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蘇州辰杰真空鍍膜有限公司
太倉加工電子產品真空鍍膜

太倉加工電子產品真空鍍膜

  • 所屬分類：太倉真空鍍(du)膜
  • 發布日期：2019-03-22
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

真空鍍(du)膜的方法很多，計有：

(1)真空蒸鍍(du)：將(jiang)需鍍(du)膜的基體清洗后放到鍍(du)膜室(shi)，抽空后將(jiang)膜料(liao)加熱到高溫，使(shi)蒸氣達到約13.3Pa而使(shi)蒸氣分子飛到基體表面，凝結而成薄膜。

(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內，保持壓強約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發輝光放電，帶正(zheng)電的(de)氬離子撞(zhuang)擊陰極，使(shi)其射(she)出(chu)原子，濺(jian)射(she)出(chu)的(de)原子通過惰性氣氛沉積到基體上(shang)形(xing)成膜。

(3)化學氣相沉(chen)積：通過(guo)熱分解所選(xuan)定的金屬化合物或(huo)有機化合物，獲得沉(chen)積薄膜的過(guo)程。


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