真空鍍(du)膜(mo)的方法很多,計有:
(1)真空(kong)蒸(zheng)鍍:將需(xu)鍍膜(mo)的基體(ti)清(qing)洗后(hou)放(fang)到鍍膜(mo)室,抽空(kong)后(hou)將膜(mo)料(liao)加熱到高溫,使蒸(zheng)氣達到約(yue)13.3Pa而(er)使蒸(zheng)氣分子飛到基體(ti)表(biao)面(mian),凝結(jie)而(er)成薄膜(mo)。
(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內,保持壓強約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便(bian)激發輝光放電,帶正電的氬離子(zi)撞擊陰極,使其射(she)出原(yuan)子(zi),濺射(she)出的原(yuan)子(zi)通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。
(3)化學氣相沉積(ji):通過熱分解所選(xuan)定的金屬化合物(wu)或有機(ji)化合物(wu),獲得沉積(ji)薄膜的過程(cheng)。
資料整(zheng)理中(zhong)...
資料整(zheng)理中...
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