真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相(xiang)比較，具有下列優點：

(1)薄膜(mo)和基體選材廣泛，薄膜(mo)厚度可(ke)進行控制，以(yi)制備具有各(ge)種不同功能的功能性薄膜(mo)。

(2)在真空(kong)條件下制(zhi)備薄(bo)膜，環(huan)境清(qing)潔，薄(bo)膜不易受到污染，因此可獲得(de)致(zhi)密性好、純度(du)高和涂層(ceng)均勻的(de)薄(bo)膜。

(3)薄(bo)膜與基體結合(he)強度好，薄(bo)膜牢固。

(4)干(gan)式鍍膜既不產生廢液(ye)，也無環境污染(ran)。

真空(kong)鍍(du)(du)(du)膜技術主要有真空(kong)蒸(zheng)發(fa)鍍(du)(du)(du)、真空(kong)濺射鍍(du)(du)(du)、真空(kong)離(li)子鍍(du)(du)(du)、真空(kong)束流沉積、化學氣相沉積等(deng)多(duo)種方法(fa)。除化學氣相沉積法(fa)外，其(qi)他幾種方法(fa)均(jun)具有以下的(de)共同特點：

(1)各種鍍膜技(ji)術都需要一個特定(ding)的真(zhen)空環境(jing)，以保證制膜材料(liao)在(zai)加熱蒸發或濺(jian)射過程中所形(xing)成蒸氣分(fen)子的運動，不(bu)致受到大氣中大量氣體(ti)分(fen)子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質的不(bu)良影(ying)響。

(2)各種鍍(du)膜(mo)(mo)技(ji)術都需(xu)要有一個蒸(zheng)發源或靶(ba)子，以便把(ba)蒸(zheng)發制(zhi)膜(mo)(mo)的材(cai)料轉(zhuan)化成氣(qi)體。由于源或靶(ba)的不斷(duan)改進(jin)，大大擴大了制(zhi)膜(mo)(mo)材(cai)料的選用范圍，無論是金屬(shu)(shu)、金屬(shu)(shu)合(he)金、金屬(shu)(shu)間化合(he)物(wu)、陶瓷或有機物(wu)質(zhi)，都可(ke)以蒸(zheng)鍍(du)各種金屬(shu)(shu)膜(mo)(mo)和介質(zhi)膜(mo)(mo)，而(er)且(qie)還(huan)可(ke)以同(tong)時蒸(zheng)鍍(du)不同(tong)材(cai)料而(er)得到多層膜(mo)(mo)。

(3)蒸發或濺射(she)出來的(de)制膜(mo)(mo)材料，在與待(dai)鍍的(de)工件生成薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)過程中，對其膜(mo)(mo)厚可進行比較(jiao)精確的(de)測量和控(kong)制，從而(er)保證膜(mo)(mo)厚的(de)均(jun)勻性。

(4)每種薄膜都可以(yi)通過微調(diao)閥(fa)精確(que)地控制鍍膜室中殘余氣體的(de)(de)成分(fen)(fen)和質量分(fen)(fen)數，從而(er)防(fang)止蒸鍍材(cai)料的(de)(de)氧化(hua)，把(ba)氧的(de)(de)質量分(fen)(fen)數降(jiang)低到最小的(de)(de)程(cheng)度，還(huan)可以(yi)充入惰(duo)性氣體等(deng)，這對于濕式(shi)鍍膜而(er)言是無法實現的(de)(de)。

(5)由于鍍膜(mo)設備的(de)不斷改進，鍍膜(mo)過程可以實現連續(xu)化，從而大(da)大(da)地提高(gao)產品的(de)產量，而且在生產過程中對環(huan)境無污染。

(6)由于在(zai)真空(kong)條件下制膜，所以薄膜的純度高(gao)、密(mi)實性(xing)好、表面(mian)光亮不需(xu)要再加(jia)工(gong)，這就使得薄膜的力學性(xing)能和化學性(xing)能比(bi)電鍍(du)膜和化學膜好。

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