真空鍍(du)膜技(ji)術一般分(fen)為(wei)兩大類，即物理氣相沉(chen)積（PVD）技(ji)術和化(hua)學氣相沉(chen)積（CVD）技(ji)術。

物理氣相沉(chen)(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)(ji)技(ji)(ji)術(shu)(shu)(shu)是指在(zai)真空條件(jian)下(xia)(xia)，利用(yong)各種(zhong)物理方(fang)(fang)法(fa)，將(jiang)鍍料氣化成原子、分(fen)子或使其(qi)(qi)離化為(wei)離子，直接(jie)沉(chen)(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)(ji)到(dao)(dao)基(ji)體表面(mian)上的(de)(de)(de)方(fang)(fang)法(fa)。制備硬質反應(ying)膜(mo)大多以物理氣相沉(chen)(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)(ji)方(fang)(fang)法(fa)制得，它利用(yong)某(mou)種(zhong)物理過程，如(ru)物質的(de)(de)(de)熱(re)蒸(zheng)發(fa)(fa)，或受到(dao)(dao)離子轟擊時物質表面(mian)原子的(de)(de)(de)濺(jian)射等現象，實現物質原子從源物質到(dao)(dao)薄(bo)膜(mo)的(de)(de)(de)可(ke)(ke)(ke)控(kong)轉移過程。物理氣相沉(chen)(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)(ji)技(ji)(ji)術(shu)(shu)(shu)具有膜(mo)/基(ji)結合(he)力好、薄(bo)膜(mo)均勻致密、薄(bo)膜(mo)厚度可(ke)(ke)(ke)控(kong)性(xing)好、應(ying)用(yong)的(de)(de)(de)靶材廣泛、濺(jian)射范(fan)圍寬、可(ke)(ke)(ke)沉(chen)(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)(ji)厚膜(mo)、可(ke)(ke)(ke)制取成分(fen)穩定(ding)的(de)(de)(de)合(he)金膜(mo)和重復性(xing)好等優點(dian)。同時，物理氣相沉(chen)(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)(ji)技(ji)(ji)術(shu)(shu)(shu)由(you)于其(qi)(qi)工藝(yi)處(chu)理溫度可(ke)(ke)(ke)控(kong)制在(zai)500℃以下(xia)(xia)，因此(ci)可(ke)(ke)(ke)作為(wei)最終的(de)(de)(de)處(chu)理工藝(yi)用(yong)于高速鋼和硬質合(he)金類的(de)(de)(de)薄(bo)膜(mo)刀(dao)(dao)具上。由(you)于采用(yong)物理氣相沉(chen)(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)(ji)工藝(yi)可(ke)(ke)(ke)大幅度提(ti)高刀(dao)(dao)具的(de)(de)(de)切削性(xing)能，人們在(zai)競相開發(fa)(fa)高性(xing)能、高可(ke)(ke)(ke)靠性(xing)設備的(de)(de)(de)同時，也對其(qi)(qi)應(ying)用(yong)領(ling)域的(de)(de)(de)擴(kuo)展，尤其(qi)(qi)是在(zai)高速鋼、硬質合(he)金和陶(tao)瓷類刀(dao)(dao)具中的(de)(de)(de)應(ying)用(yong)進行了更加深入的(de)(de)(de)研究(jiu)。

化(hua)學氣相(xiang)沉(chen)積(ji)技術是把含有(you)構成薄(bo)膜(mo)元(yuan)素的單質氣體(ti)(ti)(ti)或化(hua)合物(wu)供給基(ji)(ji)體(ti)(ti)(ti)，借助(zhu)氣相(xiang)作(zuo)用或基(ji)(ji)體(ti)(ti)(ti)表面上(shang)的化(hua)學反應，在基(ji)(ji)體(ti)(ti)(ti)上(shang)制出金屬或化(hua)合物(wu)薄(bo)膜(mo)的方(fang)法(fa)，主要包(bao)括常(chang)壓化(hua)學氣相(xiang)沉(chen)積(ji)、低壓化(hua)學氣相(xiang)沉(chen)積(ji)和(he)兼有(you)CVD和(he)PVD兩者特點的等(deng)離子化(hua)學氣相(xiang)沉(chen)積(ji)等(deng)。 

資料整理中...

資料整理(li)中...