真空(kong)鍍(du)膜是真空(kong)應用(yong)領域(yu)的一(yi)個重要(yao)方面(mian)，它是以真空(kong)技(ji)術為(wei)基(ji)(ji)(ji)礎，利用(yong)物(wu)理或化(hua)(hua)學方法，并吸(xi)收電子束、分子束、離子束、等(deng)離子束、射頻和磁控等(deng)一(yi)系列新技(ji)術，為(wei)科學研究(jiu)和實(shi)際生產提(ti)供薄(bo)膜制備(bei)的一(yi)種新工(gong)藝。簡單地(di)說，在真空(kong)中把金(jin)屬、合金(jin)或化(hua)(hua)合物(wu)進行(xing)蒸發或濺射，使其(qi)在被(bei)涂覆(fu)的物(wu)體（稱(cheng)基(ji)(ji)(ji)板、基(ji)(ji)(ji)片(pian)或基(ji)(ji)(ji)體）上凝固(gu)并沉(chen)積的方法，稱(cheng)為(wei)真空(kong)鍍(du)膜。

眾(zhong)所周知，在(zai)(zai)某些材(cai)料的(de)(de)表面上，只(zhi)要鍍(du)上一層薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)，就能(neng)(neng)使材(cai)料具(ju)有許(xu)多新的(de)(de)、良(liang)好的(de)(de)物理和化學(xue)性能(neng)(neng)。20世紀70年代，在(zai)(zai)物體(ti)表面上鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)方(fang)法主要有電鍍(du)法和化學(xue)鍍(du)法。前(qian)者是通(tong)過(guo)通(tong)電，使電解(jie)液(ye)電解(jie)，被電解(jie)的(de)(de)離子(zi)鍍(du)到(dao)作為(wei)另一個(ge)電極的(de)(de)基(ji)體(ti)表面上，因此這(zhe)種(zhong)(zhong)鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)條(tiao)件，基(ji)體(ti)必(bi)(bi)須(xu)(xu)是電的(de)(de)良(liang)導體(ti)，而(er)且薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)厚度也難以控制(zhi)。后者是采用化學(xue)還(huan)原(yuan)法，必(bi)(bi)須(xu)(xu)把膜(mo)(mo)(mo)材(cai)配制(zhi)成溶(rong)液(ye)，并能(neng)(neng)迅速參加還(huan)原(yuan)反應，這(zhe)種(zhong)(zhong)鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)方(fang)法不僅薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)結(jie)合強度差，而(er)且鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)既不均(jun)勻也不易控制(zhi)，同時還(huan)會產生大量的(de)(de)廢液(ye)，造成嚴重(zhong)的(de)(de)污染。因此，這(zhe)兩種(zhong)(zhong)被人們稱(cheng)之為(wei)濕式鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)法的(de)(de)鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)工藝(yi)受到(dao)了很大的(de)(de)限制(zhi)。

真空鍍(du)膜(mo)則是(shi)相對(dui)于上述(shu)的(de)濕式鍍(du)膜(mo)方法(fa)而發展(zhan)起來(lai)的(de)一種新型(xing)鍍(du)膜(mo)技術(shu)，通常稱為干(gan)式鍍(du)膜(mo)

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