真空鍍(du)膜(mo)技術(shu)與濕式鍍(du)膜(mo)技術(shu)相比(bi)較，具有下列(lie)優(you)點：

(1)薄膜(mo)和基體(ti)選材廣泛，薄膜(mo)厚度可進行控(kong)制，以制備具(ju)有各種(zhong)不同功(gong)能的功(gong)能性薄膜(mo)。

(2)在真空條件(jian)下制備薄(bo)膜，環境清潔，薄(bo)膜不(bu)易受到(dao)污染，因此可(ke)獲得致密性(xing)好、純度高和涂層均勻的薄(bo)膜。

(3)薄膜(mo)與基(ji)體結合(he)強(qiang)度好，薄膜(mo)牢固。

(4)干(gan)式鍍膜既不(bu)產(chan)生(sheng)廢液，也無環境污染(ran)。

真空(kong)鍍(du)膜技術主要有(you)真空(kong)蒸發鍍(du)、真空(kong)濺(jian)射(she)鍍(du)、真空(kong)離子鍍(du)、真空(kong)束流沉(chen)積、化(hua)學(xue)氣(qi)相沉(chen)積等多種方(fang)法(fa)。除化(hua)學(xue)氣(qi)相沉(chen)積法(fa)外，其他(ta)幾種方(fang)法(fa)均(jun)具有(you)以下的共同特點：

(1)各種鍍膜技術都需要(yao)一(yi)個特定的真空(kong)環境，以保證制膜材料在加熱(re)蒸發或濺射過程中(zhong)(zhong)所(suo)形成蒸氣(qi)分(fen)子的運動(dong)，不致(zhi)受(shou)到大(da)氣(qi)中(zhong)(zhong)大(da)量(liang)氣(qi)體分(fen)子的碰撞、阻(zu)擋(dang)和(he)干(gan)擾(rao)，并消(xiao)除大(da)氣(qi)中(zhong)(zhong)雜質的不良(liang)影響。

(2)各種鍍(du)膜(mo)技(ji)術都需要有一個蒸發(fa)源或靶(ba)子，以(yi)便把蒸發(fa)制(zhi)膜(mo)的材料轉化成(cheng)氣體。由于源或靶(ba)的不斷(duan)改進，大(da)大(da)擴大(da)了(le)制(zhi)膜(mo)材料的選用范圍，無論是金(jin)(jin)屬(shu)、金(jin)(jin)屬(shu)合金(jin)(jin)、金(jin)(jin)屬(shu)間化合物、陶瓷或有機物質，都可以(yi)蒸鍍(du)各種金(jin)(jin)屬(shu)膜(mo)和介質膜(mo)，而且還可以(yi)同(tong)時蒸鍍(du)不同(tong)材料而得(de)到多(duo)層膜(mo)。

(3)蒸發(fa)或濺射(she)出來的(de)制膜材料，在與待鍍的(de)工件生成薄(bo)膜的(de)過程中，對其膜厚可進行比較精確的(de)測量(liang)和控制，從而保證膜厚的(de)均(jun)勻性。

(4)每種薄膜(mo)(mo)都可(ke)以通過(guo)微調閥精確地控制鍍(du)膜(mo)(mo)室中殘余氣(qi)(qi)體的(de)成分和(he)質(zhi)(zhi)量(liang)分數，從而防(fang)止蒸鍍(du)材料的(de)氧化，把氧的(de)質(zhi)(zhi)量(liang)分數降低到最小(xiao)的(de)程(cheng)度，還可(ke)以充入(ru)惰性氣(qi)(qi)體等，這(zhe)對于濕式(shi)鍍(du)膜(mo)(mo)而言是無法實現的(de)。

(5)由于鍍膜(mo)設備的不斷改進，鍍膜(mo)過程可以(yi)實現(xian)連(lian)續化，從而大大地(di)提高產品(pin)的產量，而且在生產過程中對環境無(wu)污染。

(6)由于在(zai)真空(kong)條件下制(zhi)膜(mo)(mo)，所(suo)以薄膜(mo)(mo)的(de)純(chun)度高、密(mi)實性好(hao)、表面光亮不需(xu)要(yao)再加工，這就使得(de)薄膜(mo)(mo)的(de)力學性能和(he)化學性能比(bi)電(dian)鍍(du)膜(mo)(mo)和(he)化學膜(mo)(mo)好(hao)。

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