真(zhen)空鍍膜技術(shu)一般(ban)分為兩大(da)類，即物理氣(qi)相(xiang)沉積（PVD）技術(shu)和化學氣(qi)相(xiang)沉積（CVD）技術(shu)。

物(wu)(wu)(wu)理(li)(li)(li)氣(qi)(qi)相(xiang)(xiang)(xiang)沉(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)技(ji)術(shu)是指在(zai)真空條件下，利用各種物(wu)(wu)(wu)理(li)(li)(li)方(fang)(fang)法，將鍍料氣(qi)(qi)化成(cheng)原子(zi)、分(fen)子(zi)或使其(qi)(qi)離化為(wei)離子(zi)，直(zhi)接沉(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)到基(ji)體表(biao)(biao)面上(shang)的(de)方(fang)(fang)法。制備(bei)硬(ying)(ying)質反(fan)應(ying)(ying)(ying)膜(mo)大多以(yi)物(wu)(wu)(wu)理(li)(li)(li)氣(qi)(qi)相(xiang)(xiang)(xiang)沉(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)方(fang)(fang)法制得，它利用某種物(wu)(wu)(wu)理(li)(li)(li)過程，如物(wu)(wu)(wu)質的(de)熱(re)蒸發(fa)，或受(shou)到離子(zi)轟(hong)擊時(shi)物(wu)(wu)(wu)質表(biao)(biao)面原子(zi)的(de)濺射(she)等(deng)現(xian)象，實現(xian)物(wu)(wu)(wu)質原子(zi)從源物(wu)(wu)(wu)質到薄(bo)膜(mo)的(de)可(ke)(ke)(ke)控(kong)轉移(yi)過程。物(wu)(wu)(wu)理(li)(li)(li)氣(qi)(qi)相(xiang)(xiang)(xiang)沉(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)技(ji)術(shu)具(ju)有膜(mo)/基(ji)結合力好、薄(bo)膜(mo)均(jun)勻致密、薄(bo)膜(mo)厚度可(ke)(ke)(ke)控(kong)性好、應(ying)(ying)(ying)用的(de)靶材(cai)廣(guang)泛、濺射(she)范圍寬、可(ke)(ke)(ke)沉(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)厚膜(mo)、可(ke)(ke)(ke)制取成(cheng)分(fen)穩定的(de)合金膜(mo)和重復(fu)性好等(deng)優點。同(tong)時(shi)，物(wu)(wu)(wu)理(li)(li)(li)氣(qi)(qi)相(xiang)(xiang)(xiang)沉(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)技(ji)術(shu)由(you)于(yu)其(qi)(qi)工藝(yi)(yi)處理(li)(li)(li)溫度可(ke)(ke)(ke)控(kong)制在(zai)500℃以(yi)下，因此可(ke)(ke)(ke)作(zuo)為(wei)最(zui)終的(de)處理(li)(li)(li)工藝(yi)(yi)用于(yu)高(gao)(gao)(gao)速(su)(su)鋼和硬(ying)(ying)質合金類(lei)的(de)薄(bo)膜(mo)刀(dao)具(ju)上(shang)。由(you)于(yu)采用物(wu)(wu)(wu)理(li)(li)(li)氣(qi)(qi)相(xiang)(xiang)(xiang)沉(chen)(chen)積(ji)(ji)(ji)工藝(yi)(yi)可(ke)(ke)(ke)大幅(fu)度提高(gao)(gao)(gao)刀(dao)具(ju)的(de)切(qie)削性能，人們在(zai)競相(xiang)(xiang)(xiang)開發(fa)高(gao)(gao)(gao)性能、高(gao)(gao)(gao)可(ke)(ke)(ke)靠性設備(bei)的(de)同(tong)時(shi)，也對(dui)其(qi)(qi)應(ying)(ying)(ying)用領域的(de)擴展，尤其(qi)(qi)是在(zai)高(gao)(gao)(gao)速(su)(su)鋼、硬(ying)(ying)質合金和陶瓷類(lei)刀(dao)具(ju)中的(de)應(ying)(ying)(ying)用進行了(le)更加深入的(de)研究。

化(hua)(hua)學(xue)氣(qi)相沉(chen)(chen)積(ji)技(ji)術是把(ba)含有(you)構成薄(bo)膜元素(su)的(de)單質氣(qi)體或化(hua)(hua)合(he)物(wu)供給(gei)基體，借助(zhu)氣(qi)相作用或基體表面上(shang)(shang)的(de)化(hua)(hua)學(xue)反(fan)應，在基體上(shang)(shang)制出(chu)金屬或化(hua)(hua)合(he)物(wu)薄(bo)膜的(de)方法，主要包括常(chang)壓化(hua)(hua)學(xue)氣(qi)相沉(chen)(chen)積(ji)、低壓化(hua)(hua)學(xue)氣(qi)相沉(chen)(chen)積(ji)和兼有(you)CVD和PVD兩(liang)者特點(dian)的(de)等離子化(hua)(hua)學(xue)氣(qi)相沉(chen)(chen)積(ji)等。 

資料整理中...

資(zi)料(liao)整(zheng)理(li)中...