真空(kong)鍍(du)膜(mo)技術(shu)一般分為兩(liang)大類，即(ji)物(wu)理(li)氣(qi)相(xiang)沉積(ji)（PVD）技術(shu)和化學(xue)氣(qi)相(xiang)沉積(ji)（CVD）技術(shu)。

物(wu)理(li)(li)(li)氣相(xiang)沉(chen)積(ji)技(ji)(ji)術(shu)是(shi)指在(zai)真空條(tiao)件下，利用(yong)(yong)各種物(wu)理(li)(li)(li)方(fang)法(fa)，將鍍料氣化(hua)成原子(zi)(zi)(zi)、分子(zi)(zi)(zi)或使(shi)其離化(hua)為(wei)離子(zi)(zi)(zi)，直接沉(chen)積(ji)到基體表面上的(de)(de)(de)方(fang)法(fa)。制(zhi)備硬質(zhi)反應(ying)膜(mo)大多以(yi)物(wu)理(li)(li)(li)氣相(xiang)沉(chen)積(ji)方(fang)法(fa)制(zhi)得(de)，它利用(yong)(yong)某種物(wu)理(li)(li)(li)過程(cheng)，如(ru)物(wu)質(zhi)的(de)(de)(de)熱蒸發，或受到離子(zi)(zi)(zi)轟擊時物(wu)質(zhi)表面原子(zi)(zi)(zi)的(de)(de)(de)濺射等(deng)現象(xiang)，實現物(wu)質(zhi)原子(zi)(zi)(zi)從(cong)源物(wu)質(zhi)到薄(bo)膜(mo)的(de)(de)(de)可控轉移過程(cheng)。物(wu)理(li)(li)(li)氣相(xiang)沉(chen)積(ji)技(ji)(ji)術(shu)具(ju)有膜(mo)/基結合力好、薄(bo)膜(mo)均勻致密、薄(bo)膜(mo)厚度可控性好、應(ying)用(yong)(yong)的(de)(de)(de)靶材廣泛(fan)、濺射范(fan)圍寬、可沉(chen)積(ji)厚膜(mo)、可制(zhi)取成分穩定的(de)(de)(de)合金(jin)膜(mo)和重復性好等(deng)優點。同時，物(wu)理(li)(li)(li)氣相(xiang)沉(chen)積(ji)技(ji)(ji)術(shu)由(you)于(yu)其工(gong)(gong)(gong)藝處(chu)理(li)(li)(li)溫(wen)度可控制(zhi)在(zai)500℃以(yi)下，因此可作為(wei)最終(zhong)的(de)(de)(de)處(chu)理(li)(li)(li)工(gong)(gong)(gong)藝用(yong)(yong)于(yu)高速鋼(gang)和硬質(zhi)合金(jin)類(lei)的(de)(de)(de)薄(bo)膜(mo)刀(dao)具(ju)上。由(you)于(yu)采用(yong)(yong)物(wu)理(li)(li)(li)氣相(xiang)沉(chen)積(ji)工(gong)(gong)(gong)藝可大幅度提高刀(dao)具(ju)的(de)(de)(de)切削性能(neng)，人們在(zai)競相(xiang)開發高性能(neng)、高可靠性設備的(de)(de)(de)同時，也對其應(ying)用(yong)(yong)領域(yu)的(de)(de)(de)擴展，尤其是(shi)在(zai)高速鋼(gang)、硬質(zhi)合金(jin)和陶瓷類(lei)刀(dao)具(ju)中的(de)(de)(de)應(ying)用(yong)(yong)進行了更加(jia)深(shen)入的(de)(de)(de)研究。

化學(xue)(xue)氣相(xiang)沉(chen)(chen)積技術是把含有構成薄膜元(yuan)素的單質(zhi)氣體(ti)或(huo)(huo)化合(he)物供給(gei)基體(ti)，借助(zhu)氣相(xiang)作用(yong)或(huo)(huo)基體(ti)表面上的化學(xue)(xue)反應，在基體(ti)上制出金屬或(huo)(huo)化合(he)物薄膜的方法，主要包(bao)括常壓化學(xue)(xue)氣相(xiang)沉(chen)(chen)積、低壓化學(xue)(xue)氣相(xiang)沉(chen)(chen)積和兼有CVD和PVD兩(liang)者特點的等(deng)離子化學(xue)(xue)氣相(xiang)沉(chen)(chen)積等(deng)。 

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