真空鍍(du)膜技術一般分為兩大(da)類，即(ji)物理氣相(xiang)(xiang)沉積（PVD）技術和化學(xue)氣相(xiang)(xiang)沉積（CVD）技術。

物(wu)理(li)(li)氣相(xiang)(xiang)沉積技術是指在真(zhen)空條件下(xia)，利用(yong)(yong)各(ge)種(zhong)物(wu)理(li)(li)方法，將鍍料氣化成(cheng)原(yuan)子(zi)(zi)、分子(zi)(zi)或使其離(li)(li)化為離(li)(li)子(zi)(zi)，直(zhi)接沉積到(dao)基體表(biao)面上的(de)方法。制備(bei)硬(ying)(ying)質(zhi)(zhi)反應(ying)膜(mo)(mo)大(da)多以物(wu)理(li)(li)氣相(xiang)(xiang)沉積方法制得，它利用(yong)(yong)某種(zhong)物(wu)理(li)(li)過(guo)程，如物(wu)質(zhi)(zhi)的(de)熱蒸(zheng)發(fa)，或受到(dao)離(li)(li)子(zi)(zi)轟擊時物(wu)質(zhi)(zhi)表(biao)面原(yuan)子(zi)(zi)的(de)濺(jian)射等現(xian)象，實現(xian)物(wu)質(zhi)(zhi)原(yuan)子(zi)(zi)從(cong)源(yuan)物(wu)質(zhi)(zhi)到(dao)薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)可控(kong)轉移過(guo)程。物(wu)理(li)(li)氣相(xiang)(xiang)沉積技術具(ju)(ju)(ju)有(you)膜(mo)(mo)/基結合(he)(he)力好(hao)、薄(bo)膜(mo)(mo)均勻致密、薄(bo)膜(mo)(mo)厚度可控(kong)性(xing)好(hao)、應(ying)用(yong)(yong)的(de)靶材廣泛、濺(jian)射范圍寬、可沉積厚膜(mo)(mo)、可制取成(cheng)分穩定(ding)的(de)合(he)(he)金膜(mo)(mo)和(he)重復性(xing)好(hao)等優點。同時，物(wu)理(li)(li)氣相(xiang)(xiang)沉積技術由于其工藝(yi)處(chu)理(li)(li)溫度可控(kong)制在500℃以下(xia)，因此可作為最終的(de)處(chu)理(li)(li)工藝(yi)用(yong)(yong)于高(gao)速鋼和(he)硬(ying)(ying)質(zhi)(zhi)合(he)(he)金類(lei)的(de)薄(bo)膜(mo)(mo)刀(dao)(dao)具(ju)(ju)(ju)上。由于采(cai)用(yong)(yong)物(wu)理(li)(li)氣相(xiang)(xiang)沉積工藝(yi)可大(da)幅(fu)度提高(gao)刀(dao)(dao)具(ju)(ju)(ju)的(de)切削性(xing)能(neng)，人(ren)們在競(jing)相(xiang)(xiang)開(kai)發(fa)高(gao)性(xing)能(neng)、高(gao)可靠性(xing)設備(bei)的(de)同時，也對其應(ying)用(yong)(yong)領域的(de)擴展，尤(you)其是在高(gao)速鋼、硬(ying)(ying)質(zhi)(zhi)合(he)(he)金和(he)陶瓷(ci)類(lei)刀(dao)(dao)具(ju)(ju)(ju)中的(de)應(ying)用(yong)(yong)進行(xing)了更加深入(ru)的(de)研究。

化(hua)學(xue)(xue)氣(qi)(qi)相沉(chen)積(ji)技(ji)術是把含有(you)(you)構成薄膜(mo)元素的(de)單質氣(qi)(qi)體或(huo)(huo)化(hua)合物(wu)供給(gei)基體，借助氣(qi)(qi)相作用或(huo)(huo)基體表面上的(de)化(hua)學(xue)(xue)反應(ying)，在(zai)基體上制出金屬(shu)或(huo)(huo)化(hua)合物(wu)薄膜(mo)的(de)方(fang)法，主要包(bao)括常壓化(hua)學(xue)(xue)氣(qi)(qi)相沉(chen)積(ji)、低壓化(hua)學(xue)(xue)氣(qi)(qi)相沉(chen)積(ji)和兼(jian)有(you)(you)CVD和PVD兩(liang)者特點的(de)等離子化(hua)學(xue)(xue)氣(qi)(qi)相沉(chen)積(ji)等。 

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