真空(kong)鍍膜的方(fang)法(fa)很多,計有:
(1)真空蒸(zheng)(zheng)鍍:將(jiang)需鍍膜(mo)的基體清洗后放到鍍膜(mo)室(shi),抽空后將(jiang)膜(mo)料加熱到高溫,使(shi)蒸(zheng)(zheng)氣達到約13.3Pa而(er)使(shi)蒸(zheng)(zheng)氣分(fen)子飛到基體表面,凝結而(er)成薄膜(mo)。
(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內,保持壓強約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發輝光放電(dian),帶正(zheng)電(dian)的(de)氬離(li)子撞擊陰極,使其射(she)出原子,濺射(she)出的(de)原子通過惰(duo)性氣氛沉積(ji)到基體上形成膜(mo)。
(3)化學氣相(xiang)沉積(ji):通過熱(re)分解(jie)所選定的金屬化合物或有機(ji)化合物,獲得(de)沉積(ji)薄(bo)膜的過程。
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