真空鍍膜技術一般分(fen)為(wei)兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術和化學(xue)氣相沉積（CVD）技術。

物理(li)(li)(li)氣(qi)(qi)(qi)相(xiang)(xiang)沉(chen)積(ji)(ji)技術是(shi)指在(zai)真空(kong)條件下，利用(yong)(yong)各種物理(li)(li)(li)方(fang)法(fa)，將(jiang)鍍料氣(qi)(qi)(qi)化(hua)(hua)成原(yuan)(yuan)子(zi)、分子(zi)或(huo)使(shi)其(qi)離化(hua)(hua)為離子(zi)，直接沉(chen)積(ji)(ji)到(dao)(dao)基體表(biao)面上的(de)(de)(de)方(fang)法(fa)。制備硬質反應(ying)膜(mo)大(da)多以物理(li)(li)(li)氣(qi)(qi)(qi)相(xiang)(xiang)沉(chen)積(ji)(ji)方(fang)法(fa)制得，它(ta)利用(yong)(yong)某種物理(li)(li)(li)過程(cheng)，如物質的(de)(de)(de)熱蒸(zheng)發，或(huo)受到(dao)(dao)離子(zi)轟擊時(shi)物質表(biao)面原(yuan)(yuan)子(zi)的(de)(de)(de)濺(jian)射等現象，實現物質原(yuan)(yuan)子(zi)從源物質到(dao)(dao)薄(bo)膜(mo)的(de)(de)(de)可(ke)(ke)(ke)控(kong)轉移過程(cheng)。物理(li)(li)(li)氣(qi)(qi)(qi)相(xiang)(xiang)沉(chen)積(ji)(ji)技術具(ju)(ju)有膜(mo)/基結合(he)(he)力好、薄(bo)膜(mo)均(jun)勻致密、薄(bo)膜(mo)厚度可(ke)(ke)(ke)控(kong)性(xing)好、應(ying)用(yong)(yong)的(de)(de)(de)靶材廣泛、濺(jian)射范圍(wei)寬、可(ke)(ke)(ke)沉(chen)積(ji)(ji)厚膜(mo)、可(ke)(ke)(ke)制取成分穩定的(de)(de)(de)合(he)(he)金膜(mo)和重(zhong)復(fu)性(xing)好等優點。同時(shi)，物理(li)(li)(li)氣(qi)(qi)(qi)相(xiang)(xiang)沉(chen)積(ji)(ji)技術由(you)于其(qi)工藝處理(li)(li)(li)溫(wen)度可(ke)(ke)(ke)控(kong)制在(zai)500℃以下，因此可(ke)(ke)(ke)作為最終(zhong)的(de)(de)(de)處理(li)(li)(li)工藝用(yong)(yong)于高速鋼和硬質合(he)(he)金類(lei)的(de)(de)(de)薄(bo)膜(mo)刀具(ju)(ju)上。由(you)于采用(yong)(yong)物理(li)(li)(li)氣(qi)(qi)(qi)相(xiang)(xiang)沉(chen)積(ji)(ji)工藝可(ke)(ke)(ke)大(da)幅(fu)度提高刀具(ju)(ju)的(de)(de)(de)切(qie)削(xue)性(xing)能(neng)，人們在(zai)競相(xiang)(xiang)開發高性(xing)能(neng)、高可(ke)(ke)(ke)靠性(xing)設備的(de)(de)(de)同時(shi)，也對其(qi)應(ying)用(yong)(yong)領域的(de)(de)(de)擴展，尤其(qi)是(shi)在(zai)高速鋼、硬質合(he)(he)金和陶瓷類(lei)刀具(ju)(ju)中(zhong)的(de)(de)(de)應(ying)用(yong)(yong)進行了更加深入的(de)(de)(de)研究。

化(hua)(hua)(hua)學(xue)氣(qi)相(xiang)沉(chen)積(ji)(ji)(ji)技術是把含有(you)構成薄膜元素的單(dan)質(zhi)氣(qi)體或化(hua)(hua)(hua)合物(wu)供給基(ji)體，借助氣(qi)相(xiang)作用或基(ji)體表面(mian)上(shang)(shang)的化(hua)(hua)(hua)學(xue)反應，在基(ji)體上(shang)(shang)制出(chu)金屬或化(hua)(hua)(hua)合物(wu)薄膜的方(fang)法，主要包(bao)括常壓(ya)化(hua)(hua)(hua)學(xue)氣(qi)相(xiang)沉(chen)積(ji)(ji)(ji)、低(di)壓(ya)化(hua)(hua)(hua)學(xue)氣(qi)相(xiang)沉(chen)積(ji)(ji)(ji)和兼有(you)CVD和PVD兩(liang)者特(te)點的等(deng)離子(zi)化(hua)(hua)(hua)學(xue)氣(qi)相(xiang)沉(chen)積(ji)(ji)(ji)等(deng)。 

資料(liao)整理(li)中...

資(zi)料整理中...