真空鍍(du)膜(mo)(mo)技術與濕式鍍(du)膜(mo)(mo)技術相比較，具(ju)有下列優(you)點：

(1)薄膜和基(ji)體選材廣泛，薄膜厚度可進行控(kong)制，以制備具有各種不(bu)同(tong)功能(neng)的(de)功能(neng)性(xing)薄膜。

(2)在真空條(tiao)件下制備(bei)薄(bo)膜(mo)，環境(jing)清(qing)潔，薄(bo)膜(mo)不易受到(dao)污(wu)染，因此(ci)可獲得致(zhi)密性好、純度(du)高和涂層均勻的薄(bo)膜(mo)。

(3)薄膜與(yu)基體(ti)結合強度好，薄膜牢(lao)固。

(4)干(gan)式鍍膜既不產(chan)生(sheng)廢液，也無環境污(wu)染。

真(zhen)空(kong)(kong)鍍(du)膜技術主要有(you)真(zhen)空(kong)(kong)蒸發鍍(du)、真(zhen)空(kong)(kong)濺射鍍(du)、真(zhen)空(kong)(kong)離子鍍(du)、真(zhen)空(kong)(kong)束(shu)流沉(chen)積(ji)、化(hua)學氣(qi)相沉(chen)積(ji)等多種(zhong)(zhong)方法。除化(hua)學氣(qi)相沉(chen)積(ji)法外，其他幾種(zhong)(zhong)方法均具(ju)有(you)以下的共同(tong)特點：

(1)各(ge)種鍍膜(mo)(mo)技(ji)術都需要一個特定的(de)真空環境(jing)，以(yi)保證制膜(mo)(mo)材料(liao)在加熱蒸發或(huo)濺射過程中(zhong)所(suo)形成蒸氣分子的(de)運動，不(bu)致受到(dao)大(da)(da)氣中(zhong)大(da)(da)量氣體分子的(de)碰撞(zhuang)、阻擋(dang)和干擾，并消除大(da)(da)氣中(zhong)雜(za)質的(de)不(bu)良影(ying)響。

(2)各(ge)種鍍(du)(du)膜(mo)技術都(dou)需要有一個(ge)蒸(zheng)(zheng)發源或靶(ba)(ba)子，以(yi)(yi)便(bian)把蒸(zheng)(zheng)發制膜(mo)的材料(liao)(liao)轉化成氣(qi)體。由(you)于(yu)源或靶(ba)(ba)的不斷改進，大大擴大了(le)制膜(mo)材料(liao)(liao)的選用范(fan)圍，無(wu)論是金屬(shu)、金屬(shu)合金、金屬(shu)間化合物(wu)、陶(tao)瓷或有機物(wu)質，都(dou)可以(yi)(yi)蒸(zheng)(zheng)鍍(du)(du)各(ge)種金屬(shu)膜(mo)和(he)介質膜(mo)，而(er)(er)且還可以(yi)(yi)同時蒸(zheng)(zheng)鍍(du)(du)不同材料(liao)(liao)而(er)(er)得到多層膜(mo)。

(3)蒸發或(huo)濺射出(chu)來(lai)的制(zhi)膜材料，在(zai)與待鍍的工(gong)件生成薄(bo)膜的過程中(zhong)，對其膜厚可進行比較精(jing)確(que)的測量和控制(zhi)，從(cong)而保證膜厚的均勻(yun)性。

(4)每(mei)種薄膜(mo)都(dou)可(ke)以通過微調(diao)閥精確地(di)控制鍍(du)膜(mo)室中殘(can)余氣(qi)體(ti)的成分和(he)質(zhi)量(liang)分數，從(cong)而(er)防止(zhi)蒸鍍(du)材料的氧化，把氧的質(zhi)量(liang)分數降低(di)到最小的程(cheng)度，還可(ke)以充入惰性氣(qi)體(ti)等，這對于濕式鍍(du)膜(mo)而(er)言是無法實現的。

(5)由于鍍膜(mo)設備(bei)的(de)不斷改進，鍍膜(mo)過(guo)程可(ke)以實現連續化，從而(er)大大地提高產(chan)品的(de)產(chan)量，而(er)且在生(sheng)產(chan)過(guo)程中對(dui)環境無污染(ran)。

(6)由于(yu)在真空條件下制膜(mo)(mo)，所以薄(bo)膜(mo)(mo)的純度高、密實(shi)性好、表(biao)面(mian)光亮不需要再加工，這就使得(de)薄(bo)膜(mo)(mo)的力(li)學(xue)性能和(he)化學(xue)性能比電鍍膜(mo)(mo)和(he)化學(xue)膜(mo)(mo)好。

資料整(zheng)理中...

資(zi)料整(zheng)理中(zhong)...