真(zhen)空鍍(du)膜技術與(yu)濕式(shi)鍍(du)膜技術相比較，具有下列優點：

(1)薄(bo)膜和基(ji)體選材廣泛，薄(bo)膜厚度可(ke)進行(xing)控制，以制備具有各(ge)種不(bu)同功能的功能性薄(bo)膜。

(2)在(zai)真(zhen)空條件下制備(bei)薄膜，環境清潔，薄膜不(bu)易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均(jun)勻的(de)薄膜。

(3)薄膜(mo)與基(ji)體結合(he)強度好，薄膜(mo)牢固。

(4)干式鍍膜既(ji)不產生廢液，也無(wu)環(huan)境污染。

真(zhen)空(kong)(kong)鍍(du)膜技術主要有真(zhen)空(kong)(kong)蒸(zheng)發(fa)鍍(du)、真(zhen)空(kong)(kong)濺射鍍(du)、真(zhen)空(kong)(kong)離子鍍(du)、真(zhen)空(kong)(kong)束流沉(chen)(chen)積(ji)、化學(xue)氣(qi)相沉(chen)(chen)積(ji)等多(duo)種方法。除化學(xue)氣(qi)相沉(chen)(chen)積(ji)法外，其他(ta)幾種方法均具有以(yi)下的共同特點：

(1)各(ge)種鍍(du)膜技(ji)術都需要一個特定的真空(kong)環境，以(yi)保(bao)證(zheng)制膜材料在加熱蒸發或濺(jian)射過程中所形成(cheng)蒸氣分子的運(yun)動，不致受到大(da)氣中大(da)量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾(rao)，并消除(chu)大(da)氣中雜(za)質(zhi)的不良影響。

(2)各種鍍(du)(du)膜(mo)(mo)技術都需要有一個(ge)蒸(zheng)發源或靶子，以(yi)(yi)(yi)便把蒸(zheng)發制膜(mo)(mo)的材料轉化成氣體。由于(yu)源或靶的不斷改進，大大擴大了(le)制膜(mo)(mo)材料的選用范圍(wei)，無論(lun)是(shi)金屬(shu)(shu)、金屬(shu)(shu)合(he)金、金屬(shu)(shu)間化合(he)物、陶瓷或有機物質(zhi)，都可(ke)以(yi)(yi)(yi)蒸(zheng)鍍(du)(du)各種金屬(shu)(shu)膜(mo)(mo)和介質(zhi)膜(mo)(mo)，而(er)且(qie)還可(ke)以(yi)(yi)(yi)同時蒸(zheng)鍍(du)(du)不同材料而(er)得到多層膜(mo)(mo)。

(3)蒸發或濺射(she)出來的(de)制膜材料，在與待鍍的(de)工件(jian)生成薄膜的(de)過程中，對其(qi)膜厚可進行比較精確(que)的(de)測量(liang)和控制，從而保(bao)證膜厚的(de)均勻(yun)性。

(4)每種(zhong)薄(bo)膜都可以通過微調閥精確地控制鍍膜室(shi)中殘余氣(qi)體的(de)成分和質量分數(shu)，從而防止蒸鍍材料(liao)的(de)氧化，把(ba)氧的(de)質量分數(shu)降(jiang)低到(dao)最小的(de)程度，還可以充入(ru)惰性氣(qi)體等(deng)，這對于濕(shi)式(shi)鍍膜而言(yan)是無(wu)法實(shi)現的(de)。

(5)由于鍍(du)膜設(she)備的(de)(de)不斷改進，鍍(du)膜過程可以實現(xian)連續化，從而大大地提高產品的(de)(de)產量，而且(qie)在生產過程中對環境(jing)無(wu)污染。

(6)由于在真空條件(jian)下制膜(mo)，所(suo)以薄膜(mo)的純(chun)度(du)高、密實(shi)性好、表面光亮(liang)不(bu)需要(yao)再加工(gong)，這(zhe)就(jiu)使得薄膜(mo)的力學性能和化學性能比(bi)電(dian)鍍膜(mo)和化學膜(mo)好。

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