真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較，具有下列優點：

(1)薄膜(mo)(mo)(mo)和基體選材(cai)廣(guang)泛，薄膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)度可進行控制，以制備具有各(ge)種(zhong)不同功能的(de)功能性薄膜(mo)(mo)(mo)。

(2)在真空條件下制(zhi)備薄膜(mo)，環境清潔，薄膜(mo)不易受到污染，因此可(ke)獲得致密性(xing)好、純度高(gao)和(he)涂層(ceng)均(jun)勻的薄膜(mo)。

(3)薄膜(mo)(mo)與基(ji)體結(jie)合強度好，薄膜(mo)(mo)牢固。

(4)干式鍍膜既不產生(sheng)廢液，也(ye)無(wu)環境(jing)污染。

真(zhen)空鍍(du)膜(mo)技(ji)術(shu)主要有真(zhen)空蒸發(fa)鍍(du)、真(zhen)空濺射鍍(du)、真(zhen)空離子(zi)鍍(du)、真(zhen)空束流沉(chen)積(ji)(ji)、化學氣相沉(chen)積(ji)(ji)等多種方法。除(chu)化學氣相沉(chen)積(ji)(ji)法外，其(qi)他(ta)幾種方法均具有以下的共(gong)同特點：

(1)各種鍍膜(mo)技術(shu)都需(xu)要(yao)一個特定(ding)的(de)(de)(de)真空環境(jing)，以保證制膜(mo)材料在加熱蒸發或濺射(she)過程(cheng)中所(suo)形成蒸氣(qi)(qi)分子的(de)(de)(de)運(yun)動，不致(zhi)受到大氣(qi)(qi)中大量氣(qi)(qi)體分子的(de)(de)(de)碰(peng)撞(zhuang)、阻擋和干(gan)擾(rao)，并(bing)消除大氣(qi)(qi)中雜質的(de)(de)(de)不良影響。

(2)各(ge)種鍍膜(mo)技術(shu)都需要有(you)一個蒸(zheng)發源(yuan)或靶子，以(yi)便把(ba)蒸(zheng)發制(zhi)膜(mo)的(de)(de)(de)材料轉化(hua)(hua)成氣體。由(you)于源(yuan)或靶的(de)(de)(de)不斷改(gai)進，大大擴大了制(zhi)膜(mo)材料的(de)(de)(de)選用范圍(wei)，無(wu)論是金屬、金屬合金、金屬間化(hua)(hua)合物(wu)、陶瓷或有(you)機物(wu)質(zhi)，都可以(yi)蒸(zheng)鍍各(ge)種金屬膜(mo)和介質(zhi)膜(mo)，而(er)且還可以(yi)同(tong)時蒸(zheng)鍍不同(tong)材料而(er)得到多層膜(mo)。

(3)蒸發或濺(jian)射出來的制膜(mo)材(cai)料(liao)，在與待鍍的工件生成薄膜(mo)的過(guo)程中(zhong)，對其膜(mo)厚可進(jin)行(xing)比較精確的測量和控(kong)制，從而(er)保證膜(mo)厚的均勻(yun)性。

(4)每種薄膜都可以通過微(wei)調閥精確地控制鍍(du)膜室中殘余氣(qi)體的成(cheng)分(fen)和質(zhi)量分(fen)數，從而(er)防止蒸鍍(du)材料的氧化，把氧的質(zhi)量分(fen)數降低到(dao)最小的程度，還可以充入惰性氣(qi)體等，這對于濕式鍍(du)膜而(er)言是無法實現的。

(5)由于鍍膜設備的(de)不斷改進，鍍膜過(guo)程(cheng)可(ke)以實現連續化，從而大大地(di)提高產(chan)(chan)品的(de)產(chan)(chan)量，而且在生產(chan)(chan)過(guo)程(cheng)中對環境無(wu)污染。

(6)由于在真空條件下制(zhi)膜(mo)(mo)，所以薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)純度高、密實(shi)性好、表面光亮(liang)不(bu)需要再加工，這就(jiu)使得薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)力學性能和化學性能比電鍍膜(mo)(mo)和化學膜(mo)(mo)好。

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