真(zhen)(zhen)空鍍膜(mo)是真(zhen)(zhen)空應(ying)用(yong)領域的一(yi)個(ge)重要方面，它是以(yi)真(zhen)(zhen)空技術(shu)為(wei)基(ji)礎，利(li)用(yong)物理或化(hua)學方法(fa)(fa)，并吸收電(dian)子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控(kong)等一(yi)系列(lie)新技術(shu)，為(wei)科學研究和實際(ji)生產提供薄(bo)膜(mo)制備的一(yi)種新工(gong)藝(yi)。簡單地(di)說，在(zai)真(zhen)(zhen)空中把金屬、合(he)金或化(hua)合(he)物進行(xing)蒸發或濺射，使其在(zai)被(bei)涂覆的物體(ti)（稱基(ji)板、基(ji)片或基(ji)體(ti)）上凝固并沉積的方法(fa)(fa)，稱為(wei)真(zhen)(zhen)空鍍膜(mo)。

眾所周知，在(zai)某(mou)些材料的(de)表(biao)面(mian)(mian)上(shang)(shang)(shang)，只要鍍(du)(du)上(shang)(shang)(shang)一(yi)(yi)層薄膜(mo)(mo)(mo)，就(jiu)能使(shi)材料具有許多新的(de)、良(liang)好的(de)物(wu)理(li)和化學(xue)性能。20世(shi)紀70年代，在(zai)物(wu)體表(biao)面(mian)(mian)上(shang)(shang)(shang)鍍(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)的(de)方法(fa)(fa)(fa)主要有電(dian)鍍(du)(du)法(fa)(fa)(fa)和化學(xue)鍍(du)(du)法(fa)(fa)(fa)。前(qian)者是通(tong)過通(tong)電(dian)，使(shi)電(dian)解液(ye)電(dian)解，被電(dian)解的(de)離子鍍(du)(du)到(dao)作為另一(yi)(yi)個電(dian)極的(de)基(ji)體表(biao)面(mian)(mian)上(shang)(shang)(shang)，因此(ci)(ci)這種鍍(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)的(de)條件，基(ji)體必須(xu)是電(dian)的(de)良(liang)導體，而且薄膜(mo)(mo)(mo)厚度(du)也難以控(kong)制(zhi)。后者是采(cai)用化學(xue)還(huan)原法(fa)(fa)(fa)，必須(xu)把(ba)膜(mo)(mo)(mo)材配(pei)制(zhi)成(cheng)溶液(ye)，并(bing)能迅(xun)速(su)參加還(huan)原反(fan)應(ying)，這種鍍(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)方法(fa)(fa)(fa)不(bu)僅薄膜(mo)(mo)(mo)的(de)結(jie)合強度(du)差，而且鍍(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)既(ji)不(bu)均勻(yun)也不(bu)易控(kong)制(zhi)，同時還(huan)會產生大量的(de)廢液(ye)，造成(cheng)嚴重的(de)污染(ran)。因此(ci)(ci)，這兩(liang)種被人們(men)稱之為濕式(shi)鍍(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)法(fa)(fa)(fa)的(de)鍍(du)(du)膜(mo)(mo)(mo)工藝受到(dao)了很大的(de)限制(zhi)。

真(zhen)空鍍(du)膜(mo)(mo)則是相對于上(shang)述的(de)濕式(shi)鍍(du)膜(mo)(mo)方法(fa)而(er)發展(zhan)起來的(de)一種新型鍍(du)膜(mo)(mo)技術，通常稱(cheng)為(wei)干(gan)式(shi)鍍(du)膜(mo)(mo)

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