真空(kong)鍍膜的方法(fa)很多,計有:
(1)真空蒸鍍:將(jiang)需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將(jiang)膜料加熱到高溫,使(shi)蒸氣(qi)達到約13.3Pa而使(shi)蒸氣(qi)分子飛到基體表(biao)面,凝結而成薄膜。
(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內,保持壓強約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便(bian)激發輝光放電,帶正電的氬離子撞(zhuang)擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰(duo)性氣氛沉積到基(ji)體上形成(cheng)膜(mo)。
(3)化學(xue)氣相沉積:通過(guo)熱分解(jie)所選(xuan)定的(de)金屬(shu)化合(he)物(wu)或有(you)機(ji)化合(he)物(wu),獲得沉積薄(bo)膜的(de)過(guo)程。
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