(zi)(zi)束、等離子(zi)(zi)束、射頻(pin)和磁控(kong)等一(yi)系列新技(ji)術，為科學研究和實際生產提供(gong)薄膜(mo)(mo)制(zhi)備的(de)一(yi)種新工藝(yi)。簡單地說，在真(zhen)空(kong)(kong)中把金屬(shu)、合(he)金或(huo)化(hua)合(he)物(wu)進(jin)行蒸發或(huo)濺(jian)射，使其在被涂覆的(de)物(wu)體(ti)（稱(cheng)基(ji)板、基(ji)片或(huo)基(ji)體(ti)）上凝固并沉積的(de)方法(fa)，稱(cheng)為真(zhen)空(kong)(kong)鍍膜(mo)(mo)。

眾(zhong)所周知，在某(mou)些材(cai)料(liao)的(de)(de)(de)(de)表面(mian)上(shang)(shang)，只要(yao)鍍(du)(du)(du)上(shang)(shang)一(yi)層(ceng)薄(bo)(bo)(bo)膜，就能使材(cai)料(liao)具有許(xu)多(duo)新的(de)(de)(de)(de)、良好的(de)(de)(de)(de)物(wu)理和(he)(he)化學性能。20世紀(ji)70年代，在物(wu)體(ti)表面(mian)上(shang)(shang)鍍(du)(du)(du)膜的(de)(de)(de)(de)方(fang)法(fa)主要(yao)有電(dian)(dian)鍍(du)(du)(du)法(fa)和(he)(he)化學鍍(du)(du)(du)法(fa)。前者是(shi)通過通電(dian)(dian)，使電(dian)(dian)解液電(dian)(dian)解，被電(dian)(dian)解的(de)(de)(de)(de)離(li)子鍍(du)(du)(du)到作(zuo)為另一(yi)個(ge)電(dian)(dian)極(ji)的(de)(de)(de)(de)基(ji)體(ti)表面(mian)上(shang)(shang)，因(yin)此這(zhe)種(zhong)鍍(du)(du)(du)膜的(de)(de)(de)(de)條(tiao)件(jian)，基(ji)體(ti)必須是(shi)電(dian)(dian)的(de)(de)(de)(de)良導體(ti)，而(er)(er)且薄(bo)(bo)(bo)膜厚度也難以(yi)控制。后(hou)者是(shi)采用化學還(huan)原(yuan)(yuan)法(fa)，必須把膜材(cai)配制成溶液，并能迅速參加還(huan)原(yuan)(yuan)反應，這(zhe)種(zhong)鍍(du)(du)(du)膜方(fang)法(fa)不(bu)僅薄(bo)(bo)(bo)膜的(de)(de)(de)(de)結合強度差，而(er)(er)且鍍(du)(du)(du)膜既不(bu)均勻也不(bu)易控制，同時還(huan)會(hui)產生大量的(de)(de)(de)(de)廢液，造成嚴重的(de)(de)(de)(de)污(wu)染。因(yin)此，這(zhe)兩種(zhong)被人們稱之(zhi)為濕式鍍(du)(du)(du)膜法(fa)的(de)(de)(de)(de)鍍(du)(du)(du)膜工藝受(shou)到了很大的(de)(de)(de)(de)限制。

真空鍍膜(mo)則是相對于上(shang)述的(de)濕式鍍膜(mo)方法而發(fa)展起(qi)來的(de)一種新型鍍膜(mo)技(ji)術(shu)，通常(chang)稱為干式鍍膜(mo)

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