真(zhen)空(kong)鍍(du)膜(mo)是(shi)真(zhen)空(kong)應用領(ling)域的一個重要方面，它是(shi)以真(zhen)空(kong)技術為基(ji)(ji)礎，利用物(wu)理(li)或(huo)(huo)化學方法(fa)，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提(ti)供薄(bo)膜(mo)制(zhi)備的一種新工藝。簡單(dan)地說，在真(zhen)空(kong)中把金屬、合金或(huo)(huo)化合物(wu)進(jin)行蒸發或(huo)(huo)濺(jian)射，使(shi)其在被涂覆的物(wu)體(ti)（稱基(ji)(ji)板、基(ji)(ji)片或(huo)(huo)基(ji)(ji)體(ti)）上凝固并沉(chen)積(ji)的方法(fa)，稱為真(zhen)空(kong)鍍(du)膜(mo)。

眾所(suo)周知，在某些材(cai)料(liao)的(de)(de)(de)表面上(shang)，只要鍍(du)(du)上(shang)一層(ceng)薄膜(mo)，就能使材(cai)料(liao)具有(you)許多新(xin)的(de)(de)(de)、良(liang)好的(de)(de)(de)物(wu)(wu)理和化(hua)學(xue)性能。20世紀70年代，在物(wu)(wu)體表面上(shang)鍍(du)(du)膜(mo)的(de)(de)(de)方法主要有(you)電(dian)鍍(du)(du)法和化(hua)學(xue)鍍(du)(du)法。前者(zhe)是通過(guo)通電(dian)，使電(dian)解(jie)液(ye)電(dian)解(jie)，被(bei)電(dian)解(jie)的(de)(de)(de)離子鍍(du)(du)到作為另一個電(dian)極的(de)(de)(de)基(ji)體表面上(shang)，因此(ci)這(zhe)種鍍(du)(du)膜(mo)的(de)(de)(de)條件，基(ji)體必(bi)須是電(dian)的(de)(de)(de)良(liang)導(dao)體，而且(qie)薄膜(mo)厚(hou)度(du)也(ye)難(nan)以(yi)控制(zhi)。后者(zhe)是采(cai)用(yong)化(hua)學(xue)還(huan)原法，必(bi)須把(ba)膜(mo)材(cai)配制(zhi)成溶液(ye)，并能迅(xun)速參加還(huan)原反(fan)應(ying)，這(zhe)種鍍(du)(du)膜(mo)方法不僅(jin)薄膜(mo)的(de)(de)(de)結(jie)合強度(du)差，而且(qie)鍍(du)(du)膜(mo)既不均勻也(ye)不易控制(zhi)，同(tong)時還(huan)會產(chan)生大量(liang)的(de)(de)(de)廢液(ye)，造成嚴重的(de)(de)(de)污染。因此(ci)，這(zhe)兩(liang)種被(bei)人們稱(cheng)之為濕式鍍(du)(du)膜(mo)法的(de)(de)(de)鍍(du)(du)膜(mo)工藝受到了很大的(de)(de)(de)限制(zhi)。

真空鍍膜(mo)(mo)則是(shi)相對于上述(shu)的濕式(shi)鍍膜(mo)(mo)方法而發展(zhan)起來的一種新型鍍膜(mo)(mo)技(ji)術，通常稱為干式(shi)鍍膜(mo)(mo)

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