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蘇州辰杰真空鍍膜有限公司
金華加工電子產品真空鍍膜

金華加工電子產品真空鍍膜

  • 所屬分類：金華真(zhen)空鍍膜(mo)
  • 發布日期：2019-03-22
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

真空鍍(du)膜的(de)方法很多，計有(you)：

(1)真(zhen)空蒸(zheng)(zheng)鍍(du)：將(jiang)需(xu)鍍(du)膜(mo)的基體清洗后(hou)放到鍍(du)膜(mo)室，抽空后(hou)將(jiang)膜(mo)料加熱到高溫，使(shi)蒸(zheng)(zheng)氣達到約13.3Pa而使(shi)蒸(zheng)(zheng)氣分(fen)子飛(fei)到基體表面(mian)，凝(ning)結(jie)而成薄膜(mo)。

(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發輝光放電，帶正電的氬(ya)離子撞(zhuang)擊陰極(ji)，使其射(she)出原子，濺射(she)出的原子通過惰(duo)性氣氛沉積到基體上形(xing)成膜。

(3)化學氣相沉(chen)積：通過(guo)(guo)熱分解所選定的(de)金屬化合(he)物或有機化合(he)物，獲得(de)沉(chen)積薄膜的(de)過(guo)(guo)程。


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