真空鍍(du)膜技術(shu)與(yu)濕(shi)式鍍(du)膜技術(shu)相比較，具有下列優(you)點：

(1)薄(bo)(bo)膜和基體選材廣泛，薄(bo)(bo)膜厚度(du)可(ke)進行控制(zhi)，以制(zhi)備具有各種不同(tong)功能(neng)的(de)功能(neng)性薄(bo)(bo)膜。

(2)在真空條件下制備薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)，環境清(qing)潔，薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)不易受到污染，因此(ci)可獲(huo)得(de)致密性好、純度高和(he)涂層(ceng)均勻的薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)。

(3)薄膜與基體結(jie)合(he)強度好，薄膜牢固。

(4)干式鍍(du)膜既不產生廢(fei)液，也(ye)無環境(jing)污染(ran)。

真(zhen)空(kong)鍍膜技術主要有(you)真(zhen)空(kong)蒸發鍍、真(zhen)空(kong)濺射鍍、真(zhen)空(kong)離子鍍、真(zhen)空(kong)束流沉(chen)(chen)積、化學氣相沉(chen)(chen)積等多種方法。除化學氣相沉(chen)(chen)積法外(wai)，其他幾種方法均具有(you)以下的共同特點：

(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環境，以保證制膜材(cai)料(liao)在加熱(re)蒸發或濺射(she)過程中(zhong)所形成(cheng)蒸氣分(fen)子(zi)(zi)的運(yun)動(dong)，不致受到大氣中(zhong)大量氣體分(fen)子(zi)(zi)的碰撞、阻擋和干擾，并(bing)消(xiao)除大氣中(zhong)雜質的不良影響。

(2)各種鍍(du)(du)膜(mo)技術(shu)都需要有一個蒸發源或靶(ba)子，以(yi)便把蒸發制(zhi)膜(mo)的(de)材料(liao)(liao)轉(zhuan)化(hua)成氣(qi)體。由于源或靶(ba)的(de)不斷(duan)改進(jin)，大大擴(kuo)大了制(zhi)膜(mo)材料(liao)(liao)的(de)選(xuan)用(yong)范圍，無論(lun)是金(jin)(jin)屬(shu)、金(jin)(jin)屬(shu)合金(jin)(jin)、金(jin)(jin)屬(shu)間化(hua)合物、陶瓷或有機物質，都可以(yi)蒸鍍(du)(du)各種金(jin)(jin)屬(shu)膜(mo)和介質膜(mo)，而(er)且還可以(yi)同時蒸鍍(du)(du)不同材料(liao)(liao)而(er)得到(dao)多層膜(mo)。

(3)蒸發或濺射出來(lai)的制膜(mo)材料，在與待鍍的工件生成薄膜(mo)的過程中，對(dui)其膜(mo)厚(hou)可進(jin)行比較精確(que)的測量和控制，從而保證膜(mo)厚(hou)的均勻(yun)性(xing)。

(4)每(mei)種薄膜(mo)(mo)(mo)都可(ke)以通(tong)過微(wei)調閥精(jing)確地控(kong)制(zhi)鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)室中殘余氣體(ti)的(de)成(cheng)分(fen)和質(zhi)量分(fen)數，從(cong)而(er)(er)防(fang)止蒸(zheng)鍍(du)材料的(de)氧化，把氧的(de)質(zhi)量分(fen)數降低到最小(xiao)的(de)程度，還可(ke)以充入(ru)惰性氣體(ti)等，這(zhe)對于濕式鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)而(er)(er)言是(shi)無(wu)法實現(xian)的(de)。

(5)由(you)于鍍(du)膜設備的不斷改進(jin)，鍍(du)膜過(guo)程(cheng)可以實(shi)現連(lian)續化，從而(er)大(da)大(da)地提高產品的產量，而(er)且(qie)在生產過(guo)程(cheng)中對環境(jing)無污染(ran)。

(6)由(you)于在真空(kong)條件(jian)下制膜(mo)(mo)，所以薄膜(mo)(mo)的純度(du)高、密實性好、表(biao)面光亮不需要再加工(gong)，這就使得薄膜(mo)(mo)的力學性能和(he)化(hua)學性能比電鍍膜(mo)(mo)和(he)化(hua)學膜(mo)(mo)好。

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