真空(kong)鍍(du)膜是真空(kong)應用領域的(de)一個重要方面，它是以真空(kong)技(ji)術為(wei)基(ji)(ji)礎，利用物(wu)理或(huo)化學(xue)(xue)方法，并吸收(shou)電子束(shu)(shu)(shu)、分子束(shu)(shu)(shu)、離子束(shu)(shu)(shu)、等離子束(shu)(shu)(shu)、射(she)頻和(he)磁控(kong)等一系列(lie)新技(ji)術，為(wei)科(ke)學(xue)(xue)研(yan)究和(he)實(shi)際生(sheng)產提(ti)供薄膜制(zhi)備的(de)一種新工藝。簡單地說，在真空(kong)中(zhong)把金(jin)屬、合(he)金(jin)或(huo)化合(he)物(wu)進行蒸發或(huo)濺(jian)射(she)，使其在被(bei)涂(tu)覆的(de)物(wu)體（稱基(ji)(ji)板(ban)、基(ji)(ji)片或(huo)基(ji)(ji)體）上凝固(gu)并沉積的(de)方法，稱為(wei)真空(kong)鍍(du)膜。

眾所周知(zhi)，在某些材(cai)料的(de)(de)表面(mian)上(shang)，只要(yao)鍍(du)上(shang)一(yi)層(ceng)薄(bo)膜(mo)，就(jiu)能使材(cai)料具有(you)許多新的(de)(de)、良好的(de)(de)物(wu)理(li)和化(hua)(hua)學(xue)性能。20世紀70年代，在物(wu)體(ti)表面(mian)上(shang)鍍(du)膜(mo)的(de)(de)方法(fa)(fa)(fa)主要(yao)有(you)電(dian)(dian)(dian)鍍(du)法(fa)(fa)(fa)和化(hua)(hua)學(xue)鍍(du)法(fa)(fa)(fa)。前(qian)者是(shi)通(tong)過通(tong)電(dian)(dian)(dian)，使電(dian)(dian)(dian)解(jie)液電(dian)(dian)(dian)解(jie)，被(bei)電(dian)(dian)(dian)解(jie)的(de)(de)離子鍍(du)到作為(wei)另一(yi)個電(dian)(dian)(dian)極的(de)(de)基體(ti)表面(mian)上(shang)，因(yin)此這(zhe)種鍍(du)膜(mo)的(de)(de)條件(jian)，基體(ti)必須(xu)是(shi)電(dian)(dian)(dian)的(de)(de)良導體(ti)，而且薄(bo)膜(mo)厚度(du)也(ye)難以控制。后(hou)者是(shi)采用化(hua)(hua)學(xue)還原法(fa)(fa)(fa)，必須(xu)把膜(mo)材(cai)配(pei)制成溶液，并能迅速參加(jia)還原反應(ying)，這(zhe)種鍍(du)膜(mo)方法(fa)(fa)(fa)不僅薄(bo)膜(mo)的(de)(de)結合強(qiang)度(du)差，而且鍍(du)膜(mo)既不均勻也(ye)不易控制，同時(shi)還會(hui)產生大量的(de)(de)廢(fei)液，造成嚴重的(de)(de)污染。因(yin)此，這(zhe)兩種被(bei)人們稱之為(wei)濕式鍍(du)膜(mo)法(fa)(fa)(fa)的(de)(de)鍍(du)膜(mo)工藝受到了很(hen)大的(de)(de)限制。

真空鍍(du)膜則(ze)是相對于(yu)上述的濕式鍍(du)膜方法而發展(zhan)起來的一種新型鍍(du)膜技術，通常稱(cheng)為干式鍍(du)膜

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