真空(kong)鍍(du)膜(mo)應(ying)用(yong)(yong)是真空(kong)應(ying)用(yong)(yong)中(zhong)的(de)一(yi)個大(da)(da)分(fen)支，在光學(xue)、電子學(xue)、理化儀器、包裝、機(ji)械以及(ji)表面處(chu)理技術等(deng)眾多方(fang)面有著(zhu)十分(fen)廣泛(fan)的(de)應(ying)用(yong)(yong)。為了(le)(le)讓大(da)(da)家(jia)更詳(xiang)細(xi)的(de)了(le)(le)解(jie)真空(kong)鍍(du)膜(mo)的(de)應(ying)用(yong)(yong)，今天小編詳(xiang)細(xi)為大(da)(da)家(jia)介紹真空(kong)鍍(du)膜(mo)應(ying)用(yong)(yong)的(de)主(zhu)要(yao)幾種方(fang)法(fa)，希望對大(da)(da)家(jia)有用(yong)(yong)！真空(kong)鍍(du)膜(mo)應(ying)用(yong)(yong)，簡單地(di)理解(jie)就(jiu)是在真空(kong)環境(jing)下，利用(yong)(yong)蒸(zheng)鍍(du)、濺射以及(ji)隨(sui)后(hou)凝結的(de)辦法(fa)，在金(jin)屬、玻(bo)璃、陶瓷、半導體以及(ji)塑(su)料(liao)件等(deng)物體上鍍(du)上金(jin)屬薄膜(mo)或者是覆蓋層。相對于(yu)傳(chuan)統鍍(du)膜(mo)方(fang)式，真空(kong)鍍(du)膜(mo)應(ying)用(yong)(yong)屬于(yu)一(yi)種干式鍍(du)膜(mo)，它的(de)主(zhu)要(yao)方(fang)法(fa)包括(kuo)以下幾種：

其(qi)原理是在真空條件下，用蒸發器加熱(re)帶蒸發物質，使其(qi)氣(qi)化或(huo)升華，蒸發離子(zi)流直接射向基(ji)片，并在基(ji)片上沉積析出固(gu)態薄膜的技術(shu)。

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