真(zhen)空鍍膜技術一般分為兩(liang)大類，即物(wu)理氣(qi)相(xiang)沉積(ji)（PVD）技術和化學氣(qi)相(xiang)沉積(ji)（CVD）技術。

物(wu)(wu)理(li)(li)氣(qi)相(xiang)沉(chen)積(ji)技術是指在真(zhen)空(kong)條件下，利用(yong)(yong)各種(zhong)物(wu)(wu)理(li)(li)方法(fa)，將鍍料氣(qi)化(hua)成原子(zi)(zi)、分子(zi)(zi)或(huo)使其離(li)化(hua)為(wei)離(li)子(zi)(zi)，直接(jie)沉(chen)積(ji)到基體表(biao)(biao)面上的(de)(de)(de)(de)方法(fa)。制備硬(ying)質(zhi)反應(ying)(ying)膜(mo)(mo)(mo)大(da)多以物(wu)(wu)理(li)(li)氣(qi)相(xiang)沉(chen)積(ji)方法(fa)制得，它利用(yong)(yong)某種(zhong)物(wu)(wu)理(li)(li)過程，如物(wu)(wu)質(zhi)的(de)(de)(de)(de)熱蒸發，或(huo)受到離(li)子(zi)(zi)轟(hong)擊(ji)時(shi)物(wu)(wu)質(zhi)表(biao)(biao)面原子(zi)(zi)的(de)(de)(de)(de)濺射(she)(she)等現象，實現物(wu)(wu)質(zhi)原子(zi)(zi)從源物(wu)(wu)質(zhi)到薄膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)可(ke)(ke)控轉(zhuan)移過程。物(wu)(wu)理(li)(li)氣(qi)相(xiang)沉(chen)積(ji)技術具有膜(mo)(mo)(mo)/基結合力好、薄膜(mo)(mo)(mo)均勻致密、薄膜(mo)(mo)(mo)厚度可(ke)(ke)控性(xing)好、應(ying)(ying)用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)靶材廣泛(fan)、濺射(she)(she)范(fan)圍寬、可(ke)(ke)沉(chen)積(ji)厚膜(mo)(mo)(mo)、可(ke)(ke)制取(qu)成分穩定的(de)(de)(de)(de)合金(jin)膜(mo)(mo)(mo)和(he)(he)重復性(xing)好等優點。同(tong)時(shi)，物(wu)(wu)理(li)(li)氣(qi)相(xiang)沉(chen)積(ji)技術由于(yu)其工藝處(chu)理(li)(li)溫度可(ke)(ke)控制在500℃以下，因(yin)此可(ke)(ke)作為(wei)最終(zhong)的(de)(de)(de)(de)處(chu)理(li)(li)工藝用(yong)(yong)于(yu)高(gao)速鋼(gang)和(he)(he)硬(ying)質(zhi)合金(jin)類的(de)(de)(de)(de)薄膜(mo)(mo)(mo)刀具上。由于(yu)采用(yong)(yong)物(wu)(wu)理(li)(li)氣(qi)相(xiang)沉(chen)積(ji)工藝可(ke)(ke)大(da)幅度提高(gao)刀具的(de)(de)(de)(de)切削(xue)性(xing)能(neng)，人們在競相(xiang)開發高(gao)性(xing)能(neng)、高(gao)可(ke)(ke)靠性(xing)設(she)備的(de)(de)(de)(de)同(tong)時(shi)，也對其應(ying)(ying)用(yong)(yong)領域的(de)(de)(de)(de)擴展，尤其是在高(gao)速鋼(gang)、硬(ying)質(zhi)合金(jin)和(he)(he)陶瓷類刀具中的(de)(de)(de)(de)應(ying)(ying)用(yong)(yong)進行(xing)了更加(jia)深入的(de)(de)(de)(de)研(yan)究。

化(hua)學(xue)(xue)氣(qi)(qi)相(xiang)沉積技術是把(ba)含有構成薄膜元(yuan)素的單質氣(qi)(qi)體或(huo)(huo)化(hua)合物(wu)供給基(ji)體，借助氣(qi)(qi)相(xiang)作用或(huo)(huo)基(ji)體表面上的化(hua)學(xue)(xue)反應，在基(ji)體上制出金(jin)屬(shu)或(huo)(huo)化(hua)合物(wu)薄膜的方法(fa)，主要包(bao)括常壓(ya)(ya)化(hua)學(xue)(xue)氣(qi)(qi)相(xiang)沉積、低(di)壓(ya)(ya)化(hua)學(xue)(xue)氣(qi)(qi)相(xiang)沉積和(he)兼(jian)有CVD和(he)PVD兩者特(te)點的等(deng)離子化(hua)學(xue)(xue)氣(qi)(qi)相(xiang)沉積等(deng)。 

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