真空鍍膜技術(shu)與濕式鍍膜技術(shu)相比(bi)較，具有(you)下列優點：

(1)薄(bo)膜(mo)和基體選材廣泛(fan)，薄(bo)膜(mo)厚度可進行控制，以制備具有各種不同功(gong)能(neng)的(de)功(gong)能(neng)性薄(bo)膜(mo)。

(2)在真(zhen)空條件下制備薄(bo)膜，環境(jing)清潔，薄(bo)膜不易受到污染(ran)，因此可獲得致密性好、純(chun)度高和涂層均勻的(de)薄(bo)膜。

(3)薄(bo)膜與基體結合強度好，薄(bo)膜牢固。

(4)干式鍍膜既不(bu)產生廢(fei)液(ye)，也(ye)無環境污染。

真(zhen)空(kong)(kong)鍍(du)膜技術主要有(you)真(zhen)空(kong)(kong)蒸發鍍(du)、真(zhen)空(kong)(kong)濺射(she)鍍(du)、真(zhen)空(kong)(kong)離子鍍(du)、真(zhen)空(kong)(kong)束流(liu)沉積、化(hua)學氣相(xiang)沉積等多種方(fang)法。除(chu)化(hua)學氣相(xiang)沉積法外，其他(ta)幾種方(fang)法均(jun)具有(you)以下的(de)共(gong)同特點：

(1)各種鍍膜技術(shu)都需要一個(ge)特定的(de)(de)真(zhen)空環境，以保證制(zhi)膜材料在加熱蒸(zheng)發或濺(jian)射過程中所形成蒸(zheng)氣(qi)分子的(de)(de)運動，不致受到大氣(qi)中大量氣(qi)體分子的(de)(de)碰撞、阻擋和(he)干擾，并消除大氣(qi)中雜(za)質的(de)(de)不良影響。

(2)各(ge)種(zhong)鍍膜(mo)技術都(dou)需要有一個蒸(zheng)(zheng)發(fa)(fa)源(yuan)(yuan)或(huo)(huo)靶(ba)子，以(yi)(yi)便把蒸(zheng)(zheng)發(fa)(fa)制膜(mo)的材料轉化成氣(qi)體。由于源(yuan)(yuan)或(huo)(huo)靶(ba)的不斷改進，大(da)(da)(da)大(da)(da)(da)擴大(da)(da)(da)了制膜(mo)材料的選用范(fan)圍，無(wu)論是(shi)金(jin)(jin)屬(shu)(shu)、金(jin)(jin)屬(shu)(shu)合(he)金(jin)(jin)、金(jin)(jin)屬(shu)(shu)間化合(he)物(wu)、陶瓷或(huo)(huo)有機物(wu)質(zhi)，都(dou)可以(yi)(yi)蒸(zheng)(zheng)鍍各(ge)種(zhong)金(jin)(jin)屬(shu)(shu)膜(mo)和介(jie)質(zhi)膜(mo)，而且還可以(yi)(yi)同時蒸(zheng)(zheng)鍍不同材料而得到多層(ceng)膜(mo)。

(3)蒸發(fa)或濺射(she)出來的(de)(de)制膜材料，在與(yu)待鍍的(de)(de)工件生成薄(bo)膜的(de)(de)過(guo)程中，對其膜厚(hou)可進行比較(jiao)精(jing)確的(de)(de)測量和控制，從而保證膜厚(hou)的(de)(de)均勻性。

(4)每種(zhong)薄膜(mo)都可以(yi)通過微調閥精確地控制(zhi)鍍(du)膜(mo)室中(zhong)殘余氣(qi)體的(de)(de)成分和質量分數，從而防止蒸鍍(du)材料(liao)的(de)(de)氧(yang)化(hua)，把氧(yang)的(de)(de)質量分數降(jiang)低到最小的(de)(de)程度，還可以(yi)充入惰性氣(qi)體等，這對于濕(shi)式(shi)鍍(du)膜(mo)而言是無法實現的(de)(de)。

(5)由于鍍(du)膜設備的不斷(duan)改進，鍍(du)膜過(guo)程(cheng)可以實現連續化，從(cong)而(er)大大地提高產品的產量，而(er)且在生產過(guo)程(cheng)中對環境(jing)無污(wu)染。

(6)由于在真空條(tiao)件下(xia)制膜(mo)，所以薄(bo)膜(mo)的純度高、密(mi)實性好、表面光亮不(bu)需要再加工，這(zhe)就使(shi)得薄(bo)膜(mo)的力學(xue)(xue)性能(neng)和化學(xue)(xue)性能(neng)比電鍍膜(mo)和化學(xue)(xue)膜(mo)好。

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