真空鍍(du)膜的(de)方法(fa)很(hen)多,計有(you):
(1)真空(kong)(kong)蒸鍍(du):將(jiang)需鍍(du)膜(mo)的基體清洗后放(fang)到(dao)鍍(du)膜(mo)室,抽(chou)空(kong)(kong)后將(jiang)膜(mo)料加熱到(dao)高溫(wen),使蒸氣達到(dao)約13.3Pa而使蒸氣分(fen)子飛到(dao)基體表面,凝結而成薄(bo)膜(mo)。
(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內,保持壓強約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發輝光放電,帶正電的(de)氬離子撞擊陰(yin)極,使其(qi)射出原子,濺射出的(de)原子通(tong)過(guo)惰性氣氛沉積(ji)到基體上(shang)形(xing)成膜。
(3)化學氣相沉積:通過熱分解所(suo)選定的金屬化合(he)物(wu)(wu)或有機化合(he)物(wu)(wu),獲得沉積薄膜(mo)的過程(cheng)。
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蘇(su)州辰杰真(zhen)空(kong)鍍(du)膜有(you)限公(gong)司(si)
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