真空鍍膜技術與濕式(shi)鍍膜技術相比較，具有下列優點：

(1)薄膜(mo)和基體選材廣泛，薄膜(mo)厚度可進行控(kong)制(zhi)，以(yi)制(zhi)備具(ju)有各(ge)種不同功能(neng)的功能(neng)性(xing)薄膜(mo)。

(2)在真(zhen)空條件下制備薄膜(mo)，環境清潔(jie)，薄膜(mo)不易受到污染，因此可獲得(de)致密性(xing)好、純度高和涂(tu)層均勻(yun)的薄膜(mo)。

(3)薄膜與基體結合強度(du)好，薄膜牢固。

(4)干式鍍(du)膜既不產生廢(fei)液，也無環境污染。

真(zhen)空(kong)(kong)鍍膜技(ji)術主要有真(zhen)空(kong)(kong)蒸發(fa)鍍、真(zhen)空(kong)(kong)濺射鍍、真(zhen)空(kong)(kong)離子鍍、真(zhen)空(kong)(kong)束流沉(chen)(chen)積、化(hua)學(xue)氣相(xiang)沉(chen)(chen)積等多種(zhong)方法。除(chu)化(hua)學(xue)氣相(xiang)沉(chen)(chen)積法外，其他幾種(zhong)方法均具(ju)有以下的共同特點：

(1)各種(zhong)鍍膜技術都(dou)需要一個特定的真空(kong)環境，以保證制(zhi)膜材料(liao)在(zai)加熱蒸(zheng)發(fa)或濺射過程中所形成蒸(zheng)氣(qi)(qi)分子的運動，不(bu)致受到大(da)(da)(da)氣(qi)(qi)中大(da)(da)(da)量(liang)氣(qi)(qi)體(ti)分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大(da)(da)(da)氣(qi)(qi)中雜質(zhi)的不(bu)良影響。

(2)各(ge)種鍍(du)(du)膜技術都需要(yao)有(you)一個蒸(zheng)(zheng)發(fa)源(yuan)或靶子，以便把蒸(zheng)(zheng)發(fa)制(zhi)(zhi)膜的材料(liao)(liao)轉(zhuan)化(hua)成氣體。由于源(yuan)或靶的不(bu)斷改(gai)進，大(da)大(da)擴大(da)了制(zhi)(zhi)膜材料(liao)(liao)的選(xuan)用范圍(wei)，無論(lun)是金(jin)屬(shu)(shu)、金(jin)屬(shu)(shu)合金(jin)、金(jin)屬(shu)(shu)間化(hua)合物、陶(tao)瓷或有(you)機物質(zhi)，都可以蒸(zheng)(zheng)鍍(du)(du)各(ge)種金(jin)屬(shu)(shu)膜和介質(zhi)膜，而且還可以同(tong)時蒸(zheng)(zheng)鍍(du)(du)不(bu)同(tong)材料(liao)(liao)而得到多層膜。

(3)蒸發(fa)或濺射(she)出來的制膜(mo)材(cai)料，在(zai)與待鍍(du)的工件(jian)生成(cheng)薄膜(mo)的過程中，對(dui)其膜(mo)厚可進行比較精確的測量(liang)和(he)控制，從(cong)而保證膜(mo)厚的均勻性。

(4)每種(zhong)薄膜(mo)都可(ke)以通過(guo)微(wei)調(diao)閥精確(que)地(di)控制鍍(du)膜(mo)室中殘余氣體的成分和質(zhi)量分數(shu)(shu)，從而防止(zhi)蒸鍍(du)材料的氧化，把氧的質(zhi)量分數(shu)(shu)降低到最小的程(cheng)度，還可(ke)以充入惰(duo)性氣體等(deng)，這(zhe)對于濕式(shi)鍍(du)膜(mo)而言是(shi)無法(fa)實現的。

(5)由于鍍膜(mo)(mo)設備的不斷改進，鍍膜(mo)(mo)過程可以實現連(lian)續(xu)化，從而大大地(di)提高產品的產量，而且(qie)在生產過程中對(dui)環(huan)境(jing)無污(wu)染。

(6)由于(yu)在真空條件(jian)下制膜(mo)，所以薄(bo)膜(mo)的純(chun)度高、密實性好、表面(mian)光亮不需(xu)要(yao)再(zai)加工(gong)，這就使得(de)薄(bo)膜(mo)的力學(xue)性能(neng)和化學(xue)性能(neng)比電鍍膜(mo)和化學(xue)膜(mo)好。

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