真(zhen)空鍍膜(mo)技術通常應(ying)用(yong)在哪些(xie)領域(yu)？

1、在裝(zhuang)飾品方面(mian)

隨著經濟的發展(zhan)和生(sheng)(sheng)活水平的提高(gao)，人們(men)喜(xi)歡將(jiang)手(shou)表(biao)殼、表(biao)帶、服飾、燈飾、眼鏡(jing)架、室內外(wai)裝(zhuang)飾件(jian)、五金箱包(bao)、手(shou)機殼、手(shou)機視屏(ping)、衛生(sheng)(sheng)潔具、食品包(bao)裝(zhuang)等裝(zhuang)飾品精(jing)飾得五彩繽紛。

2、在刀具(ju)(ju)、模具(ju)(ju)等金屬切削加(jia)工工具(ju)(ju)方面

在(zai)生(sheng)活中，我(wo)們會看到金黃色(se)的、鈷(gu)銅色(se)的、黑色(se)的等七雜八色(se)的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經過鍍膜技術加工(gong)后的涂層工(gong)具。

（1）金黃色的，是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN涂層，TiN是第(di)一(yi)代應(ying)用廣泛的硬質層材料。

（2）黑色的，是(shi)在切(qie)削工具上涂了TiC、CrN涂層。

（3）鈷銅色的，是在刀具(ju)上鍍涂(tu)(tu)了TiALN涂(tu)(tu)層。

3、在(zai)建筑玻璃(li)和汽車(che)玻璃(li)上

建筑玻(bo)(bo)璃(li)有(you)(you)透光(guang)(guang)和隔熱兩個(ge)基本功能(neng)。普(pu)通(tong)玻(bo)(bo)璃(li)能(neng)透過絕大(da)部分太陽(yang)光(guang)(guang)輻射能(neng)量，這(zhe)對采光(guang)(guang)和吸(xi)收(shou)太陽(yang)光(guang)(guang)線的(de)(de)能(neng)量十分有(you)(you)利。而(er)對于(yu)空間紅外輻射，普(pu)通(tong)玻(bo)(bo)璃(li)雖(sui)能(neng)阻止(zhi)室內的(de)(de)熱量直接透過室外，但(dan)熱量被(bei)玻(bo)(bo)璃(li)吸(xi)收(shou)后的(de)(de)二(er)次散熱也會造成很(hen)大(da)的(de)(de)損失。隨(sui)著(zhu)經濟的(de)(de)發(fa)展，普(pu)通(tong)玻(bo)(bo)璃(li)已越來越不(bu)能(neng)滿足(zu)(zu)人們的(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)，而(er)陽(yang)光(guang)(guang)控制(zhi)膜(mo)和低(di)(di)輻射膜(mo)正好能(neng)彌補(bu)了(le)普(pu)通(tong)玻(bo)(bo)璃(li)在(zai)這(zhe)一方(fang)面的(de)(de)不(bu)足(zu)(zu)。陽(yang)光(guang)(guang)控制(zhi)膜(mo)可以滿足(zu)(zu)低(di)(di)緯(wei)度地區降低(di)(di)室內溫度的(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)；而(er)低(di)(di)輻射膜(mo)則能(neng)滿足(zu)(zu)高緯(wei)度地區充分接受(shou)太陽(yang)輻射能(neng)量和最大(da)限度阻止(zhi)室內熱量外流的(de)(de)要(yao)求(qiu)(qiu)。在(zai)玻(bo)(bo)璃(li)上，鍍涂(tu)一層TiO2就能(neng)使其變成防霧、防露和自清(qing)潔玻(bo)(bo)璃(li)，這(zhe)種(zhong)工藝在(zai)汽車玻(bo)(bo)璃(li)上有(you)(you)很(hen)好的(de)(de)應(ying)用。

4、在平板顯示(shi)器中

所(suo)有(you)各類平(ping)板(ban)顯示器(qi)(qi)都(dou)要用(yong)到各種類型的(de)薄膜，而且，幾(ji)乎所(suo)有(you)類型的(de)平(ping)板(ban)顯示器(qi)(qi)件都(dou)需要使用(yong)ITO膜，以(yi)滿足透明電器(qi)(qi)的(de)要求。可以(yi)毫不夸張的(de)說，沒有(you)薄膜技術，就沒有(you)平(ping)板(ban)顯示器(qi)(qi)件。

5、在太(tai)陽能利用方面

當需要(yao)有(you)效地利用太(tai)(tai)(tai)陽(yang)(yang)熱(re)能時，就要(yao)考慮采用對(dui)(dui)太(tai)(tai)(tai)陽(yang)(yang)光線吸收(shou)較(jiao)多、而對(dui)(dui)熱(re)輻(fu)射(she)等所引起(qi)的(de)(de)損耗較(jiao)小的(de)(de)吸收(shou)面。太(tai)(tai)(tai)陽(yang)(yang)光譜(pu)的(de)(de)峰值大約在波長為(wei)2-20μm之間(jian)的(de)(de)紅外(wai)波段。由于太(tai)(tai)(tai)陽(yang)(yang)輻(fu)射(she)與熱(re)輻(fu)射(she)光譜(pu)在波段上有(you)差異，因此，為(wei)了(le)有(you)效地利用太(tai)(tai)(tai)陽(yang)(yang)熱(re)能，就必(bi)須考慮采用具有(you)波長選擇特性的(de)(de)吸收(shou)面。理想的(de)(de)選擇吸收(shou)面，是太(tai)(tai)(tai)陽(yang)(yang)輻(fu)射(she)光譜(pu)的(de)(de)波段（可(ke)見光波段）吸收(shou)率（α）為(wei)1，在熱(re)輻(fu)射(she)波段（紅外(wai)波段）輻(fu)射(she)率（ε）為(wei)0。

6、在防偽技術中

防偽膜(mo)種類很(hen)多，從(cong)(cong)使用方法可(ke)分為反射(she)式(shi)和透射(she)式(shi)；從(cong)(cong)膜(mo)系附著方式(shi)可(ke)以(yi)分為直接鍍膜(mo)式(shi)、間接鍍膜(mo)式(shi)或(huo)間接鍍膜(mo)剪貼式(shi)。

7、在(zai)飛機防(fang)護涂層方面

飛(fei)(fei)機(ji)的鈦合金緊固件(jian)，原來采用(yong)電鍍(du)(du)方法(fa)鍍(du)(du)鎘。但在鍍(du)(du)鎘中(zhong)含有(you)氫(qing)，所以在飛(fei)(fei)行過程中(zhong)，受到(dao)大(da)氣、海(hai)水的腐蝕，鍍(du)(du)層上容易產生“鎘脆”，甚(shen)至(zhi)引起“空難”。1964年，采用(yong)離(li)子(zi)鍍(du)(du)方法(fa)在鈦合金緊固件(jian)上鍍(du)(du)鋁，解決了飛(fei)(fei)機(ji)零件(jian)的“鎘脆”問題。在離(li)子(zi)鍍(du)(du)技術中(zhong)，由于(yu)給工件(jian)施(shi)加負(fu)偏(pian)壓(ya)，可(ke)以形(xing)成(cheng)“偽擴散層”、細化膜層組織，因(yin)此(ci)，可(ke)以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。

8、在光學(xue)儀器中

人們熟悉的光學儀(yi)(yi)器有(you)望遠鏡(jing)、顯(xian)微鏡(jing)、照相機(ji)、測距儀(yi)(yi)，以及(ji)日(ri)常生活(huo)用(yong)品中的鏡(jing)子、眼鏡(jing)、放(fang)大(da)鏡(jing)等，它們都離(li)不開鍍膜(mo)技術，鍍制(zhi)的薄膜(mo)有(you)反射(she)膜(mo)、增透膜(mo)和吸收(shou)膜(mo)等幾(ji)種。

9、在(zai)信(xin)息(xi)存儲領域中

薄膜(mo)材(cai)料作為(wei)信息記錄于存(cun)(cun)儲介質，有其得天獨厚的優(you)勢：由于薄膜(mo)很薄，可以忽(hu)略渦流損耗；磁化反轉極為(wei)迅速；與膜(mo)面(mian)平行的雙穩態狀態容(rong)易保持(chi)等(deng)。為(wei)了更精(jing)密地記錄與存(cun)(cun)儲信息，必然要(yao)采用(yong)鍍(du)膜(mo)技術(shu)。

10、在傳感器方面(mian)

在傳(chuan)感(gan)器中(zhong)，多(duo)(duo)采用(yong)那些電(dian)氣(qi)性(xing)質相對于(yu)物理量(liang)(liang)、化(hua)(hua)學(xue)量(liang)(liang)及(ji)其變化(hua)(hua)來說，極(ji)為敏感(gan)的(de)半(ban)導(dao)體材(cai)料。此外，其中(zhong)，大多(duo)(duo)數利用(yong)的(de)是(shi)半(ban)導(dao)體的(de)表面、界(jie)面的(de)性(xing)質，需要盡量(liang)(liang)增大其面積，且(qie)能工(gong)業化(hua)(hua)、低價格(ge)制作(zuo)，因此，采用(yong)薄膜的(de)情況很(hen)多(duo)(duo)。

11、在(zai)集(ji)成電路(lu)制造中

晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多(duo)晶硅、鋁、銅及其合金）等，多(duo)是采(cai)用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發(fa)金屬技術、磁控(kong)濺(jian)射技術和射頻濺(jian)射技術。可見，氣相沉積是制備集成電路的核心技術之一(yi)。