真空鍍膜(mo)技術(shu)與濕式鍍膜(mo)技術(shu)相比較，具有下列優(you)點：

(1)薄(bo)膜(mo)(mo)和(he)基體選材廣泛，薄(bo)膜(mo)(mo)厚(hou)度可進行控制，以(yi)制備具有(you)各種不(bu)同(tong)功能的功能性(xing)薄(bo)膜(mo)(mo)。

(2)在真空條(tiao)件下制備薄(bo)膜(mo)，環(huan)境清(qing)潔，薄(bo)膜(mo)不(bu)易(yi)受到(dao)污染，因(yin)此(ci)可(ke)獲得致(zhi)密性(xing)好(hao)、純(chun)度高(gao)和涂層均勻的(de)薄(bo)膜(mo)。

(3)薄膜與基(ji)體(ti)結合強度好(hao)，薄膜牢固。

(4)干式鍍膜(mo)既(ji)不產生廢(fei)液(ye)，也無環境污染。

真空(kong)鍍(du)膜技術主要有(you)真空(kong)蒸發鍍(du)、真空(kong)濺射鍍(du)、真空(kong)離子(zi)鍍(du)、真空(kong)束流沉(chen)積、化(hua)學(xue)氣(qi)(qi)相(xiang)(xiang)沉(chen)積等多種(zhong)方(fang)法(fa)。除化(hua)學(xue)氣(qi)(qi)相(xiang)(xiang)沉(chen)積法(fa)外，其他幾(ji)種(zhong)方(fang)法(fa)均具有(you)以下的(de)共(gong)同(tong)特點：

(1)各種鍍膜技術都需要一個特定(ding)的真空(kong)環(huan)境，以保證制膜材(cai)料在加熱蒸發或濺射過程中(zhong)所(suo)形成蒸氣(qi)分(fen)子的運動，不(bu)致受到大(da)氣(qi)中(zhong)大(da)量(liang)氣(qi)體分(fen)子的碰撞、阻擋和(he)干擾，并消除大(da)氣(qi)中(zhong)雜質的不(bu)良影響(xiang)。

(2)各種(zhong)鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)技術都需要有一個蒸發(fa)源或靶子，以(yi)便把蒸發(fa)制膜(mo)(mo)(mo)的(de)材料轉(zhuan)化成氣體。由于源或靶的(de)不(bu)斷改進，大(da)大(da)擴大(da)了制膜(mo)(mo)(mo)材料的(de)選用范圍，無論(lun)是金(jin)屬、金(jin)屬合金(jin)、金(jin)屬間化合物、陶瓷(ci)或有機(ji)物質，都可以(yi)蒸鍍(du)各種(zhong)金(jin)屬膜(mo)(mo)(mo)和介質膜(mo)(mo)(mo)，而(er)且還可以(yi)同(tong)時(shi)蒸鍍(du)不(bu)同(tong)材料而(er)得到多層膜(mo)(mo)(mo)。

(3)蒸發或(huo)濺射(she)出來的(de)(de)(de)制(zhi)膜材料，在與待鍍的(de)(de)(de)工件生成(cheng)薄膜的(de)(de)(de)過程中，對(dui)其膜厚(hou)可(ke)進行(xing)比(bi)較(jiao)精確的(de)(de)(de)測量和控制(zhi)，從(cong)而保證膜厚(hou)的(de)(de)(de)均勻(yun)性。

(4)每種薄膜都可(ke)以通過微(wei)調閥精確(que)地控制(zhi)鍍(du)膜室中殘余(yu)氣(qi)體的成分和質量分數，從(cong)而防止蒸鍍(du)材(cai)料(liao)的氧化，把氧的質量分數降(jiang)低到最(zui)小的程度，還可(ke)以充入惰(duo)性(xing)氣(qi)體等，這對于濕式鍍(du)膜而言是無法實現的。

(5)由于鍍膜設備(bei)的(de)不斷改進，鍍膜過程(cheng)可以實現連(lian)續化，從而(er)大(da)大(da)地提高(gao)產品(pin)的(de)產量(liang)，而(er)且在生產過程(cheng)中對環(huan)境(jing)無污染。

(6)由于在真(zhen)空條件下制(zhi)膜(mo)，所以(yi)薄膜(mo)的純度高、密實性好、表面光亮不(bu)需要再加工，這(zhe)就使(shi)得薄膜(mo)的力學(xue)性能(neng)和化學(xue)性能(neng)比電鍍膜(mo)和化學(xue)膜(mo)好。

資料整理中...

資料整理中...